專利名稱：圓盤(pán)磨的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種研磨加工鐵粉的機(jī)械。
背景技術(shù)：
在現(xiàn)實(shí)的選礦加工生產(chǎn)中，球磨機(jī)被廣泛使用，然而，球磨加 工對(duì)有些礦料需要反復(fù)進(jìn)行多次，這主要表現(xiàn)在球磨篩上的返沙必需二次返回 球磨機(jī)再次研磨，否則這部分礦料就不能直接利用，從而降低礦體的產(chǎn)率。可 是，返沙重回球磨機(jī)必定占據(jù)空間，因此這又直接影響到球磨機(jī)的吃料量，進(jìn) 而降低球磨機(jī)產(chǎn)量
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的任務(wù)是針對(duì)上述問(wèn)題，提供一種圓盤(pán)磨，它可以用來(lái)加工 返沙，有了它，不僅可以保障礦體的產(chǎn)率，而且還可以提高球磨機(jī)的產(chǎn)量。其 技術(shù)解決方案是 一種圓盤(pán)磨，包括上下兩個(gè)磨盤(pán)，其特征在于電機(jī)驅(qū)動(dòng)軸 通過(guò)上下兩個(gè)磨盤(pán)的中心，并通過(guò)軸承連接在機(jī)架上，其中下磨盤(pán)固定在機(jī)架 上，上磨盤(pán)固定在驅(qū)動(dòng)軸上，上磨盤(pán)設(shè)有落料孔，其下面凹陷并設(shè)有研磨槽， 下磨盤(pán)上面設(shè)有研磨槽。其中，所說(shuō)的落料孔圍繞磨盤(pán)中心呈》丈射性分布；所 說(shuō)的位于上磨盤(pán)下面的研磨槽沿各個(gè)經(jīng)向上的落料孔斜向同一個(gè)方向；所說(shuō)的 下磨盤(pán)上面的研磨槽與上磨盤(pán)翻置時(shí)其下面的研磨槽同方向同角度對(duì)應(yīng)設(shè)置； 此外，在上磨盤(pán)上設(shè)有內(nèi)擋料板和外擋料板。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)主要在于它可以用來(lái)加工球磨機(jī)過(guò) 篩后下來(lái)的返沙，其加工的粒度大小，由該磨的落料孔徑和生產(chǎn)能力來(lái)決定， 一般最大孔徑不超過(guò)40mm。有了它， 一般說(shuō)來(lái)，返沙無(wú)需返回球磨機(jī)再次研磨， 這樣就可以增加球磨機(jī)的吃料量，從而提高球磨機(jī)的產(chǎn)量。而且用該磨研磨返 沙，同樣可以收到再次經(jīng)過(guò)球磨的技術(shù)效果，甚至比再次球磨的效果還好，因
此它又可以保障甚至提高礦體的產(chǎn)率。此外，該磨結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，制造容易，使用 及維護(hù)都很方便。


圖l是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2是上磨盤(pán)的上平面示意圖。
圖3是上磨盤(pán)的下平面示意圖。
圖4是下磨盤(pán)的上平面示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖1所示，本實(shí)用新型提供的一種圓盤(pán)磨，包括上下兩個(gè)磨盤(pán)，其特征在于電機(jī)驅(qū)動(dòng)軸1通過(guò)上下兩個(gè)磨盤(pán)的中心，并通過(guò)軸承2連接在機(jī)架3上， 其中下磨盤(pán)4固定在機(jī)架3上，上磨盤(pán)5固定在驅(qū)動(dòng)軸1上，上磨盤(pán)5設(shè)有落 料孔7,其下面凹陷并設(shè)有研磨槽9，下磨盤(pán)4上面設(shè)有研磨槽10 。如圖2所 示，這里所說(shuō)的落料孔7圍繞磨盤(pán)中心呈放射性均勻分布。如圖3所示，所說(shuō) 的位于上磨盤(pán)5下面的研磨槽9沿各個(gè)經(jīng)向上的落料孔7斜向同一個(gè)方向。如 圖4所示，所說(shuō)的下磨盤(pán)4上面的研磨槽10與上磨盤(pán)5翻置時(shí)其下面的研磨槽 9同方向同角度對(duì)應(yīng)設(shè)置。這樣，也就是當(dāng)將上磨盤(pán)翻置時(shí)，觀看兩個(gè)磨盤(pán)，它 們的研磨槽是相同的；而當(dāng)將上磨盤(pán)扣置在下磨盤(pán)上時(shí)，亦即該磨處于工作狀 態(tài)時(shí)，兩個(gè)磨盤(pán)的研磨槽是相交的。只有這樣當(dāng)其處于相對(duì)運(yùn)動(dòng)時(shí)，才會(huì)產(chǎn)生 好的研磨效果。此外，為了保障礦料不外溢，在上磨盤(pán)5上分別設(shè)有內(nèi)擋料板8 和外擋料板6。本實(shí)用新型除了加工返沙外，還可以用來(lái)直接加工力度較小的礦 石。
權(quán)利要求1、一種圓盤(pán)磨，包括上下兩個(gè)磨盤(pán)，其特征在于電機(jī)驅(qū)動(dòng)軸(1)通過(guò)上下兩個(gè)磨盤(pán)的中心，并通過(guò)軸承(2)連接在機(jī)架(3)上，其中下磨盤(pán)(4)固定在機(jī)架(3)上，上磨盤(pán)(5)固定在驅(qū)動(dòng)軸(1)上，上磨盤(pán)(5)設(shè)有落料孔(7)，其下面凹陷并設(shè)有研磨槽(9)，下磨盤(pán)(4)上面設(shè)有研磨槽(10)。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1的圓盤(pán)磨，其特征在于所說(shuō)的落料孔(7)圍繞磨盤(pán) 中心呈放射性分布。
3、 才艮據(jù)權(quán)利要求1或2的圓盤(pán)磨，其特征在于所說(shuō)的位于上磨盤(pán)(5) 下面的研磨槽(9)沿各個(gè)經(jīng)向上的落料孔(7)斜向同一個(gè)方向。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1或2的圓盤(pán)磨，其特征在于所說(shuō)的下磨盤(pán)(4)上面 的研磨槽(10)與上磨盤(pán)(5)翻置時(shí)其下面的研磨槽(9)同方向同角度對(duì)應(yīng) 設(shè)置。
5、 根據(jù)權(quán)利要求1或2的圓盤(pán)磨，其特征在于在上磨盤(pán)(5)上設(shè)有內(nèi) 擋料板(8 )和外擋料板(6 )。
專利摘要一種圓盤(pán)磨，為解決現(xiàn)有球磨篩上返沙必需二次返回球磨機(jī)再次研磨問(wèn)題而設(shè)計(jì)。它包括上下兩個(gè)磨盤(pán)，其特征在于電機(jī)驅(qū)動(dòng)軸通過(guò)上下兩個(gè)磨盤(pán)的中心，并通過(guò)軸承連接在機(jī)架上，其中下磨盤(pán)固定在機(jī)架上，上磨盤(pán)固定在驅(qū)動(dòng)軸上，上磨盤(pán)設(shè)有落料孔，其下面凹陷并設(shè)有研磨槽，下磨盤(pán)上面設(shè)有研磨槽10。其落料孔7圍繞磨盤(pán)中心呈放射性分布；其上磨盤(pán)下面的研磨槽沿各個(gè)經(jīng)向上的落料孔斜向同一個(gè)方向；其下磨盤(pán)上面的研磨槽與上磨盤(pán)翻置時(shí)其下面的研磨槽同方向同角度對(duì)應(yīng)設(shè)置。此外，在上磨盤(pán)上還設(shè)有內(nèi)、外擋料板。它可以用來(lái)加工返沙，從而，不僅可以保障礦體的產(chǎn)率，而且還可以提高球磨機(jī)的產(chǎn)量。它還可以用來(lái)直接加工粒度較小的礦石。
文檔編號(hào)B02C7/08GK201073603SQ200720101740
公開(kāi)日2008年6月18日 申請(qǐng)日期2007年6月22日 優(yōu)先權(quán)日2007年6月22日
發(fā)明者郭寶東 申請(qǐng)人:郭寶東