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草莓育苗裝置的制作方法

文檔序號(hào):363132閱讀:504來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:草莓育苗裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及植物栽培技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種草莓育苗裝置。
背景技術(shù)
草莓為縮根性多年生常綠草本植物,園藝學(xué)上將其歸為漿果類。草莓漿果不僅 色澤艷麗、味道鮮美,而且含有豐富的養(yǎng)分以及人體必需的礦物質(zhì)、維生素、多種氨基 酸等,深受消費(fèi)者青睞。草莓設(shè)施栽培一般在每年8月底至9月上中旬定植,11月下旬 開始結(jié)果上市,一直延續(xù)到次年5月中下旬結(jié)束,同年9月重新種植草莓苗,因而草莓種 植需每年更換種苗。目前,我國(guó)草莓育苗普遍采用露地育苗的方式進(jìn)行,每年3月底4月上旬,草 莓種植者采用組培苗或開花結(jié)果植株上長(zhǎng)出的匍匐莖苗作為草莓母株種植到大田里,經(jīng) 過(guò)一段時(shí)期培育后,在適合的光照、溫度、濕度等環(huán)境條件和植株自身較好的營(yíng)養(yǎng)水平 條件下,草莓母株抽生匍匐莖,在匍匐莖頂端形成匍匐莖芽,匍匐莖芽生根之后形成子 苗,子苗培育長(zhǎng)大就成為新的草莓種苗。隨著設(shè)施蔬菜、花卉等園藝作物工廠化育苗技術(shù)的廣泛運(yùn)用,國(guó)內(nèi)草莓種植者 開始嘗試在溫室、大棚等設(shè)施內(nèi)采用平鋪式薄層基質(zhì)育苗、營(yíng)養(yǎng)缽育苗等方法培育草莓 種苗(草莓無(wú)土育苗技術(shù),潘樹,中國(guó)果樹;ChinaFraits; 2002 (4)營(yíng)養(yǎng)缽育苗對(duì)豐香草 莓生長(zhǎng)結(jié)果的影響錢亞明,趙密珍等,江蘇農(nóng)業(yè)科學(xué)2009年第2期;)。但仍存在設(shè)施 利用率低、種苗繁殖系數(shù)低、管理不方便等弊端。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型提供了一種草莓育苗裝置,解決了傳統(tǒng)露地育苗易感染病菌,受土 壤、氣候等環(huán)境因素影響大的問(wèn)題。一種草莓育苗裝置,包括縱向截面為梯形的栽培架,栽培架頂面設(shè)有沿其長(zhǎng)度 方向設(shè)置的栽培槽,兩側(cè)斜面上鋪設(shè)有穴盤。所述的栽培架高度為1.4 1.8m,基本與正常人身高差不多,最大限度提高了栽 培面積,但又不影響操作。所述的栽培槽寬度為0.3 0.5m。所述的斜面與水平面所成角度為75 85度,該角度下斜面在水平面的投影寬度 在50 70cm,與人手臂相差不大,便于操作。所述的栽培槽內(nèi)設(shè)有沿栽培槽長(zhǎng)度方向設(shè)置的滴管,可以對(duì)母株進(jìn)行滴水和澆 施營(yíng)養(yǎng)液。所述栽培臺(tái)內(nèi)部設(shè)有正對(duì)穴盤背面的噴頭,用于對(duì)子株根系噴霧。所述的穴盤從上至下穴孔數(shù)量逐漸增加,如頂部穴盤為32穴,底部穴盤為50 穴。利用上述裝置進(jìn)行草莓育苗的方法,包括[0014]將草莓母株種植在栽培槽內(nèi),當(dāng)匍匐莖芽生長(zhǎng)至兩葉一心時(shí),將其固定在穴盤 內(nèi),在子株生根前,采用第一培養(yǎng)液和第二培養(yǎng)液交替對(duì)母株進(jìn)行滴灌,子株生根后, 采用第三培養(yǎng)液分別對(duì)母株和子株根系進(jìn)行滴管和噴霧,直至子株成苗。所述的第一培養(yǎng)液各營(yíng)養(yǎng)元素配比為(mg/kg) N 90 110、P 40 60、K 90 110、B 0.01 0.02、CuO.Ol 0.02、Fe 0.1 1、Mn 0.01 0.05、MoO.OOl 0.01、Zn 0.01 0.05 ;所述的第二培養(yǎng)液各營(yíng)養(yǎng)元素配比為(mg/kg) N60 80、K60 80、Ca 70 80、Mgl 5、B 0.01 0.1、Cu 0.1 0.2、Fe 0.1 0.2、Mn 0.1 0.2、Mo 0.01 0.05、ZnO. 1 0.2、S 1 10 ;所述的第三培養(yǎng)液各營(yíng)養(yǎng)元素配比為(mg/kg) N40 60、P 140 160、K 90 110、Mg 1 5、B 0.01 0.1、CuO.Ol 0.1、Fe 0.1 0.5、Mn 0.01 0.02、Mo 0.01 0.05、Zn 0.1 0.2、S 1 10。所述栽培槽內(nèi)的基質(zhì)包括體積比為3 1 2 1 2的泥炭、礱糠灰和珍珠山。所述穴盤內(nèi)的基質(zhì)包括緩釋肥以及體積比為3 1 2 1 2的泥炭、礱糠灰 和珍珠巖,緩釋肥用量為穴盤容積的3 5%。,所述的緩釋肥可選用N-P-K 18-6-12配方。本實(shí)用新型裝置包括頂部栽培槽和兩側(cè)斜面上的穴盤,因?yàn)樵耘嗖酆脱ūP遠(yuǎn)離 地面,可以免去病蟲害和土壤環(huán)境的影響,可控性強(qiáng),便于管理,土地利用率高。利用本實(shí)用新型裝置在不同時(shí)期對(duì)母株和子株滴管或噴霧不同的培養(yǎng)液,一方 面所用培養(yǎng)液浪費(fèi)少,育苗成本低,另一方面適宜母株和子株的生長(zhǎng),生成的草莓苗根 系完整發(fā)達(dá),莖基部粗壯,碳水化合物含量高。

圖1為本實(shí)用新型草莓育苗裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
如圖1所示,一種草莓育苗裝置,包括由鋼管和毛竹搭建而成栽培架1,栽培架 1一般建在大棚內(nèi)部,長(zhǎng)度略小于大棚的長(zhǎng)度,栽培架1的縱向截面為如圖1所示的等腰 梯形,栽培架1的頂面安裝有沿其長(zhǎng)度方向設(shè)置的栽培槽2,寬度與栽培架1頂面寬度一 致,兩側(cè)斜面上鋪設(shè)有穴盤3,穴盤大小為54cmX28cm,頂部穴盤為32穴,穴孔容積 150cm3,底部穴盤為50穴,穴孔容積100cm3。栽培架1的高度為1.4 1.8m,頂面寬度為0.3 0.5m,底面寬度為1.4 1.8m, 斜面的傾角大致在75 85度,栽培槽2的高度為0.2 0.3m。同時(shí)在搭建栽培架1的 地面上設(shè)有深15 35cm、寬度為110 120cm的凹槽4,凹槽4南端高北端低,兩端落 差20cm,內(nèi)部鋪設(shè)有6mm聚乙烯薄膜,用于回收營(yíng)養(yǎng)液。栽培槽2內(nèi)設(shè)有沿其長(zhǎng)度方向設(shè)置的滴管5,斜面正上方設(shè)有噴霧裝置7,用于 補(bǔ)充穴盤內(nèi)基質(zhì)的水分以及子株降溫,栽培架1內(nèi)部設(shè)有正對(duì)穴盤2背面的噴頭6,用于 對(duì)子株根系噴灑營(yíng)養(yǎng)液。[0026]栽培時(shí),在栽培槽2和穴盤3內(nèi)裝盛基質(zhì),基質(zhì)由體積比3 1 1的泥炭、礱 糠灰和珍珠巖組成,其主要理化性質(zhì)為pH5.4,EC 0.66Ms/cm,容重0.26,總孔隙度 52.7,N 10.85mg/kg, P 18.26mg/kg, k 13.8mg/kg,有機(jī)質(zhì)含量 29.34%。穴盤內(nèi)除了 基質(zhì)外,還混有N-P-K 18-6-12的緩釋肥,用量為穴盤容積的4%。。每年4月初,栽培 槽2內(nèi)的基質(zhì)表面鋪上滴管5,然后在上面種植母株,母株單行種植,株間距為0.25m, 至匍匐莖芽生長(zhǎng)至二葉一心時(shí)期,將匍匐莖芽固定在穴盤內(nèi)生根,在生根前,一直用下 述兩種培養(yǎng)液對(duì)母株進(jìn)行滴管,下述兩種配方均是營(yíng)養(yǎng)元素的配比。培養(yǎng)液l(mg/kg) N 100,P 50, K 100,B 0.0125,Cu 0.0125,F(xiàn)e 0.5,Mn 0.025, Mo 0.005, Zn 0.025 ;培養(yǎng)液2(mg/kg) N 70,K 70,Ca 77.5,Mg 2.8,B 0.06,Cu 0.19,F(xiàn)e 0.175,Mn 0.175,Mo 0.015,Zn 0.175,S 4.0 ;2種營(yíng)養(yǎng)液間隔滴管,間隔時(shí)間根據(jù)溫度和草莓植株生長(zhǎng)情況,間隔5 10天。 子株生根后(8月初),采用培養(yǎng)液3對(duì)母株進(jìn)行滴管并對(duì)子株根系進(jìn)行噴霧。母株滴管 間隔時(shí)間為5 10天,而噴霧為間隔1小時(shí)噴霧30s。滿足草莓子苗的養(yǎng)分和水分需求。培養(yǎng)液3(mg/kg) N50,P 150, K 100,Mg 3,B 0.06,Cu 0.06,F(xiàn)e 0.25, Mn 0.0125,Mo 0.025,Zn 0.125,S 4。在夏季高溫時(shí)節(jié),可以開啟噴霧裝置7,對(duì)子株進(jìn)行降溫。9月上中旬,子株普遍長(zhǎng)有4 5張完全葉,此時(shí)子苗根系已包裹成團(tuán),適當(dāng)控 制穴盤內(nèi)的基質(zhì)水分,剪斷連接子苗的匍匐莖,就很容易把子苗從穴盤內(nèi)取出來(lái)。采用這種 方法繁殖草莓苗,每畝地可以繁殖草莓苗10 12萬(wàn)株,是露地培育草 莓苗產(chǎn)量的2 2.5倍。單株草莓苗葉片數(shù)4 5張完全葉,短縮莖直徑0.9 1.2cm, 全株鮮重25.5 30.3g,而露地培育的草莓苗的短縮莖直徑0.45cm 0.86cm,全株鮮重 17.7 22.4g,因此,草莓穴盤苗的質(zhì)量比露地苗好。此外,進(jìn)行草莓穴盤苗的水分、養(yǎng) 分控制、冷藏及短日照處理,可以使得草莓提前10 15天上市,從而提高了草莓種植的 經(jīng)濟(jì)效益。
權(quán)利要求1.一種草莓育苗裝置,其特征在于包括縱向截面為梯形的栽培架,栽培架頂面設(shè) 有沿其長(zhǎng)度方向設(shè)置的栽培槽,兩側(cè)斜面上鋪設(shè)有穴盤。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的草莓育苗裝置,其特征在于所述的栽培架高度為1.4 1.8m。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的草莓育苗裝置,其特征在于所述的栽培槽寬度為0.3 0.5m。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的草莓育苗裝置,其特征在于所述的斜面與水平面所成角 度為75 85度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的草莓育苗裝置,其特征在于所述的栽培槽內(nèi)設(shè)有沿栽培 槽長(zhǎng)度方向設(shè)置的滴管。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的草莓育苗裝置,其特征在于所述栽培架內(nèi)部設(shè)有正對(duì)穴 盤背面的噴頭。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的草莓育苗裝置,其特征在于所述的斜面上方設(shè)有噴霧裝置。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種草莓育苗裝置,包括縱向截面為梯形的栽培架,栽培架頂面設(shè)有沿其長(zhǎng)度方向設(shè)置的栽培槽,兩側(cè)斜面上鋪設(shè)有穴盤。本實(shí)用新型裝置栽培槽和穴盤遠(yuǎn)離地面,可以免去病蟲害和土壤環(huán)境的影響,可控性強(qiáng),便于管理,土地利用率高。
文檔編號(hào)A01G25/02GK201789833SQ20102054180
公開日2011年4月13日 申請(qǐng)日期2010年9月26日 優(yōu)先權(quán)日2010年9月26日
發(fā)明者余紅, 忻雅, 方獻(xiàn)平, 來(lái)文國(guó), 王淑珍, 童建新, 肖文斐, 蔣金權(quán), 鄭桂珍, 阮松林, 馬華升 申請(qǐng)人:杭州市農(nóng)業(yè)科學(xué)研究院
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