專利名稱：：導電性材料的制造方法及制造裝置的制作方法
技術領域：
：本發明涉及導電性材料的制造方法及制造裝置。具體地說，本發明涉及的導電性材料會屏蔽由CRT(陰極射線管)、PDP(等離子體顯示面板)、液晶顯示器、EL(電致發光)顯示器、FED(場致發射顯示器)等顯示器、微波爐、電子設備、印刷線路板等發射的電磁波，而且具有透光性。
背景技術：
：基于顯示器的大型化、代替CRT的購買需要等要因，平板顯示器(FPD)的市場急速擴大，平板顯示器的制造能力以高速增長。隨之也要求增強FPD中使用的材料的生產能力，尤其希望提高透光性電磁波屏蔽材料的生產率。作為電磁波屏蔽材料的生產方式，已經公開了如下技術將具有銀鹽乳劑層的感光薄膜曝光、顯影，然后在顯影銀上進行鍍覆處理，從而賦予導電性或者提高導電性(例如，參考特開2004-221564號公報、特開2004-221565號公報、特開2006-12935號公報)。對于這種生產方式，也要求進行高速大量生產，尤其是要求鍍覆反應的高速化。作為鍍覆反應高速化的方法，已經公開了將被鍍材料浸漬在用于活化的活化液(含有Pd等貴金屬)中、或者浸漬在硼氫化鈉等還原劑溶液中作為非電解鍍覆的前處理的化學活化處理的方法(參考特開2006-228836號公報、特開2006-228474號公報、特開2006-228480號公報)。但是，在該浸漬于貴金屬溶液中的化學活化處理的方法中，在顯影銀不存在的部分或者顯影過度產生的銀(相當于導電性膜篩目型的透光性電磁波屏蔽材料中的開口部分)上也進行了化學活化，因此這部分上也會附著多余的鍍膜(以下記作"鍍覆過度")，從而存在降低透光率的不良影響。此外，該鍍覆過度也會通過活化液投入到非電解鍍液中而引起，或通過活性核在非電解鍍液中的脫落而引起，除此之外還關系到非電解鍍液劣化的問題。此外，含還原劑的溶液浸漬法也會引起相對于顯影過度產生的銀相同的鍍覆過度，而且存在還原劑本身的氧化劣化、產生大量的氫等的問題，從而不適合作為導電性材料的高速制造方式。
發明內容鑒于上述情況，本發明的目的是提供能提高導電性金屬部的鍍覆活性、不會發生鍍覆過度、能進行高速鍍覆處理的導電性材料的制造方法及制造裝置。用于實現上述目的的具體的方法如下所述。(1)本發明的第一項涉及導電性材料的制造方法，該導電性材料的制造方法是在具有導電性金屬部(例如，金屬微粒部)的被鍍材料上進行鍍覆處理來形成導電層，其特征在于，該方法包括在所述鍍覆處理的前一階段，將導電性金屬部作為陰極在不含鍍覆物質的電解液中進行通電的通電工序。在該本發明的導電性材料的制造方法中，通過在鍍覆處理的前一階段將導電性金屬部進行通電處理，能將在導電性金屬部上生成的氧化物或硫化物等除去，從而能將導電性金屬的表面活化。由此，在之后進行的鍍覆處理中不用化學活化處理方法也能提高鍍覆處理的速度，而且可以抑制鍍覆不均勻。因此，能對被鍍材料進行高速鍍覆處理，能大量生產相同的導電性材料。(2)此外，本發明的第二項涉及導電性材料的制造方法，其特征在于，該方法包括金屬銀部形成工序，該工序將在支撐體上具有含銀鹽的銀鹽乳劑層的感光薄膜進行曝光、顯影，從而形成金屬銀部；通電工序，該工序將所述金屬銀部作為陰極在實質上不含鍍覆物質的電解液中通電；鍍覆工序，該工序在所述通電后的金屬銀部上進行鍍覆處理，從而形成導電層。在該本發明的第二項的導電性材料的制造方法中，通過向使用感光薄膜而形成的金屬銀部通電，可以與本發明的第一項的制造方法相同地提高鍍覆處理的速度，可以抑制鍍覆不均勻。因此，能對被鍍材料進行高速鍍覆處理，能大量生產相同的導電性材料。而且，上述本發明的第一項以及第二項的導電性材料的制造方法中，不會發生在化學活化處理中產生的鍍覆過度，其結果透光率不會下降，也不會發生之后的鍍液的劣化。在上述的利用含還原劑的溶液浸漬進行的化學活化處理中，必須進行還原劑的補充或除去產生的氫等，但是，本發明中無需這些步驟，因此，能有效實現生產設備的簡單化和制造成本的低廉化。(3)根據上述(1)或(2)所述的方法，其特征在于，所述電解液含有電解質和溶劑。(4)根據上述(3)所述的方法，其特征在于，所述電解質為選自由堿金屬鹽、銨鹽、高氯酸鹽和硼酸鹽組成的組中的至少一種。(5)根據上述(3)所述的方法，其特征在于，所述溶劑為水和/或非水溶劑。(6)根據上述(5)所述的方法，其特征在于，所述非水溶劑為選自由酰胺、吡咯烷酮、腈、酮和四氫呋喃組成的組中的至少一種。(7)根據上述(1)~(6)中任意一項所述的方法，其特征在于，所述鍍覆處理為非電解鍍覆處理和/或電鍍處理。(8)根據上述(7)所述的方法，其特征在于，所述電鍍處理為電鍍銅和/或電鍍黑化處理。(9)本發明的第三項涉及導電性材料的制造裝置，該導電性材料的制造裝置在具有導電性金屬部的被鍍材料上進行鍍覆處理來形成導電層，其特征在于，該裝置包括通電處理裝置，該通電處理裝置具有供電輥和通電處理槽，該供電輥與所述導電性金屬部接觸并進行供電，該通電處理槽設置在比所述供電輥更靠所述被鍍材料的輸送方向的下流側上，并將所述導電性金屬部在電解液內進行通電處理；鍍覆裝置，該鍍覆裝置設置在所述通電處理裝置的后段，并在所述導電性金屬部上進行鍍覆處理。(10)根據(9)所述的裝置，其特征在于，所述供電輥的氫過電壓(hydrogenovervoltage)比所述導電性金屬部的氫過電壓大。(11)根據(9)或(10)所述的裝置，其特征在于，所述鍍覆處理槽具有非電解鍍覆槽和域電鍍槽。(12)根據(9)或(10)所述的裝置，其特征在于，所述鍍覆處理槽具有非電解鍍覆槽和電鍍槽，且朝向所述被鍍材料的輸送方向的下流側依次配置非電解鍍覆槽、電鍍槽。(13)根據(9)或(10)所述的裝置，其特征在于，所述鍍覆處理槽具有非電解鍍覆槽、電鍍槽以及電鍍黑化槽，且朝向所述被鍍材料的輸送方向的下流側依次配置非電解鍍覆槽、電鍍銅槽、電鍍黑化槽。如上所述，根據本發明，可以提供能提高導電性金屬部(金屬微粒部等)的鍍覆活性、能進行高速鍍覆處理的導電性材料的制造方法及制造裝置。此外，在化學活化處理中，在顯影銀不存在的部分或顯影過度產生的銀(相當于導電性膜篩目型的透光性電磁波屏蔽材料中的開口部分)上也會發生鍍覆過度，從而存在透光率降低的不良影響。此外，鍍覆過度通過活化液帶入到非電解鍍覆中而引起，或通過活性核在非電解鍍液中的脫落而引起，除此之外還會發生非電解鍍液的劣化，但是在本發明中不存在這樣的不良影響。另外，金屬微粒部的活化也可以使用硼氫化鈉等還原劑來進行，但是，存在還原劑本身的氧化劣化、產生大量的氫等問題，從而不適合作為高速制造方式。結合附圖對如下優選的實施方式進行說明，根據該說明來進一步明確上述目的以及其它的目的、特征以及優點。圖1是將由本實施方式的導電性材料的制造方法制造的導電性材料省略一部分后顯示的剖面圖。圖2A是表示在透明支撐體上形成了鹵化銀鹽乳劑層的狀態的工序圖。圖2B是表示對卣化銀鹽乳劑層局部曝光的工序圖。圖2C是表示顯影處理的工序圖。圖2D是表示定影處理的工序圖。圖3A是表示通電處理的工序圖。圖3B是表示非電解鍍覆處理的工序圖。圖3C是表示電鍍銅處理的工序圖。圖3D是表示電鍍黑化處理的工序圖。圖4是表示本實施方式的導電性材料的制造裝置的示意說明圖。圖5是表示本實施方式的導電性材料的制造裝置中優選使用的通電處理裝置的一例的示意圖。圖6是表示本實施方式的導電性材料的制造裝置中優選使用的非電解鍍覆處理裝置的一例的示意圖。圖7是表示本實施方式的導電性材料的制造裝置中優選使用的電鍍銅處理裝置的一例的示意圖。圖8是表示本實施方式的導電性材料的制造裝置中優選使用的電鍍黑化處理裝置的一例的示意圖。具體實施方式下面，對本發明的導電性材料的制造方法及制造裝置進行詳細說明。另外，本說明書中，""表示將其前后記載的數值作為下限值和上限值而包含在內的意思。另外，本說明書中，""是以將其前后記載的數值作為下限值和上限值而包含在內的意思來使用。此外，"篩目"的用語通常為篩孔的大小的單位，但是在本說明書中所謂"篩目"，根據本領域技術人員的慣例，是指"由多根細線形成的網眼圖案或由多根細線形成的網"。<導電性材料的制造方法>本發明是在具有導電性金屬部(例如，金屬微粒部)的被鍍材料(被鍍素材)上實施鍍覆處理來形成導電層的導電性材料的制造方法，其中，該方法包括在鍍覆處理的前一階段，將導電性金屬部作為陰極在實質上不含鍍覆物質的電解液中通電的通電工序。本發明的制造方法中，作為被鍍材料，優選為通過將在支撐體上具有含銀鹽的銀鹽乳劑層的感光薄膜進行曝光、顯影來形成金屬銀部而得到的材料。下面，按照工序的順序對上述第一項制造方法以及第二項制造方法(以下適當稱為"本發明的制造方法")進行詳細描述。[被鍍材料]本發明的制造方法中使用的被鍍材料在支撐體上具有導電性金屬部。構成導電性金屬部的單位材質只要在鍍覆處理的前一階段能通電就可以是任意的材料。此外，在取得本發明的作用效果的情況下，也可以是金屬箔。特別是所述導電性金屬部由顯影銀、銀微粒油墨或者銀微粒糊料等含銀微粒形成時，鍍覆活性提高，不會發生鍍覆過度，并可以進行高速鍍覆，因此優選。此時，金屬微粒部優選相對于金屬的總質量含有50質量％以上的銀，更優選含有60質量％以上。通過含有50質量％以上的銀，可以縮短物理顯影和/或鍍覆處理所需的時間，提高生產率，而且可以實現低成本化。導電性金屬部的形成方法也是只要在形成微粒部后能通電就沒有限定，可以使用例如用感光薄膜形成的導電性金屬部、通過印刷方式印刷導電性金屬微粒油墨或導電性糊料而形成的導電性金屬部、將導電性金屬微粒油墨通過噴墨印刷機進行描繪而形成的導電性金屬部等。特別是作為用于高透光性篩目型電磁波屏蔽材料的導電性金屬部，必須制作用于形成篩目的細線圖案，因此，優選利用使用了篩目圖案部的均勻性優良的感光薄膜的形成方式。該形成方式是將在支撐體上具有含銀鹽的銀鹽乳劑層的感光薄膜進行曝光、顯影的方式，從而在曝光部上形成作為導電性金屬部的金屬銀部，在未曝光部上形成透光性部，由此得到被鍍材料。此外，作為上述的導電性油墨或糊料，可以使用用于布線圖案等的印刷的導電性油墨或導電性糊料等。作為其中含有的金屬種類，優選銀、鈀、金、鉑等顯示非電解鍍覆活性的金屬，特別優選銀。粒徑沒有特別的限定，優選為100nm以下，更優選為50nm以下。糊料的粘合劑優選環氧樹脂、聚氨酯樹脂、聚酯樹脂、酚醛樹脂等，溶劑優選稀釋劑類、甲苯類。另外，后述的本發明的導電性材料是指在導電性金屬部上通過鍍覆而形成導電層后的材料。下面，詳細說明作為被鍍材料的使用感光薄膜形成的材料。感光薄膜(感光材料)在支撐體上具有銀鹽乳劑層。將該感光材料進行曝光、顯影時，在曝光部上形成作為導電性金屬部的金屬銀部，在未曝光部上形成透光性部，從而得到被鍍材料。所述被鍍材料的形成方法根據所述感光材料和顯影處理的方式具體包括以下三種方式。(1)將不含物理顯影核的感光性鹵化銀黑白感光材料進行化學顯影，從而在該感光材料上形成金屬銀部的方式。(2)將在鹵化銀乳劑層中含有物理顯影核的感光性鹵化銀黑白感光材料進行溶解物理顯影，從而在該感光材料上形成金屬銀部的方式。(3)將不含物理顯影核的感光性鹵化銀黑白感光材料與具有含物理顯影核的非感光性層的顯像片重疊，進行擴散轉印顯影，從而在非感光性顯像片上形成金屬銀部的方式。上述(1)的方式為一體型黑白顯影型，在感光材料上形成金屬銀部。得到的顯影銀為化學顯影銀，為高比表面的長絲，由此在后續的鍍覆或物理顯影過程中活性較高。上述(2)的方式是在曝光部中通過將物理顯影核附近的鹵化銀粒子溶解并沉積到顯影核上，從而在感光材料上形成金屬銀部。該方式也是一體型黑白顯影型。由于顯影作用是在物理顯影核上析出，因此活性高，但是顯影銀為比表面較小的球形。上述(3)的方式是在未曝光部中通過將鹵化銀粒子溶解、擴散并沉積到顯像片上的顯影核上，從而在顯像片上形成金屬銀部。該方式為所謂的分離型方式，將顯像片從感光材料剝離后進行使用。任意一種方式均可以選擇底片(negative)型顯影處理以及反轉顯影處理中的任意一種顯影(擴散轉印方式時，通過使用直接正片(autopositive)型感光材料作為感光材料，可以進行底片型顯影處理)。這里所述的化學顯影、熱顯影、溶解物理顯影、以及擴散轉印顯影均是本領域常用的用語，在照相化學的常規教科書、例如菊地真一著《照相化學》(共立出版社，1955發行)、C.E.K.Mees編《TheTheoryofPhotographicProcesses,4thed.》(Mcmillan公司，1977發行)中進行了解釋。本發明為溶液處理，但是，作為其它申請中的顯影方式，熱顯影方式也適用。例如，特開2004-184693號公報、特開2004-334077號公報、特開2005-010752號公報中記載的技術、特愿2004-244080號說明書、特愿2004-085655號說明書中記載的技術均可以適用。下面，對能在導電性材料的制造中使用的感光材料及感光材料的制造方法進行說明。(I)感光材料(支撐體)作為在本發明的制造方法中使用的感光材料的支撐體，可以使用塑料薄膜、塑料板、以及玻璃板等。作為上述塑料薄膜以及塑料板的原料，可以使用例如聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、以及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯類；聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯、EVA等聚烯烴類；聚氯乙烯、聚偏氯乙烯等乙烯系樹脂；以及聚醚醚酮(PEEK)、聚砜(PSF)、聚醚砜(PES)、聚碳酸酯(PC)、聚酰胺、聚酰亞胺、丙烯酸樹脂、三乙?；w維素(TAC)等。本發明中，從透明性、耐熱性、易操作性以及價格的方面考慮，上述塑料薄膜優選為聚對苯二甲酸乙二酯薄膜。顯示器用的電磁波屏蔽材料要求具有透明性，因此，優選支撐體的透明性較高。此時，塑料薄膜或塑料板的總可見光透過率優選為70100%，更優選為85100%，特別優選為90100%。此外，本發明中，作為所述塑料薄膜以及塑料板，在不影響本發明的目的的范圍內也可以使用著色了的材料。本發明中的塑料薄膜以及塑料板也可以以單層使用，還可以以由兩層以上組合而成的多層薄膜的形式使用。透明支撐體優選由具有柔性的材料形成。此外，支撐體的厚度優選為5200nm，更優選為30150^im。只要為上述范圍，就可以得到希望的可見光的透過率，而且也容易操作。此外，透明支撐體優選寬度為2cm以上且長度為3m以上的薄膜，更優選寬度為20cm以上且長度為30m以上的薄膜。(保護層)感光材料也可以在后述的乳劑層上設置保護層。本發明中，"保護層"是指由明膠或高分子聚合物之類的粘合劑所形成的層，為了表現出防止擦傷和改善力學特性的效果，其形成在具有感光性的乳劑層上。保護層的厚度是0.022(^m，優選為0.110pm，更優選為0.33pm。上述保護層的形成方法沒有特別的限定，可以適當選擇公知的涂布方法。另外，本發明的制造方法中使用的感光材料也可以在乳劑層中含有染色用的乳劑添加中的公知的染料。(乳劑層)本發明的制造方法中使用的感光材料在支撐體上具有作為光敏元件的含銀鹽的乳劑層(含銀鹽層)。本發明中的乳劑層除了銀鹽之外，根據需要還可以含有染料、粘合劑、溶劑等。_銀鹽一作為本發明的制造方法中使用的銀鹽，可以舉出鹵化銀等無機銀鹽以及乙酸銀等有機銀鹽。本發明中，優選使用作為光敏元件的特性優良的鹵化銀。對本發明中優選使用的鹵化銀進行說明。本發明中，優選使用用于作為光敏元件而發揮功能的鹵化銀，本發明中也可以使用在與鹵化銀相關的銀鹽照相薄膜或照相紙、印刷制版用薄膜、光掩模用乳劑掩模等中使用的技術。上述鹵化銀中含有的鹵素可以是氯、溴、碘以及氟中的任意一種，也可以是它們的組合。例如，優選使用以AgCl、AgBr、Agl作為主體的鹵化銀，更優選使用以AgBr、AgCl作為主體的鹵化銀。此外也優選使用氯溴化銀、碘氯溴化銀、碘溴化銀。更優選使用氯溴化銀、溴化銀、碘氯溴化銀、碘溴化銀，最優選使用含有50摩爾％以上的氯化銀的氯溴化銀、碘氯溴化銀。另外，這里，"以AgBr(溴化銀)作為主體的鹵化銀"是指溴化物離子在鹵化銀的組成中所占的摩爾分數為50%以上的鹵化銀。該以AgBr作為主體的卣化銀粒子也可以含有除溴化物離子之外的碘化物離子、氯化物離子。鹵化銀為固體粒子狀，從在曝光、顯影處理后形成的圖案狀金屬銀層的圖象質量的觀點來看，鹵化銀的平均粒徑以等價球直徑計優選為0.11000nm(l|im)，更優選為0.1100nm，進一步優選為150nm。另外，鹵化銀粒子的等價球直徑是指粒子形狀為球形的具有相同體積的粒子的直徑。鹵化銀粒子的形狀沒有特別的限定，例如可以是球狀、立方體狀、平板狀(六邊形平板狀、三角形平板狀、四邊形平板狀等)、八面體狀、14面體狀等各種形狀，優選為立方體、14面體。鹵化銀粒子的內部與表層可以由均一的相形成，也可以由不同的相形成。此外，在粒子內部或者表面也可以具有鹵素組成不同的局部存在的層。本發明中使用的作為乳劑層用涂布液的鹵化銀乳劑可以利用如下文獻中所述的方法來制備P.Glafkides著，ChimieetPhysiquePhotographique(PaulMontel社刊，1967年)、G.F.Dufin著，PhotographicEmulsionChemistry(TheForcalPress干U，1966年)、V.L.Zelikmanetal著MakingandCoatingPhotographicEmulsion(TheForcalPress干U，1964年)等。艮口，作為上述鹵化銀乳劑的制備方法，可以是酸性法、中性法等中的任意一種，此外，作為使可溶性銀鹽與可溶性鹵鹽發生反應的方法，也可以使用單側混合法、同時混合法、它們的組合等中的任意一種。此外，作為銀粒子的形成方法，也可以使用在銀離子過剩的情況下形成粒子的方法(所謂的逆混合法)。而且，還可以使用作為同時混合法的一種形式的將生成鹵化銀的液相中的pAg保持在恒定的方法，即所謂的受控雙注法(controlleddouble-jetmethod)。此外，還優選使用氨、硫醚、四取代硫脲等所謂的鹵化銀溶劑來形成粒子。作為這些方法，更優選使用四取代硫脲化合物，在特開昭53-82408號公報、特開昭55-77737號公報中有記載。優選的硫脲化合物可以舉出四甲基硫脲、1，3-二甲基-乙撐硫脲。鹵化銀溶劑的添加量根據所使用的化合物的種類以及目標粒子大小、鹵素組成而不同，但優選每摩爾鹵化銀添加10—510—2摩爾的鹵化銀溶劑。根據使用所述控制雙注法以及鹵化銀溶劑來形成粒子的方法，可以容易地制造晶型規則且粒子大小分布較窄的鹵化銀乳劑，從而可以在本發明中優選地使用。此外，為了使粒子大小均勻，優選使用如英國專利第1535016號說明書、特公昭48-36890號公報、特公昭52-16364號公報中所述的根據粒子成長速度來改變硝酸銀或堿金屬鹵化物的添加速度的方法、或如英國專利第4242445號說明書、特開昭55-158124號公報中所述的改變水溶液濃度的方法，在不超過臨界飽和度的范圍中使銀快速成長。本發明的乳劑層的形成中使用的鹵化銀乳劑優選為單分散乳劑，由{(粒子大小的標準偏差)/(平均粒子大小))xl00表示的變化系數優選為20Q/。以下，更優選為15%以下，最優選為10%以下。本發明中使用的鹵化銀乳劑也可以將粒子大小不同的多種卣化銀乳劑混合。本發明中使用的鹵化銀乳劑也可以含有VIII族、VIIB族的金屬。特別是為了實現高對比度和低灰霧，優選含有銠化合物、銥化合物、釕化合物、鐵化合物、鋨化合物等。這些化合物也可以是具有各種配位基的化合物，作為配位基，可以舉出例如氰化物離子、鹵素離子、硫氰酸根離子、亞硝?；x子、水、氫氧化物離子等；或者除了類鹵素、氮之外，還可以舉出胺類(甲胺、乙二胺等)、雜環化合物(咪唑、噻唑、5-甲基噻唑、巰基咪唑等)、尿素、硫脲等有機分子。此外，為了提高感度，優選進行K4[Fe(CN)6]、K4[Ru(CN)6]、K3[Cr(CN)6]之類的六氰化金屬絡合物的摻雜。作為上述銠化合物，可以使用水溶性銠化合物。作為水溶性銠化合物，可以舉出例如鹵化銠(in)化合物，六氯銠(m)配鹽、五氯氫銠配鹽、四氯二氫銠配鹽、六溴銠(ni)配鹽、六胺銠(m)配鹽、三草酸根合銠(m)配鹽、K3Rh2Br^。這些銠化合物可以溶解到水或適當的溶劑中后來使用，但是，為了使銠化合物的溶液穩定化，可以使用常用的方法，即，添加鹵化氫水溶液(例如鹽酸、氫溴酸、氫氟酸等)、或者堿金屬鹵化物(例如KC1、NaCl、KBr、NaBr等)。也可以在制備鹵化銀時，添加預先摻雜有銠的另外的鹵化銀粒子后使其溶解，來代替水溶性銠的使用。作為上述的銥化合物，可以舉出K2lrCl6、&311€16等六氯銥配鹽、六溴銥配鹽、六氨銥配鹽、五氯亞硝酰基銥配鹽等。作為上述釕化合物，可以舉出六氯釕、五氯亞硝酰基釕、K4[Ru(CN)6]等。作為上述鐵化合物，可以舉出六氰合鐵(II)酸鉀、硫氰酸亞鐵。上述釕、鋨以特開昭63-2042號公報、特開平1-285941號公報、特開平2-20852號公報、特開平2-20855號公報所述的水溶性配鹽的形式進行添加，作為特別優選的例子，可以舉出下式所示的六配位絡合物。[ML6]-n(M表示Ru或Os;n表示0、1、2、3或4;L表示配位基。)這里，L不具有重要性，例如可以使用銨或堿金屬離子。此外，作為優選的配位基，可以舉出鹵化物配位基、氰化物配位基、氰酸化物配位基、亞硝?；湮换?、硫代亞硝酰基配位基等。下面列出本發明使用的具體的配鹽的例子，但本發明不限于這些。[RuCl6]—3、[RuCl4(H20)2]_1、[RuCls(NO)]—2、[RuBr5(NS)]—2、[Ru(CO)3Cl3]_2、[Ru(CO)Cl5]_2、[Ru(CO)Br5]—2、[OsCl6r3、[OsCl5(NO)r2、[Os(NO)(CN)5]-2、[Os(NS)Br5]-2、[Os(CN6)]-4、[Os(0)2(CN)5]-4這些化合物的添加量相對于每摩爾鹵化銀優選為10—1Q10—2摩爾/摩爾Ag，更優選為10_910—3摩爾/摩爾Ag。另夕卜，在本發明中，還可以優選使用含有Pd(n)離子禾口/或Pd金屬的鹵化銀。Pd可以均勻分布在鹵化銀粒子內，但優選存在于鹵化銀粒子的表層附近。這里，Pd"存在于鹵化銀粒子的表層附近"是指從鹵化銀粒子的表面至深度方向50nm以內，具有鈀含有率比其它層高的層。這種鹵化銀粒子可以通過在形成鹵化銀粒子的過程中添加Pd來制造，優選在添加銀離子和鹵素離子各自的總添加量的50。/。以上之后添加Pd。此外，還優選通過在后熟化時添加Pd(II)離子等的方法來使Pd(II)離子存在于鹵化銀表層中。該含有Pd的鹵化銀粒子增加了物理顯影或非電解鍍覆的速度，從而提高了所希望的電磁波屏蔽材料的生產效率，有助于降低生產成本。Pd作為非電解鍍覆催化劑是公知的，但在本發明中，由于可以使Pd在鹵化銀粒子的表層中不均勻地存在，因而能節省極其昂貴的Pd。在本發明中，鹵化銀中含有的Pd離子和/或Pd金屬的含有率相對于鹵化銀中的銀的摩爾數，優選為10_40.5摩爾/摩爾Ag，更優選為0.010.3摩爾/摩爾Ag。作為使用的Pd化合物的例子，可以舉出PdCl2和Na2PdCU等。在本發明中，為了進一步提高作為光敏元件的感度，還可以實施在照相乳劑中進行的化學增感。作為化學增感的方法，可以使用硫增感、硒增感、碲增感等硫族增感、金增感等貴金屬增感、還原增感等。它們可以單獨使用或組合使用。在將上述化學增感方法組合使用時，優選例如硫增感法和金增感法的組合；硫增感法、硒增感法和金增感法的組合；硫增感法、碲增感法和金增感法的組合等。所述硫增感通常通過添加硫增感劑，并在40°C以上的高溫下將乳劑攪拌一定時間來進行。作為所述硫增感劑，可以使用公知的化合物，例如除了可以使用明膠中含有的硫化合物之外，還可以使用各種硫化合物，如硫代硫酸鹽、硫脲類、噻唑類、勞丹堿類等。優選的硫化合物為硫代硫酸鹽、硫脲化合物。硫增感劑的添加量可以在化學熟化時的pH和溫度、鹵化銀粒子的大小等各種條件下進行變化，優選每摩爾鹵化銀添加10—710—2摩爾，更優選添加10—510—3摩爾。作為上述硒增中使用的硒增感劑，可以使用公知的硒化合物。S卩，上述硒增感通常通過添加不穩定型和/或非不穩定型硒化合物，并4(TC以上的高溫下將乳劑攪拌一定時間來進行。作為上述不穩定型硒化合物，可以使用特公昭44-15748號公報、特公昭43-13489號公報、特開平4-109240號公報、特開平4-324855號公報中所述的化合物。特別優選使用特開平4-324855號公報中的通式(VIII)和(IX)所示的化合物。在上述碲增感中使用的碲增感劑是能夠在鹵化銀粒子表面或內部生成碲化銀的化合物，該碲化銀可以推斷成為增感核。鹵化銀乳劑中的碲化銀的生成速度可通過特開平5-313284號公報中記載的方法進行試驗。具體地說，可以使用如下文獻中所述的化合物美國專利US1623499號說明書、美國專利US3320069號說明書、美國專利US3772031號說明書、英國專利第235211號說明書、英國專利第1121496號說明書、英國專利第1295462號說明書、英國專利第1396696號說明書、加拿大專利第800958號說明書、特開平4-204640號公報、特開平4-271341號公報、特開平4-333043號公報、特開平5-303157號公報、J.Chem.Soc.Chem.Commun.635(1980)、J.Chem.Soc.Chem.Commun,1102(1979)、J,Chem.Soc.Chem.Commun.645(1979)、J.Chem.Soc.Perkin.Trans.12191(1980)、S.Patai編，TheChemistryofOrganicSeleniumandTelluniumCompounds,Vol.l(1986)、TheChemistryofOrganicSeleniumandTelluniumCompounds,Vol.2(1987)。特另lj優選特開平5-313284號公報中的通式(II)、(III)、(IV)所示的化合物。本發明中可以使用的硒增感劑和碲增感劑的用量根據使用的鹵化銀粒子和化學熟化條件等而變化，但通常的用量為每摩爾鹵化銀使用10_810—2摩爾，優選每摩爾鹵化銀使用10—710_3摩爾左右。本發明的化學增感的條件沒有特別的限定，pH是58，pAg是611，優選為710，溫度是4095。C，優選為4585。C。此外，作為上述貴金屬增感劑，可以舉出金、鉑、鈀、銥等，特別優選金增感。作為金增感中使用的金增感劑，具體可以舉出氯金酸、氯金酸鉀、金硫代氰酸鉀(日文原文為力y々厶才一U于才、乂7氺一卜)、硫化金、硫代葡萄糖金(I)和硫代甘露糖金(I)等。金增感劑可以每摩爾鹵化銀使用10—710—2摩爾左右。在本發明使用的鹵化銀乳劑中，可以在鹵化銀粒子的形成或物理熟化的過程中共存鎘鹽、亞硫酸鹽、鉛鹽、鉈鹽等。此外，本發明中可以使用還原增感。作為還原增感劑，可以使用亞錫鹽、胺類、甲脒亞磺酸、硅垸化合物等。上述鹵化銀乳劑也可以根據歐洲公開專利(EP)293917中所示的方法添加硫代磺酸化合物。在本發明的感光材料的制作中使用的鹵化銀乳劑可以僅是一種，也可以是兩種以上(例如平均粒子大小不同的鹵化銀乳劑、鹵素組成不同的鹵化銀乳劑、結晶慣態不同的鹵化銀乳劑、化學增感條件不同的鹵化銀乳劑、感度不同的鹵化銀乳劑)的并用。其中，為了獲得高對比度，優選如特開平6-324426號公報所述，在支撐體附近涂布高感度的乳劑?！玖弦桓泄獠牧峡梢灾辽僭谌閯又泻腥玖稀Ｔ撊玖献鳛闉V光染料或者出于防止輻照(irradiation)等各種目的而存在于乳劑層中。作為所述染料，可以含有固體分散染料。作為本發明優選使用的染料，可以舉出特開平9-179243號公報中所述的由通式(FA)、通式(FA1)、通式(FA2)、通式(FA3)所示的染料。具體地說，優選特開平9-179243號公報記載的化合物F1F34。此外，也優選使用特開平7-152112號公報所述的(II-2)(11-24)、特開平7-152112號公報所述的(III-5)(m-18)、特開平7-152112號公報所述的(IV-2)(IV-7)等。此外，對于在本發明中可以使用的染料，作為在顯影或定影處理時脫色的固體微粒分散狀的染料，可以舉出特開平3-138640號公報中所述的菁染料、吡喃鐺染料以及銨染料。此外，作為在處理時不會脫色的染料，可以舉出特開平9-96891號公報所述的具有羧基的菁染料、特開平8-245902號公報所述的不含酸性基團的菁染料以及特開平8-333519號公報所述的色淀型菁染料、特開平1-266536號公報所述的菁染料、特開平3-136038號公報所述的全極性(hol叩olar，日文原文為示口求一，)型菁染料、特開昭62-299959號公報所述的吡喃鐵染料、特開平7-253639號公報所述的聚合物型菁染料、特開平2-282244號公報所述的氧雜菁(Oxonol)染料的固體微粒分散物、特開昭63-131135號公報所述的光散射粒子、特開平9-5913號公報所述的Yb"化合物、以及特開平7-113072號公報所述的ITO粉末等。此外，在特開平9-179243號公報所述的由通式(Fl)、通式(F2)表示的染料中，具體也可以使用該公報記載的化合物F35F112。此外，作為上述染料，可以含有水溶性染料。作為這種水溶性染料，可以舉出氧雜菁染料、苯亞甲基染料、部花青染料、菁染料和偶氮染料。其中，氧雜菁染料、半氧雜菁(hemioxonol)染料和苯亞甲基染料在本發明中特別有用。作為本發明中可以使用的水溶性染料的具體例子，可以舉出在如下文獻中記載的染料英國專利584609號說明書、英國專利1177429號說明書、特開昭48-85130號公報、特開昭49-99620號公報、特開昭49-114420號公報、特開昭52-20822號公報、特開昭59-154439號公報、特開昭59-208548號公報、美國專利2274782號說明書、美國專利2533472號說明書、美國專利2956879號說明書、美國專利3148187號說明書、美國專利3177078號說明書、美國專利3247127號說明書、美國專利3540887號說明書、美國專利3575704號說明書、美國專利3653905號說明書、美國專利3718427號說明書。從防止輻照等效果和添加量增加引起的感度下降的觀點來看，上述乳劑層中的染料的含量相對于總固體成分優選為0.0110質量％，更優選為0.15質量％。一粘合劑一在乳劑層中，為了使銀鹽粒子均勻分散，且有助于乳劑層與支撐體的粘附，可以使用粘合劑。作為本發明的所述粘合劑，可以使用非水溶性聚合物和水溶性聚合物的任意一種作為粘合劑，但優選使用水溶性聚合物。作為上述粘合劑，可以舉出例如明膠、聚乙烯醇(PVA)、聚乙烯基吡咯垸酮(PVP)、淀粉等多糖類、纖維素及其衍生物、聚環氧乙烷、多糖、聚乙烯基胺、殼聚糖、聚賴氨酸、聚丙烯酸、聚海藻酸、聚透明質酸、羧基纖維素等。這些粘合劑根據官能團的離子性具有中性、陰離子性、陽離子性的性質。乳劑層中含有的粘合劑的含量沒有特別的限定，可以在發揮分散性和粘附性的范圍內進行適當地選擇?！軇糜谛纬缮鲜鋈閯拥娜軇]有特別的限定，可以舉出例如水、有機溶劑(例如甲醇等醇類、丙酮等酮類、甲酰胺等酰胺類、二甲基亞砜等亞砜類、乙酸乙酯等酯類、醚類等)、離子性液體、以及它們的混合溶劑。本發明的乳劑層中使用的溶劑的含量，相對于所述乳劑層中含有的銀鹽、粘合劑等的總質量為3090質量％的范圍，優選為5080質量％的范圍。(II)被鍍材料的制造工序(曝光)首先對上述感光材料進行曝光。該感光材料為在透明支撐體上設置有乳劑層的結構。本發明的制造方法優選向所述銀鹽乳劑層照射激光。曝光通過將所述感光材料一邊輸送一邊在光束下掃描來進行。作為光束，可以使用各種激光束。將含銀鹽層曝光成圖案狀的方法優選為利用激光束進行的掃描曝光。例如，可以適當使用特開2000-39677號公報中所述的絞盤(capstan)方式的激光掃描曝光裝置、將在上述絞盤方式中的通過多面反射體的旋轉進行的光束掃描用特開2004-1244號公報中所述的DMD(數字微鏡器件，digitalmirrordevice)來代替并用于光束掃描系統中的裝置、將在上述絞盤方式中直接激光曝光用特開2007-72171公報所述的鄰近曝光來代替使用的裝置等。(顯影處理)在本發明中，將乳劑層曝光后再進行顯影處理。顯影處理可以使用在銀鹽照相薄膜或照相紙、印刷制版用薄膜、光掩模用乳劑掩模等中常用的顯影處理技術。顯影液沒有特別的限定，可以使用PQ顯影液、MQ顯影液、MAA顯影液等，也可以使用市售產品，例如富士膠片公司制的CN-16、CR-56、CP45X、FD國3、Papitol;柯達公司制的C-41、E-6、RA-4、D-19、D-72等顯影液；或者其套劑中含有的顯影液。此外，也可以使用高反差顯影液(lithdeveloper)。作為高反差顯影液，可以使用柯達公司制的D85等。在本發明中，通過進行上述曝光和顯影處理，在曝光部上形成金屬銀部，優選形成圖案狀金屬銀部，同時在未曝光部上形成后述的透光性部。在本發明的制造方法中，作為所述顯影液，可以使用二羥基苯類顯影主劑。作為二羥基苯類顯影主劑，可以舉出對苯二酚、氯對苯二酚、異丙基對苯二酚、甲基對苯二酚、對苯二酚單磺酸鹽等，特別優選對苯二酚。作為與上述二羥基苯類顯影主劑一起表現出超加和性(Superadditivity)的輔助顯影主劑，可以舉出l-苯基-3-吡唑烷酮類和對氨基苯酚類。作為本發明的制造方法中使用的顯影液，優選使用二羥基苯類顯影主劑與1-苯基-3-吡唑烷酮的組合、或二羥基苯類顯影主劑與對氨基苯酚類的組合。作為與作為輔助顯影主劑使用的l-苯基-3-吡唑垸酮或其衍生物組合的顯影主劑，具體有l-苯基-3-吡唑烷酮、l-苯基-4,4-二甲基-3-吡唑烷酮、1-苯基_4-甲基-4-羥基甲基-3-吡唑烷酮等。作為上述對氨基苯酚類輔助顯影主劑，有N-甲基-對氨基苯酚、對氨基苯酚、N-(p-羥乙基)-對氨基苯酚、N-(4-羥苯基)甘氨酸等，其中優選N-甲基-對氨基苯酚。二羥基苯類顯影主劑通常的用量優選為0.050.8摩爾/升，但在本發明中特別優選0.23摩爾/升以上，更優選為0.230.6摩爾/升。此外，在使用二羥基苯類與l-苯基-3-吡唑烷酮類或與對氨基苯酚類的組合的情況下，前者的用量優選為0.230.6摩爾/升，更優選0.230.5摩爾/升，后者的用量優選為0.06摩爾/升以下，更優選0.030.003摩爾/升。在本發明中，優選顯影起始液和顯影補充液兩者均具有"在將0.1摩爾的氫氧化鈉加到1升的該顯影起始液或顯影補充液中時，pH的上升為0.5以下"的性質。作為確認使用的顯影起始液或者顯影補充液具有該性質的方法，使試驗對象的顯影起始液或者顯影補充液的pH為10.5，然后將O.1摩爾的氫氧化鈉添加到1升的該顯影起始液或者顯影補充液中，并測量此時的溶液的pH值，如果pH值的上升為0.5以下，則可以判定具有上述規定的性質。在本發明的制造方法中，特別優選使用進行上述試驗時的pH值的上升為0.4以下的顯影起始液和顯影補充液。作為賦予顯影起始液和顯影補充液以上述性質的方法，優選利用使用緩沖劑的方法。作為上述緩沖劑，可以使用碳酸鹽、特開昭62-186259號公報中所述的硼酸、特開昭60-93433號公報中所述的糖類(例如蔗糖)、肟類(例如丙酮肟)、苯酚類(例如5-磺基水楊酸)、三代磷酸鹽(例如鈉鹽、鉀鹽)等，優選使用碳酸鹽、硼酸。上述緩沖劑(特別是碳酸鹽)的用量優選為0.25摩爾/升以上，特別優選為0.251.5摩爾/升。在本發明中，所述顯影起始液的pH值優選為9.011.0，特別優選為9.510.7。所述顯影補充液的pH以及連續處理時的顯影槽內顯影液的pH也在該范圍內。用于設定pH的堿劑可以使用通常的水溶性無機堿金屬鹽(例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、碳酸鈉、碳酸鉀)。在本發明的制造方法中，處理1平方米的感光材料時，顯影液中的顯影補充液的含量為323ml以下，優選為32330ml，特別優選為22550ml。顯影補充液也可以具有與顯影起始液相同的組成，對于在顯影中所消耗的成分，顯影補充液也可以具有比顯影起始液更高的濃度。在將本發明的感光材料進行顯影處理時的顯影液(下面有時將顯影起始液和顯影補充液兩者僅統稱為"顯影液")中可以含有常用的添加劑(例如防氧化劑、螯合劑)。作為所述防氧化劑，可以舉出亞硫酸鈉、亞硫酸鉀、亞硫酸鋰、亞硫酸銨、亞硫酸氫鈉、焦亞硫酸鉀、甲醛合亞硫酸氫鈉等亞硫酸鹽。該亞硫酸鹽優選使用0.20摩爾/升以上，更優選使用0.3摩爾/升以上，但過量加入時會導致顯影液中的銀污染，因此，優選亞硫酸鹽的用量的上限為1.2摩爾/升，特別優選為0.35-0.7摩爾/升。此外，作為二羥基苯類顯影主劑的防氧化劑，還可以將少量的抗壞血酸衍生物與亞硫酸鹽組合使用。這里，抗壞血酸衍生物包括抗壞血酸、作為其立體異構體的異抗壞血酸及其堿金屬鹽(鈉鹽、鉀鹽)等。作為上述抗壞血酸衍生物，從材料成本的觀點來看，優選使用異抗壞血酸鈉。所述抗壞血酸衍生物的添加量相對于二羥基苯類顯影主劑，以摩爾比計優選為0.030.12的范圍，特別優選為0.050.10的范圍。使用抗壞血酸衍生物作為上述防氧化劑時，優選顯影液中不含硼化合物。作為除上述以外可以顯影材料中使用的添加劑，包括顯影抑制劑，如溴化鈉、溴化鉀；有機溶劑，如乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、二甲基甲酰胺；顯影促進劑，如二乙醇胺、三乙醇胺等烷醇胺、咪唑或其衍生物等；防灰霧劑或黑胡椒(blackpepper)防止劑，如巰基類化合物、吲唑類化合物、苯并三唑類化合物、苯并咪唑類化合物。作為上述苯并咪唑類化合物，具體可以舉出，5-硝基吲唑、5-對硝基苯甲?；被胚?、1-甲基-5-硝基吲唑、6-硝基吲唑、3-甲基-5-硝基吲唑、5-硝基苯并咪唑、2-異丙基-5-硝基苯并咪唑、5-硝基苯并三唑、4-[(2-巰基-l,3,4-噻二唑-2-基)硫代]丁烷磺酸鈉、5-氨基-l,3，4-噻二唑-2-硫醇、甲基苯并三唑、5-甲基苯并三唑、2-巰基苯并三唑等。這些苯并咪唑類化合物的含量通常是每升顯影液為0.01lOmmol，更優選為0.12mmo1。另外，上述顯影液中還可以并用各種有機或無機的螯合劑。作為所述無機螯合劑，可以使用四聚磷酸鈉、六偏磷酸鈉等。而作為所述有機螯合劑，主要可以使用有機羧酸、氨基多羧酸、有機膦酸、氨基膦酸以及有機膦基羧酸。作為上述有機羧酸，可以舉出丙烯酸、草酸、丙二酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、琥珀酸、壬二酸、癸二酸、壬烷二羧酸、癸垸二羧酸、十一垸二羧酸、馬來酸、衣康酸、蘋果酸、檸檬酸、酒石酸等，但是并不限定于此。作為上述氨基多羧酸，可以舉出亞氨基二乙酸、氰基三乙酸、氰基三丙酸、乙二胺單羥基乙基三乙酸、乙二胺四乙酸、乙二醇醚四乙酸、1，2-二氨基丙烷四乙酸、二亞乙基三胺五乙酸、三亞乙基四胺六乙酸、1,3-二氨基-2-丙醇四乙酸、乙二醇醚二胺四乙酸、以及在特開昭52-25632號公報、特開昭55-67747號公報、特開昭57-102624號公報、以及特公昭53-40900號公報等中記載的化合物。作為有機膦酸，可以舉出美國專利US3214454號說明書、美國專利US3794591號說明書、以及西德專利公開2227639號公報中記載的羥基亞烷基二膦酸、或者在ResearchDisclosure第181巻,Item18170(1979年5月)等中記載的化合物。作為上述氨基膦酸，可以舉出氨基三(亞甲基膦酸)、乙二胺四亞甲基膦酸、氨基三亞甲基膦酸等，另外還可以舉出上述ResearchDisclosure18170號、特開昭57-208554號公報、特開昭54-61125號公報、特開昭55-29883號公報、以及特開昭56-97347號公報等中記載的化合物。作為有機膦基羧酸，可以舉出特開昭52-102726號公報、特開昭53-42730號公報、特開昭54-121127號公報、特開昭55-4024號公報、特開昭55-4025號公報、特開昭55-126241號公報、特開昭55-65955號公報、特開昭55-65956號公報等、以及上述ResearchDisclosure18170號等中記載的化合物。這些螯合劑也可以以堿金屬鹽或銨鹽的形式來使用。這些螯合劑的添加量優選每升顯影液為lxl0"lx10—'mo1，更優選Ixl0—3lxl0—2mol。另外，作為顯影液中的銀污染防止劑，可以使用特開昭56-24347號公報、特公昭56-46585號公報、特公昭62-2849號公報、特開平4-362942號公報中記載的化合物。另外，作為溶解助劑，可以使用特開昭61-267759號公報中記載的化合物。此外，在顯影液中還可以根據需要含有調色劑、表面活性劑、消泡劑、固化劑等。顯影處理溫度和時間相互關聯，并通過與總處理時間的關系來決定，但通常顯影溫度優選為約2(TC約5(TC，更優選為2545t:。顯影時間優選為5秒2分鐘，更優選為7秒1分30秒。從顯影液的運輸成本、包裝材料成本、節省空間等目的考慮，還優選將顯影液濃縮，然后在使用時稀釋來使用的方式。為了濃縮顯影液，將顯影液中含有的鹽成分進行鉀鹽化是有效的。本發明中的顯影處理可以包括定影處理，該定影處理用于除去未曝光部分的銀鹽而實現穩定化。本發明中的定影處理可以使用在銀鹽照相薄膜或照相紙、印刷制版用薄膜、光掩模用乳劑掩模等中使用的定影處理的技術。作為上述定影工序中使用的定影液的優選成分，可以舉出如下物質。艮卩，定影液優選含有硫代硫酸鈉、硫代硫酸銨，并根據需要含有酒石酸、檸檬酸、葡糖酸、硼酸、亞氨基二乙酸、5-磺基水楊酸、葡庚酸、鈦鐵試劑、乙二胺四乙酸、二亞乙基三胺五乙酸、氰基三乙酸以及它們的鹽等。近年來，從環境保護的觀點來看，優選不含有硼酸。本發明使用的定影液的定影劑可以舉出硫代硫酸鈉、硫代硫酸銨等，從定影速度的方面來看，優選硫代硫酸銨。但是，近年來，從環境保護的觀點來看，也可以使用硫代硫酸鈉。這些己知的定影劑的用量可以適當變化，通常為約0.1約2摩爾/升。特別優選為0.21.5摩爾/升。根據需要，在定影液中可以含有固化劑(例如水溶性鋁化合物)、防氧化劑(例如亞硫酸鹽、亞硫酸氫鹽)、pH緩沖劑(例如乙酸)、pH調節劑(例如氨、硫酸)、螯合劑、表面活性劑、潤濕劑、定影促進劑。作為上述表面活性劑，可以舉出例如硫酸化物、磺化物等陰離子表面活性劑、聚乙烯類表面活性劑、特開昭57-6740號公報中記載的兩性表面活性劑等。此外，上述定影液中也可以添加公知的消泡劑。作為上述潤濕劑，可以舉出例如垸醇胺、烷二醇等。此外，作為上述定影促進劑，可以舉出例如特公昭45-35754號公報、特公昭58-122535號公報、特公昭58-122536號公報中記載的硫脲衍生物；在分子內具有三鍵的醇；美國專利US4126459號說明書中記載的硫醚化合物；特開平4-229860號公報中記載的中離子化合物等，還可以使用特開平2-44355號公報中記載的化合物。此外，作為上述pH緩沖劑，可以使用例如乙酸、蘋果酸、琥珀酸、酒石酸、梓檬酸、草酸、馬來酸、乙醇酸、己二酸等有機酸；硼酸、磷酸鹽、亞硫酸鹽等無機緩沖劑。所述pH緩沖劑優選使用乙酸、酒石酸、亞硫酸鹽。這里，pH緩沖劑用于防止顯影液的帶入而引起的定影劑pH的上升，用量優選為0.011.0摩爾/升，更優選0.020.6摩爾/升左右。定影液的pH優選為4.06.5，特別優選為4.56.0。此外，作為上述色素溶解促進劑，也可以使用特開昭64-4739號公報中記載的化合物。作為本發明的定影液中的固化劑，可以舉出水溶性鋁鹽、鉻鹽。作為上述固化劑優選的化合物為水溶性鋁鹽，可以舉出例如氯化鋁、硫酸鋁、明礬等。所述固化劑的優選添加量為0.010.2摩爾/升，更優選為0.030.08摩爾/升。上述定影工序中的定影溫度優選為約20'C約50°C，更優選為2545°C。此外，定影時間優選為5秒1分鐘，更優選為7秒50秒。相對于感光材料的處理量，定影液的補充量優選為600ml/m2以下，更優選為500ml/m2以下，特別優選為300ml/m2以下。已進行過顯影和定影處理的感光材料優選進行水洗處理或穩定化處理。在上述水洗處理或穩定化處理中，可以在水洗的水量通常是每11112的感光材料為20升以下進行，也可以在補充量為3升以下(也包括O，即用所儲存的水進行水洗)進行。因此，不僅可以節水處理，而且可以不需要自動顯影機中設置的配管。作為減少水洗水的補充量的方法，一直已知的是多段逆流方式(例如2段、3段等)。將該多段逆流方式用于本發明的制造方法中時，定影后的感光材料緩緩地向正常的方向、即向未被定影液污染的處理液的方向依次接觸而進行處理，因此，可以更高效地進行水洗。此外，以少量的水進行水洗時，更優選設置特開昭63-18350號公報、特開昭62-287252號公報等中記載的擠壓輥、交叉輥的洗滌槽。此外，為了減輕用少量水洗滌時造成的污染負荷，也可以將各種氧化劑的添加和過濾器的過濾進行組合使用。此外，在上述方法中，也可以將來自水洗浴或穩定化浴的溢流液體的部分或全部用作如特開昭60-235133號公報中記載的在前處理工序中具有一些定影性能的處理液，所述溢流液體通過根據處理補充在水洗浴或穩定化浴中實施防霉處理的水而產生。此外，為了防止在用少量水洗滌時容易產生的水泡斑和/或防止附著在擠壓輥上的處理劑成分轉印到經過處理的薄膜上，也可以加入水溶性表面活性劑或消泡劑。此外，在上述水洗處理或穩定化處理中，也可以將特開昭63-163456號公報中記載的色素吸附劑設置于水洗槽中，以防止從感光材料中溶出的染料導致的污染。此外，在水洗處理之后的穩定化處理中，也可以將含有特開平2-201357號公報、特開平2-132435號公報、特開平1-102553號公報、特開昭46-44446號公報中記載的化合物的浴用作感光材料的最終浴。此時，根據需要，也可以加入銨化合物、Bi和Al等的金屬化合物、熒光增白劑、各種螯合劑、膜pH調節劑、固化劑、殺菌劑、防霉劑、烷醇胺、或表面活性劑。水洗工序或者穩定化工序中使用的水優選使用自來水、去離子處理后的水、用鹵素、紫外線殺菌燈或各種氧化劑(臭氧、過氧化氫、氯酸鹽等)等殺菌后的水。此外，也可以使用含有特開平4-39652號公報、特開平5-241309號公報中記載的化合物的水洗水。在水洗處理或穩定化處理中的浴溫優選為050°C，時間優選為5秒2分鐘。本發明中使用的顯影液或定影液等處理液優選使用特開昭61-73147號公報中記載的氧透過性低的包裝材料進行保存。另外，在降低補充量時，優選通過減小處理槽與空氣的接觸面積來防止液體的蒸發和空氣氧化。輥傳送型自動顯影機記載在美國專利US3025779號說明書、美國專利US3545971號說明書等中，本說明書中簡稱作輥傳送型處理器。此外，輥傳送型處理器優選包括顯影、定影、水洗和干燥四個工序，在本發明中也不排除其它工序(例如停止工序)，但本發明最優選沿襲這四個工序。此外，這四個工序中也可以用穩定工序來代替水洗工序。在上述各個工序中，也可以將從顯影液或定影液的組成中除去水的成分制成固體來供給，在使用時用規定量的水溶解后作為顯影液和定影液來使用。這種形式的處理劑被稱作固體處理劑。固體處理劑可以使用粉末、片劑、顆粒、粉末、塊狀、或糊料狀的物質。上述處理劑的優選形式是特開昭61-259921號公報中記載的形式或片劑。所述片劑的制造方法可以通過例如特開昭51-61837號公報、特開昭54-155038號公報、特開昭52-88025號公報、英國專利1213808號說明書等中記載的常用方法來制造。另外，顆粒的處理劑可通過例如特開平2-109042號公報、特開平2-109043號公報、特開平3-39735號公報和特開平3-39739號公報等中記載的常用方法來制造。此外，粉末的處理劑可以通過例如特開昭54-133332號公報、英國專利725892號說明書、英國專利729862號說明書、德國專利3733861號說明書等中記載的常用方法來制造。從溶解性的方面考慮，上述固體處理劑的堆積密度優選為0.56.0g/cm3，特別優選為1.05.0g/cm3。在制備上述固體處理劑時，可以釆用如下方法在構成處理劑的物質中，將至少兩種相互反應性的粒狀物質通過相對于反應性物質呈惰性的物質所形成的至少一個的介入分離層進行分離而形成層，從而將反應性物質以層狀隔開，且用能真空包的裝作為包裝材料，從袋內排出空氣后進行密封。這里，"惰性"是指物質在相互物理地接觸時，在包裝袋內的通常的狀態下不會反應，或者即使存在反應也不明顯。惰性物質可以對兩種相互反應性的物質是惰性的，此外，也可以是在意圖使用兩種相互反應性的物質中是惰性的。此外，惰性物質是與兩種反應性物質同時使用的物質。例如，在顯影液中，由于對苯二酚和氫氧化鈉直接接觸時會發生反應，因此，在真空包裝中，在對苯二酚和氫氧化鈉之間使用作為分離層的亞硫酸鈉等，從而可以長期保存在包裝袋中。此外，對苯二酚等也可制成團狀，通過減小與氫氧化鈉的接觸面積，從而提高保存性能，并能夠混合使用。作為它們的真空包裝的包裝材料，可以使用由惰性塑料薄膜、塑料物質與金屬箔的層疊體所制成的袋。相對于曝光前的曝光部中所含的銀的質量，顯影處理后曝光部中所含的金屬銀的質量優選為50質量％以上的含有率，更優選為80質量％以上。相對于曝光前的曝光部中所含的銀的質量，曝光部中所含的銀的質量為50質量％以上時，可以獲得高的導電性，因此優選。本發明的顯影處理后的灰度沒有特別的限定，但優選超過4.0。顯影處理后的灰度超過4.0時，可以在保證透光性部的高透明性的同時提高導電性金屬部的導電性。作為使灰度為4.0以上的方法，可以舉出例如上述銠離子、銥離子的摻雜。一物理顯影處理—本發明中，為了進一步提高所形成的金屬銀部的導電性，還優選進行物理顯影。本發明的"物理顯影"是指用還原劑還原銀離子等金屬離子，從而使金屬粒子析出到金屬或金屬化合物的核上。這種物理顯影可以用在即顯B&W薄膜、即顯滑動薄膜、印刷版制造等中，本發明中可以使用這些技術。此外，物理顯影可以與曝光之后的顯影處理同時進行，也可以在顯影處理后另外進行。一氧化處理一本發明中，優選對顯影處理后的金屬微粒部以及通過物理顯影和/或鍍覆處理形成的導電性金屬部進行氧化處理。通過進行氧化處理，在例如金屬少量地沉積在透光性部中時，可以將該金屬除去，從而使透光性部的透過性大致為100%。作為氧化處理，可以舉出例如Fe(III)離子處理等、使用各種氧化劑的公知的方法。如上所述，氧化處理可以在乳劑層的曝光和顯影處理之后、或者在物理顯影或鍍覆處理之后進行，也可以分別在顯影處理之后、和物理顯影或鍍覆處理之后進行。本發明中，還可以將曝光和顯影處理之后的金屬銀部用含有Pd的溶液進行處理。Pd可以是二價鈀離子，也可以是金屬鈀。通過該處理，可以促進非電解鍍覆或物理顯影的速度。在透光性電磁波屏蔽材料的用途中，篩目圖案部的線寬需要為1[im40(im，優選為lnm30(im，最優選為10jim25nm。線間隔優選為50,~500,，更優選為200|xm~400(im，最優選為250,~350,。此夕卜，為了接地等目的，篩目圖案部也可以具有線寬超過20pm的部分。此外，框緣部是導電性金屬沿著透光性導電性膜的周圍以框架狀形成的部分，且與上述篩目圖案部進行電接觸?？蚓壊康膶挾葍炦x為lmm10cm，更優選為5mm5cm?？紤]到可見光透過率，本發明中的導電性金屬部的開口率優選為85%以上，更優選為90%以上，最優選為95%以上。開口率是指沒有形成篩目的細線的部分占整體的比例，例如，線寬15pm、間距300阿的正方形格子狀篩目的開口率為90%?！梢姽馔高^性部一本發明中的"可見光透過性部"是指透光性導電性膜中除了導電性金屬部之外的具有透明性的部分?？梢姽馔高^性部的透過率如前所述，以除去支撐體的光吸收以及反射的影響之后的在380780nm的波長區域中的透過率的最小值來表示，該透過率為卯％以上，優選為95%以上，更優選為97%以上，進一步優選為98%以上，最優選為99%以上。本發明中的篩目圖案優選連續3m以上，但是，篩目圖案的連續數越大，生產所述濾光器材料時的損失越可以降低，因此是更優選的實施方式。另外，連續數大時，在形成輥狀時，輥的直徑增大，輥的重量增大，輥的中心部的壓力增強，從而容易發生粘接或變形等問題，因此，連續數優選為2000m以下，更優選為100m1000m，進一步優選為200m800m，最優選為300m500m。根據同樣的理由，支撐體的厚度優選為200pm以下，更優選為20(im180pm，最優選為50(im120^im。本發明中，"篩目是實質上平行的直線狀細線交叉而成的圖案"是指所謂的格子圖案，是指構成格子且相鄰的直線處于平行或者平行士2。之內的情況。作為該光束的掃描方法，優選通過在實質上垂直于輸送方向的方向上排列的線狀光源或者旋轉多面反射體來進行曝光的方法。此時，光束必須進行2值以上的強度調制，直線是由點連接而形成的。由于是點相連接，因此1點的細線邊緣成為階梯狀，但是，細線的粗度是指變細部分的最窄的長度。作為描繪篩目部分的該光束掃描方法的一種方式，還優選掃描方向根據格子圖案的傾斜而相對于輸送方向傾斜的光束的掃描。此時，優選將兩個掃描光束正交排列，光束在曝光面上取實質上1值的強度。此時，為了曝光框緣部分，還可以組合狹縫曝光和掩模曝光。本發明中，篩目圖案優選相對于輸送方向傾斜3060°，更優選傾斜4050°，最優選傾斜4347°。這是因為篩目圖案相對于框架傾斜約45°的掩模通常難于制造，容易發生易出現不均勻或價格高等問題，而本發明的實施方式在約45。時難以出現不均勻，因此，本發明相對于由掩模粘附曝光方式的光刻法或絲網印刷進行圖案化具有更顯著的效果。在上述實施方式中，對將設置有含鹵化銀的銀鹽乳劑層的感光材料進行曝光和顯影而形成的導電性金屬部進行了說明，但是本發明并不限定于上述實施方式，導電性金屬部也可以通過使用了蝕刻的光刻法來形成。例如，可以將感光材料整面曝光而形成均勻的顯影銀之后，涂布光刻法用的光聚合物，然后曝光，再通過蝕刻而形成導電性金屬部。對于這些形成方法，可以使用特開2003-46293號公報、特開2003-232卯號公報、特開平5-16281號公報、特開平10-338848號公報等中記載的技術。(III)被鍍材料的通電工序[通電工序]本發明的制造方法包括將導電性金屬部作為陰極在不含鍍覆物質的電解液中通電被鍍材料的通電工序。該通電工序是為了還原所述導電性金屬部而進行的工序，由此可以提高導電性金屬部的鍍覆活性。特別是所述導電性金屬為來自顯影銀、銀微粒油墨或者銀微粒糊料等的含銀微粒時，可以提高鍍覆活性，不會發生鍍覆過度，能夠進行高速鍍覆。下面，對通電方法、不含鍍覆物質的電解液進行詳細描述。[通電方法]本發明中的通電工序是使金屬電極與支撐體上的導電性金屬部接觸并進行通電。從被鍍材料的輸送的觀點來看，所述金屬電極優選為金屬制的供電輥，供電輥的直徑優選為lcm20cm。此外，金屬制的供電輥優選使用比被鍍材料的氫過電壓更大的材料。氫過電壓用OVvs.NHE的絕對值來表示。經過供電輥的被鍍材料在后述的電解質溶液中被通電，但是，從供電輥到電解質溶液液面的距離可以根據被鍍材料的電阻值等而進行調整。被鍍材料的電阻高時，優選供電輥與電解質溶液液面較近，優選從金屬輥到電解液面的距離為0.5cm30cm。被鍍材料的電阻非常高時或者圖案不連續時，會發生通過液面上的來自輥的供電，無法在電解液中充分通電的情況。此時，可以通過將供電輥浸沒在電解液中來獲得本發明的效果。將供電輥浸沒在電解液中時的供電輥的材質也可以是比被鍍材料金屬部的氫過電壓更大的材料，從而可以避免氫的產生所引起的電流損失。導電性金屬部為銀時，供電輥的材料優選為鎳、銅、鎘、錫、鉛、鋅，為了增大氫過電壓，也可以使用合金。此外，電解質液中的被鍍材料與對電極(陽極)的距離在寬度方向上恒定時，能進一步實現面內均勻的鍍覆活化。通電時的電流過小時，無法獲得鍍覆活性，過大時會失活，因此，電流優選為0.001A/dm210A/dm2，更優選為0.005A/dm25A/dm2，特別優選為0.01A/dm21A/dm2。通電時間過短時，得不到非電解活性，過長時會失活，因此，通電時間優選為0.1秒360秒，更優選為0.5秒120秒，最優選為1秒60秒。[實質上不含鍍覆物質的電解液]本發明的"不含鍍覆物質的電解液"的"不含鍍覆物質"實質上是指不會通過鍍覆反應而在被鍍材料上形成規定膜厚的鍍層的溶液。具體地說，表示以lA/drr^的電流通電60秒時從電解液析出到電極上的物質為10mg/dm2以下，優選為lmg/dr^以下。從降低陽極和陰極之間的溶液電阻的方面考慮，本發明中的電解液優選含有電解質。作為電解質，例如為堿金屬鹽、銨鹽、高氯酸鹽、硼酸鹽等。優選可以舉出硫酸鈉、硝酸鉀、硫酸銨、硼酸、高氯酸鈉、對甲苯磺酸鈉等，特別優選硫酸鈉作為電解質。作為溶劑，可以是水或非水溶劑(非水系有機溶劑)，但最優選為水(純水)。非水系有機溶劑可以舉出酰胺、吡咯垸酮、腈、酮以及四氫呋喃。酰胺具體有二甲基甲酰胺、N-甲基甲酰胺、N-甲基乙酰胺，吡咯烷酮具體有N-甲基吡咯烷酮，腈具體有乙腈、丙腈、芐腈，酮具體有丙酮、甲基乙基酮、甲基異丁基酮、乙酰丙酮。溶劑中的電解質濃度優選為10—33mol/L，更優選為10—3lmol/L，最優選為10—20.5mol/L。另外，電解質濃度可以根據被鍍材料的表面電阻值、通電時間、與對電極的電極間距離(被鍍材料與對電極陽極之間的距離)等進行適當地調整。但是，電解質濃度低于10—3mol/L時，陽極與陰極之間的溶液電阻增大，用于通入設定電流值的外加電壓升高，同時難以得到本發明的效果。電解質濃度高于3mol/L時，有時會引起電解質析出到被鍍材料膜面上的情況，因此需要注意。[鍍覆工序]本發明的制造方法包括在金屬微粒部上進行鍍覆處理的鍍覆工序。這是為了提高金屬微粒部的導電性，并形成本發明的導電性材料。此外，鍍覆工序優選包括非電解鍍覆工序和電鍍工序，更優選在非電解鍍覆工序之后進行電鍍工序，特別優選在非電解鍍覆工序之后進行電鍍銅工序，然后再進行電鍍黑化工序。下面，對非電解鍍覆工序、以及電鍍工序進行詳細說明。[非電解鍍覆工序]在本發明的非電解鍍覆工序中，作為可以在非電解鍍覆中使用的金屬，可以舉出銅、鎳、鉻、鋅、錫、金、鉑、銀，從導電性、鍍覆穩定性的方面考慮，優選為銅。非電解鍍覆時間優選為15秒10分鐘，更優選為30秒8分鐘，進一步優選為17分鐘。長于10分鐘時，由于在高堿浴中長時間浸漬會引起明膠膜的變質，從而透光性部的透明性會顯著劣化。此外，短于30秒時，容易發生導電性不夠或者鍍覆的厚度不均勻。非電解鍍覆溫度優選為1050°C，更優選為1540°C。雖然可以是連續的或者間歇的，但優選在非電解鍍液中進行通氣?？諝饬績炦x為0.0110L/L溶液/分鐘，更優選為0.053L/L溶液/分鐘，進一步優選為0.20.5L/L溶液/分鐘?？諝舛鄷r，對溶液的攪拌能力提高，從均勻性等的方面考慮是優選的，但空氣過多時，由于通入的C02引起溶液的pH下降，從而必須補充大量的堿來進行校正。下面，對非電解鍍銅液進行說明。[非電解鍍銅液]作為非電解鍍銅中所含的化學種類，可以舉出硫酸銅或氯化銅；作為還原劑的福爾馬林或乙醛酸；作為銅離子配位劑的EDTA、酒石酸、三異丙醇胺、三乙醇胺、氰基三乙酸等；以及作為用于浴的穩定化或用于提高鍍覆皮膜的平滑性的添加劑的聚乙二醇、黃血鹽、聯二吡啶、硫脲類化合物等。作為用于高速鍍覆的銅離子配位劑，優選為三乙醇胺。作為浴的穩定劑，更優選含硫化合物。浴穩定劑的添加量優選為lxl0一9lxl0—4mol/L，更優選為1x10—8lxlO_5mol/L。銅離子的濃度優選為0.0010.3mol/L，更優選為0.0050.1mol/L，進一步優選為0.010.1mol/L。銅離子配位劑的濃度相對于銅離子濃度優選為0.510倍摩爾，更優選為0.77倍摩爾，進一步優選為0.84倍摩爾。從兼顧鍍液的穩定性以及鍍覆速度兩方面來考慮，還原劑的濃度優選為0.001lmol/L，更優選為0.01lmol/L，進一步優選為0.10.7mol/L。[電鍍工序]本發明的制造方法優選包括電鍍工序，更優選電鍍工序包括電鍍銅工序和電鍍黑化工序。鍍覆處理時間根據鍍覆的金屬、厚度、鍍覆質量而不同，但是通常對于各個鍍覆工序，優選為10秒120分鐘，更優選為l60分鐘。外加電壓優選為0.1V100V，特別優選為0.5V30V，最優選為0.5V20V。作為電鍍工序中使用的電鍍液，可以使用市售的或公知的電鍍液。下面對電鍍銅液和電鍍黑化液進行說明。[電鍍銅液]作為電鍍銅液的銅供給源化合物，可以舉出硫酸銅、氰化銅、氟硼酸銅、氯化銅、焦磷酸銅、碳酸銅等，可以使用含有它們中的一種以上化合物的鍍銅液。從建浴費低、管理容易等方面考慮，優選使用含硫酸銅的鍍液，更優選使用五水合硫酸銅或者預先溶解在水中的硫酸銅水溶液。鍍銅液中的銅離子濃度以五水合硫酸銅的質量換算計，優選為150300g/L，更優選為150250g/L，進一步優選為180220g/L。電鍍銅液的優選溫度為1535°C，更優選為203(TC。鍍液的攪拌優選通常公知的空氣攪拌、將液體從小噴嘴中噴出的噴射攪拌、使槽液循環以攪拌的方法。電鍍銅液中也可以加入酸。作為鍍液中加入的酸，只要能將鍍液的pH保持在充分低即可，沒有特別的限定，可以舉出例如硫酸、硝酸、鹽酸等，其中更優選使用硫酸。pH根據酸的濃度而變化，但pH優選為3以下，更優選為1以下。另外，酸性鍍銅液的pH超過3時，由于銅容易析出，因此不優選。通過在電鍍銅液中添加各種添加劑，從而可以實現例如鍍覆反應的促進所帶來的鍍覆時間的縮短、鍍覆反應的抑制或者形成的鍍覆層的平坦化所帶來的鍍覆的均勻化等。作為電鍍銅液的代表性添加劑，可以舉出氯離子、聚烷撐二醇類、含硫有機化合物、含氮化合物等，可以將這些化合物類組合使用。氯離子的添加劑濃度優選為20150mg/L，更優選為30100mg/Lo作為聚垸撐二醇類，具體可以使用選自由聚乙二醇、聚丙二醇、聚乙二醇-聚丙二醇嵌段共聚型(pluronic型)表面活性劑、聚乙二醇-聚丙二醇接枝共聚型(tetixmic型)表面活性劑、甘油醚、二垸基醚組成的組中的化合物。可以舉出分子量優選為100010000、更優選為20006000的聚乙二醇，分子量優選為1005000、更優選為2002000的聚丙二醇，分子量優選為100010000、更優選為15004000的聚乙二醇的聚乙二醇-聚丙二醇嵌段共聚物。最優選分子量為20006000的聚乙二醇。另外，這些化合物可以單獨使用或者兩種以上組合使用。聚垸撐二醇類的總量的使用濃度優選為105000mg/L，更優選為502000mg/L。作為含硫有機化合物的具體例子，可以舉出例如雙(3-磺丙基)二硫化物(SPS)、巰基丙磺酸鈉(MPS)等。此外，還優選使用特開平7-316875號的段中例舉的化合物或者蛋氨酸等含硫氨基酸。另外，硫類有機化合物可以使用一種或者兩種以上組合使用。含硫有機化合物的濃度優選為0.015000mg/L，更優選為0.022000mg/L，進一步優選為0.1300mg/L。此外，作為含氮化合物，可以使用選自由聚亞烷基亞胺、1-羥乙基-2-烷基咪唑啉鹽、聚丙烯酸二烷基氨基乙基酯季鹽、聚乙烯吡啶季鹽、聚乙烯基脒、聚烯丙基胺、聚磺酸胺(日文原文為求U7^^7A爾y酸)、金胺及其衍生物、甲基紫及其衍生物、結晶紫及其衍生物、二嗪黑(Janusblack)及其衍生物、健那綠(Janusgreen)組成的組中的化合物。另外，含氮化合物的濃度優選為0.11000mg/L，更優選為0.5150mg/L。[電鍍黑化液]電鍍黑化液通常是含有至少兩種以上的金屬元素的電鍍液，作為所含有的金屬，可以舉出鎳、鋅、錫、銅、鈷等。從電鍍工序中的電沉積性和/或鍍覆樣品的顏色等的觀點來看，作為這些鍍液中的金屬元素的組合，優選使用鎳-鋅或鎳-錫的組合。此外，也可以使用相同兩種金屬元素組合的鍍液，例如改變鎳化合物和/或鋅化合物的配方量比例后來使用，或者使用由兩種不同金屬元素組合的鍍液，從而也可以使鍍層形成為多層結構。為了形成這樣的層結構，也可以將后述的鍍覆裝置設置成2個槽以上的多段裝置。作為各種金屬的供給源化合物，可以舉出硫酸鹽、硝酸鹽、氯化物、硫酸銨鹽、氨基磺酸鹽、焦磷酸鹽等，這些化合物的濃度以六水合硫酸鎳的質量換算計，優選為50250g/L，更優選為80180g/L。此外，也可以添加用于輔助各種金屬供給源化合物的溶解或者提高鍍液穩定性的各種配位劑、在電鍍銅液一項中所述的用于控制鍍覆性的各種添加劑、抑制鍍液pH的變化的琥珀酸和檸檬酸等緩沖劑等。電鍍黑色鎳液的溫度優選為306(TC，更優選為355(TC。對于溶液的攪拌，可以與電鍍銅液的情況相同地使用空氣攪拌、噴射攪拌、槽循環等方法。[由導電性金屬部、非電解鍍覆部、電鍍部構成的導電性功能層]由如上所述形成的導電性金屬部、非電解鍍覆部以及電鍍部構成的導電性功能層包括由線寬為lpm4(^m的細線形成的篩目圖案部和框緣部。在作為透光性電磁波屏蔽材料的用途時，篩目圖案部優選為將(正)n邊形、圓、橢圓、星形等進行組合的幾何圖形，更優選由這些幾何圖形形成的篩目狀，其中(正)n邊形包括正三角形、等腰三角形、直角三角形等三角形、正方形、長方形、菱形、平行四邊形、梯形等四邊形、(正)六邊形、(正)八邊形等。從電磁波屏蔽性的方面來看，三角形的形狀是最有效的，但是，從可見光透過性的方面來看，在相同的線寬下，(正)n邊形的n數越大，開口率越高，可見光透過性越大，因此是有利的。從難以形成干擾條紋的方面來看，還優選將這些幾何圖形隨機配置，或者使線寬無規則地變化。此外，優選由實際平行的直線狀細線交叉而成的圖案形成。導電性金屬部的表面電阻在通電處理前優選為10歐姆/sq10000歐姆/sq，導電性功能層層疊部的表面電阻優選為0.1歐姆/sq1歐姆/sq。另外，在用于導電性布線材料的情況下，篩目圖案部的形狀沒有特別的限定，根據目的可以適當使用任意的形狀。這樣制得的本實施方式的導電性材料10的一例示于圖1。圖1所示的導電性材料IO在透明支撐體12上具有導電性功能層14和透光部18(例如明膠)。此外，導電性功能層14具有形成在將鹵化銀鹽乳劑層進行曝光、顯影而形成的導電性金屬部16上的第一鍍覆層20、在該第一鍍覆層20上形成的第二鍍覆層22、和在該第二鍍覆層22上形成的第三鍍覆層23。第一鍍覆層20可以通過實施例如利用Cu(銅)進行的非電解鍍覆處理來形成，第二鍍覆層22可以通過實施例如利用Cu(銅)進行的電鍍處理來形成，第三鍍覆層23可以通過實施Ni(鎳)-鋅系電鍍黑化處理來形成。這里，參照圖2A圖3D對制造導電性材料10的方法進行說明。首先，如圖2A所示，在透明支撐體12上涂布鹵化銀鹽乳劑層28，所述鹵化銀鹽乳劑層28通過將鹵化銀24(例如溴化銀粒子、氯溴化銀粒子或碘溴化銀粒子)混合到明膠26中而成。另外，在圖2A圖2C中，鹵化銀24標記為"一粒一粒"，但是，這只是為了便于理解本發明而進行夸張表示，其并不代表鹵化銀的大小或濃度等。然后，如圖2B所示，對鹵化銀鹽乳劑層28實施形成例如篩目圖案所需要的曝光。鹵化銀24接受光能后感光，從而生成稱作"潛像"的肉眼無法觀察到的微小的銀核。然后，為了將潛像放大為肉眼能觀察到的可視化的圖像，如圖2C所示，進行顯影處理。具體地說，通過顯影液(堿性溶液和酸性溶液都可以，但是通常更多使用堿性溶液)對形成了潛像的鹵化銀鹽乳劑層28進行顯影處理。該顯影處理是通過顯影液中的稱為顯影主劑的還原劑，以潛像銀核作為催化核，將鹵化銀或由顯影液供給的銀離子還原成金屬銀，結果潛像銀核被放大并形成可視化的銀圖像(顯影銀30)。顯影處理結束后，在鹵化銀鹽乳劑層28中殘留有能感光的鹵化銀24，因此為了除去該鹵化銀24，如圖2D所示，通過定影處理液(堿性溶液和酸性溶液都可以，但是通常更多使用酸性溶液)進行定影。通過進行該定影處理，在曝光后的部位上形成導電性金屬部(金屬銀部16)，在未曝光的部位上只留下明膠26,從而形成透光部18。即，在透明支撐體12上形成金屬銀部16和透光部18的組合。在該階段，制得具有金屬銀部16的被鍍材料32。使用溴化銀作為鹵化銀24，并用硫代硫酸鹽進行定影處理時，定影處理的反應式如下所示。AgBr(固體)+2個8203離子—Ag(S203)2(水易溶性絡合物)艮口，2個硫代硫酸離子S203和明膠26中的銀離子(來自AgBr的銀離子)生成硫代硫酸銀絡合物。硫代硫酸銀絡合物的水溶性較高，因此會從明膠26中溶出。結果顯影銀30作為金屬銀部16被定影留下。由此，顯影工序是使還原劑與潛像反應，從而析出顯影銀30的工序。定影工序是將未形成顯影銀30的鹵化銀24溶出到水中的工序。具體可以參考T.H.James，TheTheoryofthePhotographicProcess,她ed.，MacmillianPublishingCo"Inc，NY,Chapter15,pp.438-442，1997。另外，顯影處理更多是在堿性溶液中進行，因此從顯影處理工序進入定影處理工序時，在顯影處理中附著的堿溶液會帶入到定影處理溶液(更多為酸性溶液)中，因此存在定影處理液的活性會發生變化的問題。此外，從顯影處理槽出來后，膜上殘留的顯影液也有可能會使不再希望進行的顯影反應繼續進行。因此，還優選在顯影處理后、進入定影處理工序之前，使用乙酸溶液等停止液來中和或者酸化鹵化銀鹽乳劑層28。然后，如圖3A所示，將金屬銀部16作為陰極在不含鍍覆物質的電解液中對被鍍材料32進行通電。然后，如圖3B所示，對通電后的被鍍材料32進行非電解鍍覆處理，從而僅在金屬銀部16上形成第一鍍覆層20。然后，如圖3C所示，進行電鍍銅處理，從而在第一鍍覆層20上形成第二鍍覆層22。然后，如圖3D所示，進行電鍍黑化處理，從而在第二鍍覆層22上形成第三鍍覆層23。由此，如圖1所示，在透明支撐體12上形成導電性功能層。另外，也可以在透明支撐體12的另一面上設置易粘接層。這里，對上述使用鹵化銀鹽乳劑層28的方法(銀鹽照相技術)和使用光致抗蝕劑的方法(抗蝕劑技術)的區別進行說明。在抗蝕劑技術中，通過曝光處理，光聚合引發劑吸收光，反應開始，光致抗蝕劑膜(樹脂)本身始進行聚合反應，使得對顯影液的溶解性增大或者減小，然后通過顯影處理將曝光部分或未曝光部分的樹脂除去。另外，抗蝕劑技術中，稱作顯影液的溶液不含還原劑，是溶解未反應的樹脂成分的例如堿性溶液。而在本發明的銀鹽照相技術的曝光處理中，如上所述，由受光部位的鹵化銀24內產生的光電子和銀離子形成所謂的稱作"潛像"的微小銀核，該潛像銀核通過顯影處理(此時的顯影液必須含有稱作顯影主劑的還原劑)進行放大，從而形成可視化的銀圖像。由此，在抗蝕劑技術和銀鹽照相技術中，從曝光處理到顯影處理的反應完全不同。在抗蝕劑技術的顯影處理中，曝光部分或者未曝光部分的未進行聚合反應的樹脂部分被除去。而在銀鹽照相技術的顯影處理中，以潛像作為催化核，通過顯影液中含有的稱作顯影主劑的還原劑進行還原反應，從而顯影銀30成長為眼睛能觀察到的大小，不進行未曝光部分的明膠26的除去。這樣，在抗蝕劑技術和銀鹽照相技術中，顯影處理的反應也完全不同。另外，未曝光部分的明膠26中含有的鹵化銀24通過后面的定影處理來溶出，明膠26本身未除去(參照圖2D)。這樣，銀鹽照相技術中，反應(感光)主體為鹵化銀24，與此相對，抗蝕劑技術中反應(感光)主體為光聚合引發劑。此外，在顯影處理中，銀鹽照相技術殘留粘合劑(明膠26)(參照圖2D)，但是，抗蝕劑技術中沒有粘合劑。從這方面來看，銀鹽照相技術和光致抗蝕劑技術有很大不同。<導電性材料的制造裝置>本發明的導電性材料的制造裝置包括通電處理槽和鍍覆槽，所述通電處理槽將以金屬銀部16作為陰極而起作用的被鍍材料在不含鍍覆物質的電解液中進行通電。鍍覆槽優選包括非電解鍍覆槽、電鍍銅槽以及電鍍黑化槽。本實施方式中的制造裝置100可以舉出如圖4所示的方式沿著被鍍材料32的輸送方向依次設置有具有金屬制的供電輥(第一供電輥102)和電極(陽極104)的通電處理裝置106、非電解鍍覆處理裝置108、電鍍銅處理裝置IIO、電鍍黑化處理裝置lll，從而可以將被鍍材料32的表面依次進行通電處理、非電解鍍覆處理、電鍍銅處理以及電鍍黑化處理。另外，在圖4中，為了說明處理結構，將各個處理槽分別用一個槽來表示，但是根據需要等當然也可以將各個處理槽設置多個。下面，詳細說明通電處理裝置106、非電解鍍覆處理裝置108、電鍍銅處理裝置110以及電鍍黑化處理裝置111。[通電處理裝置106]本實施方式中的通電處理裝置106對實施曝光、顯影后形成有細線狀的金屬銀部16的被鍍材料32進行通電處理，通過將金屬銀部16進行還原處理而進行活化。具體地說，通電處理裝置106例如如圖5所示，具有與被鍍材料32的金屬銀部16接觸并進行供電的第一供電輥102。在夾持被鍍材料32并與第一供電輥102相對的位置上，在相對于第一供電輥102大致水平的方向上設置有彈性輥112，該彈性輥112將被鍍材料32的金屬銀部16擠壓到第一供電輥102上。彈性輥112包括可旋轉地支撐的軸114和表面的彈性體層116。作為彈性體層116，可以使用聚氨酯橡膠等。在構成彈性輥112的軸114的兩端部上按照不會阻礙軸114的旋轉的方式設置有擠壓裝置118。在擠壓裝置118中，在框體120的內部設置有彈簧材料122，彈簧材料122將與軸114接觸的接觸部件124擠壓到軸114偵lj。此外，設置在框體120上的調整螺釘126與彈簧材料122的背面側接觸，通過調整該調整螺釘126的螺合位置，可以調整將被鍍材料32擠壓到第一供電輥102上的擠壓力。此外，通電處理裝置106在比第一供電輥102更靠被鍍材料32的輸送方向的下流側上具有充滿有電解液128的通電處理槽130。作為電解液128，可以使用不含鍍覆物質的電解液。不含鍍覆物質是指實質上不會發生鍍覆反應的溶液，優選以1A/dn^的電流通電60秒時，從電解液析出到電極上的物質為10mg/dn^以下，更優選為lmg/dii^以下。在通電處理裝置106中，與第一供電輥102接觸的被鍍材料32的金屬銀部16在通電處理槽130的電解液128中通過液中輥132進行輸送。通電處理槽130內的電解液128中設置有陽極104，以供電輥302作為陰極，通過直流電源134進行供電。由此，進行用于將被鍍材料32的金屬銀部16還原的通電處理。即，通過該通電處理來除去在被鍍材料32的金屬銀部16上形成的氧化物等(例如將Ag20、Ag2S還原成Ag)，從而將金屬銀部16活化。通過該通電處理，可以促進作為后續工序的非電解鍍覆中的鍍覆速度。第一供電輥102優選設置有金屬電極。此外，第一供電輥102的直徑優選為lcm20cm，特別優選為2cm10cm。而且，優選將第一供電輥102設置為距離電解液128的液面為5mm30cm的距離，特別優選為lcm5cm。在該范圍內時，可以減小從被鍍材料32與第一供電輥102的接點到電解液128的液面的距離La，從而可以抑制被鍍材料32的金屬銀部16在浸漬到電解液128之前的過程中的氧化等。作為特別優選的實施方式，第一供電輥102的位置可以為離液面不到lcm，也可以設置在電解液128的液面中，還可以設置在電解液128的溶液內。此時，可以進一步抑制在對被鍍材料32供電后被鍍材料32的金屬銀部16的氧化。從被鍍材料32的保持力和受損的方面考慮，第一供電輥102的表面粗糙度優選為lpm50^im，特別優選為2pm2(^m。這樣，在通電處理裝置106中經過通電處理后的被鍍材料32上形成的金屬銀部16的被鍍覆面形成鍍覆活性，在后續的鍍覆處理中不會出現鍍覆過度，能進行高速鍍覆，從而可以進行大量生產。另外，為了洗滌附著在被鍍材料32上的處理后的電解液128等，通電處理裝置106也可以具有洗滌裝置。第一供電輥102的材料可以使用SUS316、SUS316J1、SUS317、或SUS317L、或者在這些材料的表面覆蓋銅材后的材料。此外，第一供電輥102的表面經過放電加工。第一供電輥102的表面粗糙度Ry優選為5,以上但不足3(Him，更優選為10pm以上但不足25pm。此外，表面粗糙度Ra優選為0.55nm，更優選為12.5(im。這里，Ry、Ra是JISB0601-1994中規定的表面粗糙度。上述表面粗糙度Ry、Ra的測定通過Mitutoyo制的SJ-400來進行。彈性輥112的彈性體層116由硬度為1070度、厚度為約5mm的導電性橡膠形成。彈性體層116的硬度通過高分子計器株式會社制的ASKERC型進行測定。通過調整安裝在彈性輥112的彈簧材料122的背面側上的調整螺釘126的螺合位置，可以將被鍍材料32擠壓到第一供電輥102上的壓力設定成規定的值。第一供電輥102和彈性輥112的夾持部的壓力優選為0.20.6MPa，更優選為0.30.5MPa。該壓力可以用雙片型(twosheettype)的極超低壓用的富士感壓膠片PRESCALE(富士膠片株式會社制)進行測定。該富士感壓膠片PRESCALE由兩種薄膜構成，一個薄膜在支撐體上涂布有發色劑(微膠囊)，另一個薄膜上涂布有顯色劑，發色劑層的微膠囊由夾持部的壓力而被破壞，其中的發色劑被顯色劑吸附，通過化學反應顯出紅色。通過將彈性輥112向第一供電輥102側擠壓，被鍍材料32與第一供電輥102能大致均勻接觸。第一供電輥102與彈性輥112的夾持部的壓力小于0.2MPa時，被鍍材料32與第一供電輥102難以大致均勻接觸。此外，夾持部的壓力大于0.6MPa時，第一供電輥102與彈性輥112之間的被鍍材料32的輸送阻力增大，難以穩定輸送被鍍材料32。[非電解鍍覆處理裝置108]非電解鍍覆處理裝置108是對形成有細線狀的金屬銀部16的被鍍材料32實施非電解鍍覆處理，在金屬銀部16上負載導電性微粒，從而形成第一鍍覆層20的裝置。具體地說，非電解鍍覆處理裝置108包括充滿第一鍍液136的第一鍍浴槽138和設置在該第一鍍浴槽138內的多根(本實施方式為2根)支撐輥140，并且在第一鍍浴槽138內水平輸送被鍍材料32。此外，在非電解鍍覆處理裝置108中設置有多根輸送支撐輥142、144，該多個輸送支撐輥142、144用于支撐并輸送進入第一鍍浴槽138的鍍液前和進入鍍液后的被鍍材料32。在第一鍍浴槽138內的支撐輥140、140之間進行水平輸送的被鍍材料32的下部，沿著被鍍材料32的輸送路線設置有向被鍍材料32噴射微細氣泡氣液混合流體的多個噴射部件146。該微細氣泡氣液混合流體(含有微細氣泡的鍍液)為第一鍍液136和空氣的混合流體，還設置有用于向噴射部件146供給該微細氣泡氣液混合流體的氣液混合供給裝置148。氣液混合供給裝置148具有由第一鍍浴槽138和隔板150分隔出來的供給部152的底部與多個噴射部件146相連接的管154。循環泵156、過濾器158設置在管154上。此外，氣液混合供給裝置148在第一鍍浴槽138的上部具有氣泡分離槽160，具有將第一鍍浴槽138的底部通過氣泡分離槽160與供給部152相連接的管162、164。循環泵166、氣液混合器168設置在管162上。這樣，通過氣液混合器168后的微細氣泡氣液混合流體經由管162供給到氣泡分離槽160。管162與氣泡分離槽160的底部連接。在氣泡分離槽160內在不露出液面的位置上設置有擋板170。夾著擋板170且與氣泡分離槽160的底部相連接的管164從上方插入到供給部152內。微細氣泡氣液混合流體經由管162從底部供給到氣泡分離槽160，從而微細氣泡氣液混合流體中所含的氣泡浮到液面上。由此，氣泡從微細氣泡氣液混合流體中分離，氣泡分離后的微細氣泡氣液混合流體越過擋板170并經由與氣泡分離槽160的底部相連接的管164供給到供給部152。供給到供給部152的微細氣泡氣液混合流體經由與供給部152的底部相連接的管154并通過過濾器158后，供給到多個噴射部件146中。然后，微細氣泡氣液混合流體從多個噴射部件146噴出到被鍍材料32上。被鍍材料32被輸送到第一鍍浴槽138的第一鍍液136中時，在被鍍材料32的金屬銀部16上實施非電解鍍覆處理。此外，通過噴射微細氣泡氣液混合流體，第一鍍浴槽138內的第一鍍液136被攪拌混合，從而實現鍍液的均勻化。[電鍍處理裝置110]接著，電鍍處理裝置110如圖7所示，是能在長條的被鍍材料32(形成了第一鍍覆層20的材料)上連續進行電鍍銅處理的裝置。圖中的箭頭表示被鍍材料32的輸送方向。電鍍處理裝置110具有儲存第二鍍液172的第二鍍浴槽174。在第二鍍浴槽174中平行設置有一對銅陽極板176a和176b。在各銅陽極板176a和176b的內側設置有與該一對銅陽極板176a、176b平行的、可轉動的一對導向輥178a、178b。一對導向輥178a、178b在垂直方向上能移動，由此可以調整被鍍材料32的鍍覆處理時間。在將被鍍材料32引導到第二鍍浴槽174中的同時將電流供給至被鍍材料32的一對第二供電輥180a、180b(陰極)分別以可自由旋轉的方式設置在第二鍍浴槽174的上方。此外，在第二鍍浴槽174的上方，在出口側的第二供電輥180b的下方可轉動地設置有除液輥182，在該除液輥182與出口側的第二供電輥180b之間設置有用于從被鍍材料32中除去鍍液的水洗用噴霧器(圖中未示)。一對銅陽極板176a以及176b通過電線(圖中未示)與電源裝置(圖中未示)的正極端子相連，一對第二供電輥180a、180b與電源裝置(圖中未示)的負極端子相連。將被鍍材料32安裝在電鍍處理裝置110中，使得將被鍍材料32的第一鍍覆層20側的面(篩目面)朝下(銀篩目面與一對第二供電輥180a、180b接觸)。另外，作為一對第二供電輥180a、180b，使用在經過鏡面精加工的不銹鋼制輥(10cmcp，長度70cm)的表面上實施了O.lmm厚的電鍍銅處理的輥。作為一對導向輥178a、178b以及其它的輸送輥，使用沒有鍍銅的5cmcp、長度70cm的輥。此外，通過調節一對導向輥178a、178b的高度，即使線速度不同，也能確保恒定的溶液中的處理時間。此外，入口側的第二供電輥180a與被鍍材料32的篩目面相接觸的面的最下部與鍍液液面的距離(圖7所示的距離Lb)為10cm。出口側的第二供電輥180b與被鍍材料32的篩目面相接觸的面的最上部與鍍液液面的距離(圖7所示的距離Lc)為20cm。[電鍍處理裝置lll]接著，電鍍處理裝置111如圖8所示，是能在長條的被鍍材料32(實施至第二鍍覆層22的材料)上連續進行電鍍黑化處理的裝置?；窘Y構與圖7所示的電鍍處理裝置110相同。因此，對于與圖7對應的部件用相同的符號標記，并省略其說明。圖8中只顯示了相比處理裝置110的變化點，該變化點可以舉出鍍浴槽174中儲存第三鍍液192、以及鍍浴槽174內的一對陽極板186a、186b的材料為用于黑化鍍覆的材料的金屬板。例如，還優選在進行鎳-鋅系電鍍黑化時，以一對陽極板186a、186b的材料作為溶出性的金屬鎳板，通過補充液將第三鍍液192中的金屬組成比控制為恒定來進行電鍍。根據如上所述，經過電鍍銅以及電鍍黑化處理的被鍍材料32在經過干燥處理后進行巻取。由此可以得到本實施方式的導電性材料10。如上所述，被鍍材料32的金屬銀部16上形成有第一鍍覆層20、第二鍍覆層22以及第三鍍覆層23。金屬銀部16相對于該導電性金屬部中含有的金屬的總質量，優選含有50質量％以上的銀，更優選含有60質量％以上的銀。此外，金屬銀部16、第一鍍覆層20、第二鍍覆層22以及第三鍍覆層23(導電性金屬部)的金屬總質量相對于該導電性金屬部的總質量優選為80質量％以上，更優選為卯質量％以上。在以上說明的本實施方式的導電性材料的制造裝置中，作為被鍍材料32，使用在透明支撐體上設置有鹵化銀鹽乳劑層28的材料，在該鹵化銀鹽乳劑層28上進行曝光、顯影而形成所希望的形狀的金屬銀部16。由于該金屬銀部16是在鹵化銀鹽乳劑層28上進行曝光、顯影而形成的，從而可以得到由非常細的細線圖案化而成的金屬銀部16。對這樣的被鍍材料32進行鍍覆處理時，在金屬銀部16上負載導電性粒子，從而形成導電性金屬部。由此，得到的電磁波屏蔽材料具有由非常細的細線圖案化而成的細線狀金屬部和大面積的透光部18。<透光性電磁波屏蔽膜>使用如上所述制造的導電性材料的本發明的透光性電磁波屏蔽膜中的支撐體的厚度優選為5200|im，更優選為30150|am。只要在520(Vm的范圍內，就可以得到所需要的可見光的透過率，且易于操作。在物理顯影和/或鍍覆處理之前，在支撐體體上設置的金屬銀部的厚度可以根據在支撐體上涂布的含銀鹽層用涂料的涂布厚度來適當地確定。金屬銀部的厚度優選為30pm以下，更優選20nm以下，進一步優選為0.019pm，最優選為0.055pm。此外，金屬銀部優選為圖案狀。金屬銀部可以是一層，也可以是兩層以上的多層結構。在金屬銀部為圖案狀且為兩層以上的多層結構時，可以賦予不同的感色性，從而可以在不同波長下感光。因此，改變曝光波長曝光時，各層可以形成不同的圖案。包含由此形成的多層結構的圖案狀金屬銀部的透光性電磁波屏蔽膜可以用作高密度印刷電路板。在用作顯示器的電磁波屏蔽材料的情況下，導電性金屬部的厚度越小，顯示器的視野角越大，因此優選。另外，在用作導電性布線材料的情況下，為了高密度化，需要制成薄膜。從該觀點出發，導電性金屬部上負載的導電性金屬形成的層的厚度優選為小于9(im，更優選為O.lpm以上但小于5nm，進一步優選為0.1nm以上但小于3nm。在本發明中，通過控制上述含銀鹽層的涂布厚度，可以形成所需厚度的金屬銀部，而且通過物理顯影和/或鍍覆處理，可以自由控制由導電性金屬粒子形成的層的厚度，因此，即使是厚度小于5jim、優選小于3pm的透光性電磁波屏蔽膜，也可以容易地形成。另外，在利用蝕刻的光刻法中，金屬薄膜的大部分需要通過蝕刻除去、廢棄，但是，本發明由于可以在支撐體上設置僅含必要量的導電性金屬的圖案，因此，僅使用必要最低限的金屬量即可，從而對制造成本的降低和金屬廢棄物量的減少都有好處。(粘接劑層)由本發明的導電性材料形成的電磁波屏蔽膜在組裝到濾光器、液晶顯示面板、等離子體顯示面板、其它圖像顯示平板、或者CCD所代表的攝像用半導體集成電路等中時，可以通過粘接劑層進行接合。粘接劑層中的粘接劑的折射率優選為1.401.70。這是因為根據本發明中使用的塑料薄膜等透明基材與粘接劑的折射率的關系，通過使其差減小，可以防止可見光透過率降低，因此，折射率在1.401.70的范圍內時，可見光透過率的下降少，是良好的。此外，粘接劑優選為通過加熱或加壓產生流動的粘接劑。特別優選通過200。C以下的加熱或1Kgf/cr^以上的加壓而表現出流動性的粘接劑。通過使用這種粘接劑，可使粘接劑層流動，從而可以將在該粘接劑層中埋設有導電層的本發明的電磁波屏蔽膜粘接到作為被粘接體的顯示器或塑料板上。由于可以流動，通過容易地將電磁波屏蔽膜在被粘接體上層疊或加壓成形，特別是通過加壓成形，還可以將電磁波屏蔽膜容易地粘接到具有曲面或復雜形狀的被粘接體上。由此，優選粘接劑的軟化溫度為20(TC以下。由于電磁波屏蔽膜通常用在溫度低于8(TC的環境下，因此，粘接劑層的軟化溫度優選為8(TC以上，考慮到加工性，最優選為80120°C。軟化溫度是指粘度變為1012泊以下的溫度，通常在該溫度下在110秒左右的時間內可以觀察到流動。作為上述的通過加熱或加壓而產生流動的粘接劑，主要可以舉出以下述的熱塑性樹脂為代表的物質。例如可以使用天然橡膠(折射率n-1.52)、聚異戊二烯(n-1.521)、聚1，2-丁二烯(11=1.50)、聚異丁烯(n-1.5051.51)、聚丁烯(11=1.513)、聚-2-庚基-1,3-丁二烯(11=1.50)、聚-2-叔丁基-l,3-丁二烯(n=1.506)、聚-l，3-丁二烯(n-1.515)等(二)烯類；聚氧乙烯(『1.456)、聚氧丙烯(n-1.450)、聚乙烯基乙基醚(『1.454)、聚乙烯基己基醚(n-1.459)、聚乙烯基丁基醚(n-1.456)等聚醚類；聚乙酸乙烯酯0=1.467)、聚丙酸乙烯酯(n二1.467)等聚酯類；聚氨酉旨(n-1.51.6);乙基纖維素(11=1.479);聚氯乙烯(n=1.541.55);聚丙烯腈(n-1.52);聚甲基丙烯腈(n-1.52);聚砜(n-1.633);聚硫化物(n-1.6);苯氧基樹月旨(n-1.51.6);聚丙烯酸乙酯(n4.469)、聚丙烯酸丁酯(n-1.466)、聚丙烯酸2-乙基己酯(n-1.463)、聚丙烯酸叔丁酯(n=1.464)、聚丙烯酸3-乙氧基丙酯(n-1.465)、聚氧羰基四亞甲基(polyoxycarbonyitetramethyene)(n=1.465)、聚丙烯酸甲酯(n-1.4721.480)、聚甲基丙烯酸異丙酯(『1.473)、聚甲基丙烯酸十二烷酯(11=1.474)、聚甲基丙烯酸十四垸酉旨(11=1.475)、聚甲基丙烯酸正丙酯(11=1.484)、聚甲基丙烯酸3,3,5-三甲基環己酯(n-1.484)、聚甲基丙烯酸乙酯(11=1.485)、聚甲基丙烯酸2-硝基-2-甲基丙酯(n-1.487)、聚甲基丙烯酸l，l-二乙基丙酯(n=1.489)、聚甲基丙烯酸甲酯(n-1.489)等聚(甲基)丙烯酸酯。這些丙烯酸聚合物也根據需要可以兩種以上共聚或者兩種以上混合使用。另外，作為丙烯酸樹脂與丙烯酸以外的物質的共聚樹脂，還可以使用環氧丙烯酸酯(11=1.481.60)、聚氨酯丙烯酸酯(11=1.51.6)、聚醚丙烯酸酯(n=1.481.49)、聚酯丙烯酸酯(11=1.481.54)等。從粘接性的觀點來看，特別優選聚氨酯丙烯酸酯、環氧丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯。作為環氧丙烯酸酯，可以舉出1,6-己二醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、烯丙醇二縮水甘油醚、間苯二酚二縮水甘油醚、己二酸二縮水甘油酯、鄰苯二甲酸二縮水甘油酯、聚乙二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、甘油三縮水甘油醚、季戊四醇四縮水甘油醚、山梨糖醇四縮水甘油醚等(甲基)丙烯酸加成物。環氧丙烯酸酯等在分子中具有羥基的聚合物對于提高粘接性是有效的。根據需要，這些共聚樹脂可以兩種以上并用。從處理性的觀點來看，這些作為粘接劑的聚合物的軟化溫度優選為20(TC以下，更優選為15(TC以下。由于透光性電磁波屏蔽膜通常用在溫度為80。C以下的環境下，因此考慮到加工性，粘接劑層的軟化溫度最優選為8012(TC。另外，聚合物的重均分子量(用由凝膠滲透色譜法得到的標準苯乙烯校正曲線測定得到，以下相同)優選為500以上。分子量小于500時，粘接劑組合物的凝聚力過低，從而有可能對被粘接體的粘附性降低。根據需要，在本發明使用的粘接劑中可以加入稀釋劑、增塑劑、抗氧化劑、填充劑、著色劑、紫外線吸收劑或增粘劑等添加劑。粘接劑層的厚度優選為1080pm，特別優選不小于導電層的厚度且為205(Him。此外，在透明塑料基材通過粘接層與導電性材料層疊時，粘接層與覆蓋幾何圖形的粘接劑的折射率差調節為0.14以下。這是因為，當透明塑料基材與粘接劑的折射率或粘接劑與粘接層的折射率有不同時，可見光透過率降低，因此折射率的差為0.14以下時，可見光透過率的降低少，是良好的。作為滿足這樣條件的粘接劑的材料，在透明塑料基材為聚對苯二甲酸乙二醇酯(11=1.575;折射率)的情況下，可以使用雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、四羥基苯基甲垸型環氧樹脂、清漆型環氧樹脂、間苯二酚型環氧樹脂、多元醇/聚二醇型環氧樹脂、聚烯烴型環氧樹脂、脂環式或鹵代雙酚等環氧樹脂(折射率均為1.551.60)。作為環氧樹脂之外的例子，可以舉出天然橡膠(n-1.52)、聚異戊二烯(11=1.521)、聚1，2-丁二烯(11=1.50)、聚異丁烯(11=1.5051.51)、聚丁烯(11=1.5125)、聚-2-庚基-l，3-丁二烯(n-1.50)、聚-2-叔丁基-1，3-丁二烯(11=1.506)、聚-1,3-丁二烯(11=1.515)等(二)烯類；聚氧乙烯(n-1.4563)、聚氧丙烯(11=1.4495)、聚乙烯基乙基醚(11=1.454)、聚乙烯基己基醚(11=1.4591)、聚乙烯基丁基醚(n-1.4563)等聚醚類；聚乙酸乙烯酯(n=1.4665)、聚丙酸乙烯酉旨(n-1.4665)等聚酯類；聚氨酉旨(n二1.51.6);乙基纖維素(11=1.479);聚氯乙烯(11=1.541.55);聚丙烯腈(n-1.52);聚甲基丙烯月青(n-1.52);聚砜(n-1.633);聚硫化物(n-1.6);苯氧基樹脂(n-1.51.6)等。這些粘接劑表現出合適的可見光透過率。另外，在透明塑料基材為丙烯酸樹脂的情況下，除了上述樹脂之外，還可以使用聚丙烯酸乙酯(n-1.4685)、聚丙烯酸丁酯(『1.466)、聚丙烯酸2-乙基己酯(『1.463)、聚丙烯酸叔丁酉旨(『1.4638)、聚丙烯酸3-乙氧基丙酯(『1.465)、聚氧羰基四亞甲基(『1.465)、聚丙烯酸甲酯(11=1.4721.480)、聚甲基丙烯酸異丙酯(11=1.4728)、聚甲基丙烯酸十二烷酯(11=1.474)、聚甲基丙烯酸十四烷酉旨(『1.4746)、聚甲基丙烯酸正丙酯(n-1.484)、聚甲基丙烯酸3，3，5-三甲基環己酉旨(11=1.484)、聚甲基丙烯酸乙酯(n=1.485)、聚甲基丙烯酸2-硝基-2-甲基丙酯(ii-1.4868)、聚甲基丙烯酸四羰基酯(11=1.4889)、聚甲基丙烯酸U-二乙基丙酯(n^.4889)、聚甲基丙烯酸甲酯(11=1.4893)等聚(甲基)丙烯酸酯。根據需要，這些丙烯酸聚合物可以兩種以上共聚或者兩種以上混合使用。另外，作為丙烯酸樹脂與丙烯酸以外的物質的共聚樹脂，還可以使用環氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯等。從粘接性的觀點來看，特別優選環氧丙烯酸酯和聚醚丙烯酸酯。作為環氧丙烯酸酯，可以舉出1,6-己二醇二縮水甘油醚、新戊二醇二縮水甘油醚、烯丙醇二縮水甘油醚、間苯二酚二縮水甘油醚、己二酸二縮水甘油酯、鄰苯二甲酸二縮水甘油酯、聚乙二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙烷三縮水甘油醚、甘油三縮水甘油醚、季戊四醇四縮水甘油醚、山梨糖醇四縮水甘油醚等(甲基)丙烯酸加成物。由于環氧丙烯酸酯在分子中具有羥基，因此對于提高粘接性是有效的。根據需要，這些共聚樹脂可以兩種以上并用。作為粘接劑的主要成分的聚合物的重均分子量優選為1000以上。當分子量小于1000時，組合物的凝聚力過低，因此對被粘接體的粘附性降低。作為粘接劑的固化劑，可以使用三亞乙基四胺、二甲苯二胺、二氨基二苯基甲烷等胺類、鄰苯二甲酸酐、馬來酸酐、十二垸基琥珀酸酐、均苯四甲酸酐、二苯甲酮四羧酸酐等酸酐、二氨基二苯砜、三(二甲氨基甲基)苯酚、聚酰胺樹脂、二氰基二酰胺、乙基甲基咪唑等。它們可以單獨使用也可以兩種以上混合使用。這些交聯劑的添加量可以在相對于100重量份的上述聚合物為0.150重量份，優選為130重量份的范圍內選擇。該添加量小于0.1重量份時，固化不充分，超過50重量份時，有時會發生過度交聯，會對粘接性產生不良影響。根據需要，在本發明使用的粘接劑的樹脂組合物中可以加入稀釋劑、增塑劑、抗氧化劑、填充劑、增粘劑等添加劑。而且，該粘接劑的樹脂組合物為了覆蓋在透明塑料基材的表面上設置了由導電性材料描繪的幾何圖形的構成材料的基材的一部分或整個面，在經過涂布、溶劑干燥、加熱固化工序后，形成本發明的粘接薄膜。上述得到的具有電磁波屏蔽性和透明性的粘接薄膜通過該粘接薄膜的粘接劑直接粘貼到CRT、PDP、液晶、EL等的顯示器上使用，也可以粘貼到丙烯酸樹脂板或玻璃板等板或片上，然后用于顯示器中。此外，該粘接薄膜可以與上述同樣地用于用來觀察發射電磁波的測量裝置、測量儀器或制造裝置的內部的窗或框體。而且，可以設在有可能受到來自電波塔或高壓線等的電磁波干擾的建筑物窗戶或汽車窗戶等中。另外，優選在用導電性材料描繪的幾何圖形中具有接地線。透明塑料基材上的除去了導電性材料的部分為了提高粘附性而特意設置凹凸、或者將導電性材料的背面形狀進行轉印，從而在該部分的表面上光發生散射，使得透明性受到影響。但是，在該凹凸面上平滑地涂布折射率與透明塑料基材接近的樹脂時，漫反射被限制到最小限，并表現出透明性。另外，透明塑料基材上的由導電性材料描繪的幾何圖形由于線寬非常小，因此無法用肉眼識別。此外，由于間距也足夠大，從而在表觀上表現出透明性。另一方面，由于幾何圖形的間距比需要屏蔽的電磁波的波長小很多，從而表現出優良的屏蔽性。如特開2003-188576號公報所示，在將熱熔融粘合性高的乙烯-乙酸乙烯酯共聚樹脂或離聚物樹脂等熱熔融粘合性樹脂的薄膜單獨或與其它樹脂薄膜層疊后作為透明基材薄膜時，透明基材薄膜與金屬箔的層疊也可以不設置粘接劑層來進行。但一般通過使用了粘接劑層的干式層疊法等來進行層疊。作為構成粘接劑層的粘接劑，可以舉出丙烯酸樹脂、聚酉,樹脂、聚氨酯樹脂、聚乙烯醇樹脂、氯乙烯/乙酸乙烯酯共聚樹脂、乙烯/乙酸乙烯酯共聚樹脂等粘接劑。此外，還可以使用熱固性樹脂或電離射線固化性樹脂(紫外線固化性樹脂、電子射線固化性樹脂等)。由于顯示器的表面通常是玻璃制的，因此，在使用粘合劑進行的粘貼是透明塑料薄膜與玻璃板，從而存在以下問題在粘接面產生氣泡或發生剝離，從而圖像變形，顯示色與顯示器本應顯示的顏色不同等。此外，氣泡和剝離問題均由粘接劑從塑料薄膜或玻璃板的剝離而引起。這種現象在塑料薄膜側或玻璃板側都有可能發生，是在粘附力更小的一側發生剝離。因此，高溫下的粘接劑與塑料薄膜和玻璃板的粘附力必須高。具體而言，優選塑料薄膜和玻璃板與粘接劑層的粘附力在80'C下為10g/cm以上，更優選30g/cm以上。然而，超過2000g/cm的粘接劑的貼貼操作困難，因此有時不優選，但是，在不發生該問題的情況下，可以沒有問題地使用。另外，還可以在該粘接劑的沒有與透明塑料薄膜相對的部分上設置襯紙(隔板)，使得該部分不與其它部分相接觸。粘接劑優選為透明的。具體地說，總透光率優選為70%以上，更優選為80°/。以上，最優選為8592%。而且，粘接劑優選霧度低。具體地說，霧度優選為03%，更優選為01.5%。為了使顯示器本應顯示的顏色不發生變化，本發明使用的粘接劑優選為無色的。然而，即使樹脂本身有顏色的，在粘接劑的厚度較小時，實際上也可視為無色。此外，后述的特意進行著色的情況也同樣地不在上述范圍內。作為具有上述特性的粘接劑，可以舉出例如丙烯酸系樹脂、a-烯烴樹脂、乙酸乙烯酯系樹脂、丙烯酸共聚物系樹脂、聚氨酯系樹脂、環氧系樹脂、偏氯乙烯系樹脂、氯乙烯系樹脂、乙烯-乙酸乙烯酯系樹脂、聚酰胺系樹脂、聚酯系樹脂等。其中，優選丙烯酸系樹脂。即使使用相同樹脂的情況下，在通過聚合法合成粘接劑時，通過降低交聯劑的加入量、加入增粘材料、改變分子末端基等的方法，也可以提高粘接性。此外，即使在使用相同粘接劑的情況下，通過將粘貼粘接劑的面、即透明塑料薄膜或玻璃板的表面進行改性，也可以提高粘附性。作為這樣的表面改性的方法，可以舉出電暈放電處理、等離子體輝光處理等物理方法、以及形成用于提高粘附性的底涂層等的方法。從透明性、無色性和處理性的觀點來看，粘接劑層的厚度優選為550lam左右。在使用粘接劑形成粘接劑層時，其厚度也可以在上述范圍內減小，具體地說，為l20pm左右。但是，在如上所述不會使顯示器本應顯示的顏色發生變化、且透明性也在上述范圍內的情況下，粘接劑層的厚度也可以超出上述范圍。(可剝離的保護薄膜)在由本發明的導電性材料形成的電磁波屏蔽膜上可以設置可剝離的保護薄膜。保護薄膜無須在電磁波屏蔽膜的兩面上都存在。如特開2003-188576號公報的圖2(a)所示，可以僅在層疊體(10)的篩目狀的金屬箔(11，)上設置保護薄膜(20)，而在透明基材薄膜(14)側上沒有設置。此外，如上述特開2003-188576號公報的圖2(b)所示，也可以僅在層疊體(10)的透明基材薄膜(14)側上設置保護薄膜(30)，而在金屬箔(ll')上沒有設置。另外，上述帶括號的參考符號為與參考的公報的部件相對應的參考符號。以下相同。引用上述特開2003-188576號公報的圖3(a)(f)對至少將電磁波屏蔽膜的透明支撐體12以及由緊密排列有開口部的篩目狀的篩目圖案形成的具有透明性的電磁波屏蔽層進行層疊而構成的層疊體的層結構以及層疊體的制造工藝進行說明。另外，在說明層疊體的制造工藝之后，再對保護薄膜(保護薄膜(20)和/或保護薄膜(30))的層疊進行說明。首先，如上述公報的圖3(a)所示，準備將透明基材薄膜(14)(透明支撐體12)和金屬箔(11)通過粘接劑層(13)進行層疊而成的層疊體。作為透明基材薄膜(14)，可以使用丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚丙烯樹脂、聚乙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚酯樹脂、纖維素系樹脂、聚砜樹脂、或聚氯乙烯樹脂等的薄膜。通常，優選使用機械強度優良、透光性高的聚對苯二甲酸乙二醇酯樹脂等聚酯樹脂的薄膜。透明基材薄膜(14)的厚度沒有特別限制，但從具有機械強度和增大對彎折的抵抗性的觀點來看，優選為5(Him20(^m左右，而且厚度也可以進一步增加。但是，在將電磁波屏蔽用片(1)(透光性電磁波屏蔽膜10)與其它透明基板層疊后使用時，厚度未必在上述范圍內，可以是上述范圍以上的厚度。根據需要，透明基材薄膜(14)的一面或兩面可以實施電暈放電處理、或設置易粘接層。如在后引用上述特開2003-188576號公報的圖4所說明的那樣，電磁波屏蔽用片(1)在通過紅外線阻斷過濾層等在基板上層疊了上述層疊體的材料的正反面上進一步層疊具有強化最外面、賦予防反射性、賦予防污性等效果的片來使用時，上述保護薄膜在進行上述的進一步層疊時必須剝離，因此，保護薄膜在金屬箔側的層疊優選為所謂的可剝離。保護薄膜層疊在金屬箔上時的剝離強度優選為5mN/25mm寬度5N/25mm寬度，更優選10mN/25mm寬度100mN/25mm寬度。剝離強度低于上述下限時，剝離過于容易，在處理中或由于非故意接觸可能會剝離保護薄膜，因此不優選。此外，剝離強度超過上述上限時，需要較大的力進行剝離，而且在剝離時有可能會使篩目狀的金屬箔從透明基材薄膜(或者粘接劑層)剝離，因此也不優選。在本發明的電磁波屏蔽膜中，在篩目狀的金屬箔通過粘接劑層層疊在透明支撐體12上而成的層疊體(可以沒有黑化層)的下表面側、即透明支撐體12側上層疊的保護薄膜用于保護透明支撐體12的下表面，以使其免受處理中或由于非故意接觸造成的損傷，此外在金屬箔上設置抗蝕劑層并進行蝕刻的各工序中，特別是在蝕刻時避免透明支撐體12的露出面被污染或者腐蝕。與上述保護薄膜的情況同樣，該保護薄膜也需要在層疊體的進一步層疊時進行剝離，因此，保護薄膜對透明支撐體12側的層疊也優選為可進行剝離。剝離強度與保護薄膜相同，優選為5mN/25mm寬度5N/25mm寬度，更優選為10mN/25mm寬度100mN/25mm寬度。剝離強度低于上述下限時，剝離過于容易，在處理中或由于非故意接觸可能會剝離保護薄膜，因此不優選。此外，剝離強度超過上述上限時，需要較大的力進行剝離。層疊在透明支撐體12側的保護薄膜優選對蝕刻條件有抵抗性，例如，當在約5(TC的蝕刻液、特別是其堿性成分中浸漬幾分鐘時不會腐蝕；或者優選在干式蝕刻時，保護薄膜對約10(TC的溫度條件有耐受性。此外，在層疊感光性樹脂層時，將層疊體進行浸漬涂布時，涂布液也會附著在層疊體的相反面上，因此為了使得在進行蝕刻等的工序時感光性樹脂不會剝離而漂浮到蝕刻液中，優選獲得感光性樹脂的粘附力。在使用蝕刻液時，優選對含有氯化鐵、氯化銅等的蝕刻液所導致的污染有耐受性，或對堿性溶液等抗蝕劑除去溶液所導致的腐蝕或污染等有耐受性。為滿足上述各點，作為構成保護薄膜的薄膜，優選使用作為聚烯烴樹脂的聚乙烯樹脂或聚丙烯樹脂；聚對苯二甲酸乙二醇酯樹脂等聚酯樹脂；聚碳酸酯樹脂；丙烯酸酯樹脂等的樹脂薄膜。此外，從上述觀點來看，優選至少將保護薄膜的用于層疊體時作為最表面的一側的面上進行電暈放電處理，或者層疊易粘接層。另外，作為構成保護薄膜的粘接劑，可以使用丙烯酸酯系、橡膠系或有機硅系的粘接劑。上述的用于保護薄膜的薄膜的材料和粘接劑的材料也可以直接適用于用在金屬箔側的保護薄膜，因此，作為兩個保護薄膜，可以使用不同的薄膜或相同的薄膜。[濾光器]本發明的濾光器除了上述透光性電磁波屏蔽膜之外，還可以具有帶有復合功能層的功能性薄膜。(復合功能層)在顯示器中，照明裝置等的反射會使得顯示畫面難以看清，因此，功能性薄膜需要具有用于防止外部光反射的防反射(AR:防反射)性、或者防止鏡像反射的防眩(AG:防眩)性、或具備這兩種特性的防反射防眩(ARAG)性能的任一種功能。濾光器表面的可見光反射率低時，不僅可以防止反射，而且還可以提高對比度等。具有防反射性的功能性薄膜具有防反射膜。具體地說，有在可見區域中的折射率低至1.5以下，優選低至1.4以下的氟系透明高分子樹脂、氟化鎂、硅樹脂或氧化硅的薄膜等以例如1/4波長的光學膜厚形成為單層的膜，通過將兩層以上的折射率不同的金屬氧化物、氟化物、硅化物、氮化物、硫化物等無機化合物或者硅樹脂、丙烯酸樹脂、氟系樹脂等有機化合物的薄膜進行多層層疊而制得的膜，但是并不限定在這些。具有防反射性的功能性薄膜的表面的可見光反射率為2%以下，優選為1.3%以下，更優選為0.8%以下。具有防眩性的功能性薄膜具有防眩膜，該防眩膜在表面上具有0.1pm10nm左右的微小凹凸，且對可見光是透明的。具體地說是在丙烯酸系樹脂、硅系樹脂、三聚氰胺系樹脂、聚氨酯系樹脂、醇酸系樹脂、氟系樹脂等熱固化型或者光固化型樹脂上分散氧化硅、有機硅化合物、三聚氰胺或丙烯酸等無機化合物或有機化合物的粒子而制成油墨，然后將該油墨涂布到基體上并固化。粒子的平均粒徑為14(Him。此外，也可以通過在基體上涂布上述熱固化型或者光固化型樹脂，并在具有所需的光澤或表面狀態的模具上擠壓固化，從而得到防眩性。但是，本發明并不限定于這些方法。具有防眩性的功能性薄膜的霧度值為0.5%~20%，優選為1%~10%。當霧度值過低時，不能得到充分的防眩性，在霧度值過大時，透過圖像的清晰度有降低的傾向。為賦予濾光器以耐擦傷性，功能性薄膜還優選具有硬涂性。作為硬涂膜，可以舉出丙烯酸系樹脂、硅系樹脂、三聚氰胺系樹脂、聚氨酯系樹脂、醇酸系樹脂、氟系樹脂等熱固化型或者光固化型樹脂等，但是其種類以及形成方法都沒有特別的限定。這些膜的厚度為150pm左右。具有硬涂性的功能性薄膜的表面硬度以根據JIS(K-5400)測量的鉛筆硬度表示，至少為H，優選為2H，更優選為3H以上。在硬涂膜上形成防反射薄膜和/或防眩膜時，可以得到具有耐擦傷性、防反射性和/或防眩性的功能性薄膜，是優選的。由于靜電荷的原因，灰塵容易附著到濾光器上。此外，當與人體接觸時，濾光器有時會放電而使人體受到電擊，因此，有時需要進行防靜電處理。因而，為了賦予防靜電性能，功能性薄膜還可以具有導電性。在這種情況下要求的導電性以表面電阻率表示，為10"Q/sq左右以下即可。作為賦予導電性的方法，可以舉出使薄膜含有防靜電劑的方法或形成導電層的方法。作為防靜電劑，具體可以舉出商品名Pelestat(三洋化成公司制)、商品名工l/夕卜口7]J、乂八°一(花王公司制)等。作為導電層，可以舉出公知的以ITO為代表的透明導電膜和分散有以ITO超微粒子或氧化錫超微粒子為代表的導電性超微粒子的導電膜。硬涂膜、防反射膜或防眩膜優選具有導電膜或含有導電性微粒。、功能性薄膜的表面具有防污性時，可以防止指紋等污垢，并且在有污招時，也可以容易地除去，因此優選。作為具有防污性的物質，可以舉出對水和/或油脂為非潤濕性的物質，例如氟化合物或硅化合物。作為含氟系防污劑，具體可以舉出商品名Optool(Daikin公司制)等，作為硅化合物具體可以舉出商品名TAKATAQUANTUM(日本油脂公司制)等。在防反射膜中使用這些具有防污性的層時，可以得到具有防污性的防反射膜，從而優選。為了防止后述的色素和高分子薄膜的劣化等，功能性薄膜優選具有紫外線阻斷性能。具有紫外線阻斷性能的功能性薄膜可以舉出通過后述的使上述高分子薄膜含有紫外線吸收劑或賦予紫外線吸收薄膜的方法。當濾光器用于溫度和濕度高于常溫常濕的環境中時，存在以下情況由于水分透過薄膜使后述的色素劣化；由于在用于粘貼中的粘合材料中或粘貼界面上水分凝集而產生模糊；或者粘合材料中的增粘劑等在水分的影響下發生相分離而析出，產生模糊，因此，功能性薄膜優選具有氣體阻隔性能。為了防止這樣的色素劣化或模糊，防止水分侵入到含色素的層或粘合材料層中是非常重要的，因此，功能性薄膜的水蒸氣透過度為10g/mt天以下，優選為5g/n^天以下。在本實施方式中，可以通過對可見光透明的任意的粘合材料或粘接劑(第一透光性粘合材料層以及第二透光性粘合材料層)來將高分子薄膜、導電篩目層、功能性薄膜和在需要時使用的后述的透明成型物進行粘貼。作為粘合材料或粘接劑(第一透光性粘合材料層以及第二透光性粘合材料層)，具體可以舉出丙烯酸系粘接劑、硅系粘接劑、聚氨酯系粘接劑、聚乙烯基丁縮酸粘接劑(PVB)、乙烯-乙酸乙烯酯系粘接劑(EVA傳、聚乙烯基醚、飽和無定形聚酯、三聚氰胺樹脂等，在實際應用中只要具有粘接強度，可以是片狀，也可以是液態。粘合材料可以優選使用片狀的壓敏型粘接劑。在粘貼片狀粘合材料后或涂布粘接劑之后，將各部件進行層疊從而粘貼。液態的粘接劑是在涂布和粘貼后，通過在室溫下放置或加熱而固化的粘接劑。作為涂布方法，可以舉出棒涂法、逆涂法(reversecoating)、凹版涂布法、口模涂布法、輥涂法等，可以根據粘接劑的種類、粘度、涂布量等進行選擇。粘接劑層的厚度沒有特別限制，可以是0.5pm5(Him，優選為l|im30|am。優選對形成粘合材料層的面和粘貼的面預先進行易粘接涂布或電暈放電處理等易粘接處理，從而提高潤濕性。在本發明中，上述對可見光透明的粘合材料或粘接劑被稱為透光性粘合材料。在本實施方式中，在將功能性薄膜粘貼到導電性篩目層上時，特別使用第一透光性粘合材料層。作為用于第一透光性粘合材料層的透光性粘合材料的具體例，可以與上述相同，但是，其厚度必須能充分埋入導電性篩目層的凹部。導電性篩目層的厚度過薄時，埋入不充分，會產生間隙，從而在凹部中會進入氣泡，使得顯示器用過濾器變得混濁，透光性不夠；此外，過厚時，會產生制作粘合材料的成本升高、部件的處理惡化等問題。導電性篩目層的厚度為dpm時，優選第一透光性粘合材料層的厚度為(d—2)(d+30)jim。濾光器的可見光透過率優選為3085%，更優選為3570%。當可見光透過率小于30%時，亮度過低，可見性變差。在濾光器的可見光透過率過高的情況下，不能改善顯示器對比度。另外，本發明中的可見光透過率是基于可見光區域的透過率的波長依賴性根據JIS(R-3106)計算得到的。此外，在將功能性薄膜通過第一透光性粘合材料層粘貼到導電性篩目層上時，有時會發生氣泡進入到凹部中，引起混濁，從而使得透光性不夠的情況，在這種情況下，可以通過例如加壓處理，將在粘貼時進入到部件中的氣泡除去，或者使氣泡固溶到粘合材料中除去混濁，從而提高透光性。加壓處理可以在功能性薄膜/第一透光性粘合材料層/導電性篩目層/高分子薄膜的結構的狀態下進行，也可以在本實施方式的顯示器用的過濾器的狀態下進行。作為加壓的方法，可以舉出將層疊體夾持在平板間進行加壓的方法、在加壓下通過夾持輥之間的方法、放入到加壓容器中進行加壓的方法，但沒有特別限定。在加壓容器中加壓的方法可以以同樣的壓力施加到層疊體整體上，加壓均勻，而且一次可以處理多個層疊體，因此優選。作為加壓容器，可以使用高壓釜裝置。作為加壓條件，壓力越高，越可以除去進入的氣泡，并且可以縮短處理時間，但是，考慮到層疊體的耐壓性和加壓方法的裝置上的限制，壓力為0.2MPa2MPa左右，優選為0.41.3MPa。此外，加壓時間隨加壓條件變化，沒有特別的限制。但是，加壓時間過長時，比較耗費處理時間，而且使得成本增加，因此，優選在適當的加壓條件下保持6小時以下。特別是在加壓容器的情況下，在達到設定壓力后，優選保持10分鐘3小時左右。此外，有時優選在加壓的同時進行加熱。通過加熱，透光性粘合材料的流動性暫時增大，進入的氣泡容易除去，或者氣泡容易固溶在粘合材料中。作為加熱的條件，根據構成濾光器的各部件的耐熱性，為室溫8(TC左右，但沒有特別限定。此外，加壓處理或加壓加熱處理可以提高構成濾光器的各部件在粘貼后的粘附力，因此優選。本實施方式的濾光器在高分子薄膜的未形成導電性篩目層的另一個主面上設置了第二透光性粘合材料層。第二透光性粘合材料層所用的透光性粘合材料的具體例子與上述相同，但沒有特別限定。厚度也沒有特別限制，為0.5pm5(^m,優選為^m30pm。優選在形成第二透光性粘合材料層的面和粘貼的面預先進行易粘接涂布或者電暈放電處理等易粘接處理，從而提高潤濕性。在第二透光性粘合材料層上可以形成分型薄膜。即至少為功能性薄膜/第一透光性粘合材料層/導電性篩目層/高分子薄膜/第二透光性粘合材料層/分型薄膜。分型薄膜是在與粘合材料層接觸的高分子薄膜的主面上涂布有機硅等而制得。在將本實施方式的濾光器粘貼到后述透明成型物的主面上時，或者在將該濾光器粘貼到顯示器表面如等離子體顯示面板的正面玻璃上時，將分型薄膜剝離，從而露出第二透光性粘合材料層，然后進行粘貼。本實施方式的濾光器主要用于阻斷由各種顯示器發射的電磁波。作為優選的例子，可以舉出等離子體顯示器用的過濾器。如上所述，由于等離子體顯示器發射強的近紅外線，因此濾光器不僅需要阻斷電磁波，而且需要阻斷近紅外線，從而使實際應用上沒有問題。因此，必須將波長區域為8001000nm的透過率調節到25M以下，優選為15%以下，更優選為10%以下。此外，等離子體顯示器中使用的濾光器的透過色要求為中性灰色或藍灰色。這是因為必須保持或提高等離子體顯示器的發光特性和對比度，或者有時優選比標準白色略高一些的色溫的白色。此外，彩色等離子體顯示器的色彩再現性不充分。因此，優選選擇性降低來自引起上述問題的熒光體或放電氣體的不需要的發光。特別是，顯示紅色的發光譜具有下述問題在波長580nm700nm左右顯示數個發光峰，由于在短波長側相對較強的發光峰使得紅色發光接近橙色，色純度低。這些光學特性可以使用色素來進行控制。即，可以使用近紅外線吸收劑阻斷近紅外線，可以使用能夠選擇性地吸收不需要的發光的色素來減少不需要的發光，從而獲得所需的光學特性。此外，濾光器的色調也可以使用在可見區域內具有適當吸收的色素而得到適合的色調。作為含有色素的方法，可以選擇下述方法中的任意一種或多種(1)將至少一種以上的色素在透明樹脂中混煉得到的高分子薄膜或樹脂板；(2)將至少一種以上的色素分散、溶解到樹脂或樹脂單體/有機類溶劑的濃樹脂溶液中，并通過流延的方法而制得的高分子薄膜或樹脂板；(3)將至少一種以上的色素與樹脂粘合劑一起加入到有機類溶劑中，形成涂料，然后涂布到高分子薄膜或樹脂板上得到的材料；(4)含有至少一種以上色素的透明粘合材料，但是本發明不限于此。本實施方式中所述的"含有"不僅指在基材或者涂膜等層或粘合材料的內部含有，還表示涂布在基材或層的表面上的狀態。上述色素可以是在可見區域中具有所希望的吸收波長的常用染料或顏料、或近紅外線吸收劑，其種類沒有特別限制。例如，可以舉出蒽醌類、酞菁類、次甲基類、甲亞胺類、噁嗪類、亞銨(immonium)類、偶氮類、苯乙烯基類、香豆素類、卟啉類、二苯并呋喃酮類、吡咯并吡咯二酮類、若丹明類、氧雜蒽類、甲撐吡咯類、二硫醇類化合物、二亞胺(diiminium)類化合物等通常市售的有機色素。其種類、濃度，根據色素的吸收波長和吸收系數、濾光器所需的透過性能和透過率、使色素分散的介質或涂膜的種類和厚度來決定，沒有特別限制。在等離子體顯示器的面板表面的溫度較高、環境的溫度較高時，特別是濾光器的溫度也上升，因此，色素優選具有耐熱性，從而在例如8(TC下不會因為分解等而顯著劣化。此外，除耐熱性之外，根據色素不同，還存在缺乏耐光性的色素。在等離子體顯示器的發光或外部光中的紫外線或可見光引起劣化的問題時，重要的是通過使用含有紫外線吸收劑的部件或紫外線無法透過的部件來降低色素的由紫外線引起的劣化，或者使用不會因紫外線或可見光而造成顯著劣化的色素。除了熱和光之外，對于濕度和具有這些因素的組合的環境也同樣適用。在色素劣化時，顯示器用的過濾器的透過特性變化，從而發生色調變化，或近紅外線的阻斷能力下降。另外，由于色素分散在介質或涂膜中，因此在適當的溶劑中的溶解度或分散性也是重要的。此外，在本發明中，具有不同吸收波長的兩種以上的色素可以在單一介質或涂膜中含有，也可以使用兩種以上的含色素的介質或涂膜。上述含有色素的方法(1)(4)可以在本實施方式中采用下述形式的任意一種以上，用在本實施方式的濾光器中含有色素的高分子薄膜(A)、含有色素的功能性薄膜(C)、含有色素的透光性粘合材料(D1)和(D2)、其它的用于粘貼的含有色素的透光性的粘合材料或粘接劑。通常，色素在紫外線下容易劣化。濾光器在通常使用條件下受到的紫外線為太陽光等的外部光中含有的紫外線。因此，為了防止紫外線引起的色素的劣化，優選在選自含有色素的層本身和相比該層更靠近受到外部光的觀察者側的層中的至少一層中具有能阻斷紫外線的層。例如，在高分子薄膜含有色素的情況下，第一透光性粘合材料層和/或功能性薄膜含有紫外線吸收劑，或者具有能阻斷紫外線的功能膜時，可以阻斷外部光含有的紫外線來保護色素。作為保護色素的必要的紫外線阻斷性能，在波長短于380nm的紫外線區域中的透過率為20c/c)以下，優選為10%以下，更優選為5%以下。具有紫外線阻斷性能的功能膜可以是含有紫外線吸收劑的涂膜，也可以是反射或吸收紫外線的無機膜。紫外線吸收劑可以使用苯并三唑類或二苯甲酮類等公知的物質。其種類和濃度根據分散或溶解的介質中的分散性或溶解度、吸收波長或吸收系數、介質的厚度等來決定，沒有特別限定。另外，具有紫外線阻斷性能的層或薄膜優選在可見光區域的吸收少，不會使可見光透過率有顯著降低，也不會發生變色為黃色等顏色。在含有色素的功能性薄膜中，在形成含有色素的層的情況下，相比該層更靠近觀察者側的薄膜或功能膜也可以具有紫外線阻斷性能。在高分子薄膜含有色素時，在相比該薄膜更靠近觀察者側也可以具有能阻斷紫外線的功能膜或功能層。色素有時因與金屬接觸而劣化。在使用這種色素的情況下，色素更優選設置成與導電性篩目層盡量不接觸。具體的說，含色素層優選是功能性薄膜、高分子薄膜、第二透光性粘合材料層，特別優選是第二透光性粘合材料層。本實施方式的濾光器由高分子薄膜、導電性篩目層、功能性薄膜、第一透光性粘合材料層以及第二透光性粘合材料層按照功能性薄膜/第一透光性粘合材料層/導電性篩目層/高分子薄膜/第二透光性粘合材料層的順序構成，優選由導電性篩目層和高分子薄膜形成的導電性篩目薄膜與功能性薄膜通過第一透光性粘合材料層進行粘合，在高分子薄膜的與導電性篩目層相反側的主面上粘合第二透光性粘合材料層。在將本實施方式的濾光器安裝在顯示器上時，安裝成功能性薄膜位于觀察者側，第二透光性粘合材料層位于顯示器側。作為將本實施方式的濾光器設置在顯示器的正面來使用的方法，有將作為支撐體的后述透明成型物用作正面過濾器板的方法、通過第二透光性粘合材料層粘貼到顯示器正面上的方法。前者的情況下，濾光器可以比較容易地設置，由于透明支撐體，機械強度增大，從而適合保護顯示器。后者的情況下，由于沒有支撐體，可以減小重量和厚度，并可以防止顯示器表面的反射，從而優選。作為透明成型物，可以舉出玻璃板和透光性的塑料板。從機械強度、輕量和不易碎的觀點來看，優選塑料板。但是，從熱導致變形等少的熱穩定性來考慮，還優選使用玻璃板。如果列舉塑料板的具體例，可以使用以聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)為代表的丙烯酸樹脂、聚碳酸酯樹脂、透明ABS樹脂等，但本發明不限于這些樹脂。特別是，PMMA由于在寬波長區域的高透光性和高機械強度，因此優選使用。塑料板的厚度只要保證充分的機械強度和維持平面性不會彎曲的剛性即可，沒有特別的限定，通常塑料板的厚度為lmm10mm左右。玻璃板為了增加機械強度，優選使用經過化學強化加工或者風冷強化加工的半強化玻璃板或強化玻璃板?？紤]到重量，玻璃板的厚度優選為14mm左右，但沒有特別限定。在粘貼到薄膜上之前，透明成型物可以進行各種公知的預處理，還可以在成為濾光器邊緣部的部分進行黑色等的有色框架印刷。在使用透明成型物時的濾光器的結構為至少功能性薄膜/第一透光性粘合材料層/導電性篩目層/高分子薄膜/第二透光性粘合材料層/透明成型物。此外，在透明成型物的與第二透光性粘合材料層粘貼的面的相反主面上，也可以通過透光性粘合材料層設置功能性薄膜。此時，不需要與設在觀察者側的功能性薄膜具有相同功能和結構，例如，在具有防反射性能時,可以降低具有透明支撐體的濾光器的背面反射。同樣，在透明成型物的與第二透光性粘合材料層粘貼的面的相反主面上，可以形成防反射膜等功能膜。此時，也可以將功能性薄膜設置在顯示器的觀察者側，但是，如上所述，優選將具有紫外線阻斷性能的層設置在含色素層以及比含色素層更靠近觀察者側的層上。在需要電磁波屏蔽的設備中，需要通過在設備的殼體內部設置金屬層或在殼體中使用導電性材料來屏蔽電磁波。但是，在像顯示器那樣顯示部需要透光性時，可以如本實施方式的濾光器所示，設置具有透光性導電層的窗戶形狀的電磁波屏蔽過濾器。這里，電磁波被導電層吸收后產生電荷，因此，如果電荷不通過接地線釋放，濾光器又變成天線，使電磁波振蕩，從而使得電磁波屏蔽能力降低。因此，濾光器必須與顯示器主體的接地部進行電接觸。因此，上述第一透光性粘合材料層和功能性薄膜必須留出可以從外部導通的導通部，并形成在導電性篩目層上。導通部的形狀沒有特別的限定，但是在濾光器和顯示器主體之間，不存在泄漏電磁波的間隙是很重要的。因此，導通部優選連續地設置在導電性篩目層的周邊部上。艮P，優選導通部呈框狀地設置在除了作為顯示器的顯示部的中心部分之外的部分上。導通部可以是篩目圖案層，也可以不經布圖形成，例如是整面金屬箔層(日文原文為金屬箔《夕)。但是，為了與顯示器主體的接地部進行良好的電接觸，優選整面金屬箔層那樣不圖案化的導通部。在導通部像例如整面金屬箔那樣不經布圖而成的情況和/或導通部具有足夠高的機械強度的情況下，導通部可以直接作為電極使用，是優選的。為了保護導通部和/或為了在導通部為篩目圖案層的情況下與接地部的良好的電接觸，有時優選在導通部上形成電極。電極的形狀沒有特別限制，但是優選完全覆蓋導通部而形成。從導電性、耐腐蝕性和與透明導電膜的粘附性等的觀點來看，電極所用的材料可以使用銀、銅、鎳、鋁、鉻、鐵、鋅、碳等單質或者兩種以上形成的合金；合成樹脂與這些單質或合金的混合物；或者由硼硅酸玻璃與這些單質或合金的混合物形成的糊料。糊料的印刷、涂布可以采用以往公知的方法。此外，也可以優選使用市售的導電性帶。導電性帶是在兩面上均具有導電性的帶，可以優選使用利用了碳分散的導電性粘接劑的單面粘接型、兩面粘接型。電極的厚度沒有特別的限定，但是可以是數pm至數mm左右。根據本實施方式，可以得到光學特性優良的濾光器，該濾光器不會顯著損害等離子體顯示器的亮度，并能維持或提高等離子體顯示器的圖像質量。此外，可以得到下述濾光器具有將從等離子體顯示器發射的被認為可能對健康有害的電磁波進行屏蔽的優良的電磁波屏蔽性能，另外，由于能有效阻斷從等離子體顯示器發射的8001000nm附近的近紅外線，從而不會對周圍電子設備的遠程控制、傳送光通信系統等使用的波長產生不良影響，可以防止它們的錯誤動作。而且，還可以低成本地提供耐候性也優良的濾光器。此外，本發明的導電性材料的制造方法以及制造裝置不僅可以用于透光性電磁波屏蔽膜，還可以優選用于無線天線、燃料電池用電極、雙電荷層電容器、生物傳感器電極、或者有機晶體管電極的形成。另外，本發明的導電性材料的制造方法以及制造裝置可以將如下文獻中記載的發明適當組合例如特開2006-012935號公報、特開2006-010795號公報、特開2006-228469號公報、特開2006-228473號公報、特開2006-228478號公報、特開2006-228480號公報、特開2006-228836號公報、特開2006-267627號公報、特開2006-269795號公報、特開2006-267635號公報、特開2006-286410號公報、特開2006-283133號公報、特開2006-283137號公報、特開2004-221564號公報、特開2004-221565號公報、特開2007-200922號公報、特開2006-352073號公報、國際公開第2006/001461號小冊子、特開2007-129205號公報、特開2007-235115號公報、特開2007-207987號公報、特開2006-012935號公報、特開2006-010795號公報、特開2006-228469號公報、特開2006-332459號公報、特開2007-207987號公報、特開2007-226215號公報、國際公開第2006/088059號小冊子、特開2006-261315號公報、特開2007-072171號公報、特開2007-102200號公報、特開2006-228473號公報、特開2006-269795號公報、特開2006-267635號公報、特開2006-267627號公報、國際公開第2006/098333號小冊子、特開2006-324203號公報、特開2006-228478號公報、特開2006-228836號公報、特開2006-228480號公報、國際公開第2006/098336號小冊子、國際公開第2006/098338號小冊子、特開2007-009326號公報、特開2006-336057號公報、特開2006-339287號公報、特開2006-336090號公報、特開2006-336099號公報、特開2007-039738號公報、特開2007-039739號公報、特開2007-039740號公報、特開2007-002296號公報、特開2007-084886號公報、特幵2007-092146號公報、特開2007-162118號公報、特開2007-200872號公報、特開2007-197809號公報、特開2007-270353號公報、特開2007-308761號公報、特開2006-286410號公報、特開2006-283133號公報、特開2006-283137號公報、特開2006-348351號公報、特開2007-270321號公報、特開2007-270322號公報、國際公開第2006/098335號小冊子、特開2007-088218號公報、特開2007-201378號公報、特開2007-335729號公報、國際公開第2006/098334號小冊子、特開2007-134439號公報、特開2007-149760號公報、特開2007-208133號公報、特開2007-178915號公報、特開2007-334325號公報、特開2007-310091號公報、特開2007-311646號公報、特開2007-013130號公報、特開2006-339526號公報、特開2007-116B7號公報、特開2007-088219號公報、特開2007-207883號公報、特開2007-207893號公報、特開2007-207910號公報、特開2007-013130號公報、國際公開第2007/001008號小冊子、特開2005-302508號公報、特開2005-197234號公報。下面舉出本發明的實施例對本發明作更詳細地說明。另外，以下的實施例所示的材料、用量、比例、處理內容、處理順序等在不脫離本發明的實質的范圍內可以適當變化。因此，本發明的范圍不受如下所示的具體例的限定。[實施例112](卣化銀感光材料)<支撐體的制作>在由雙軸拉伸形成的聚對苯二甲酸乙二醇酯支撐體(厚度為10(Him)的兩面上涂布如下組成的底涂層第一層和第二層。<底涂層第一層>加入芯鞘型偏氯乙烯共聚物(1)15g2，4-二氯-6-羥基-s-三嗪0.25g聚苯乙烯微粒(平均粒徑為3pm)0.05g膠體二氧化硅(SnowtexZL:日產化學株式會社制)粒徑為70100(im0.12g水100g然后，加入10質量y。的KOH，將pH調整為6的涂布液進行涂布，使得在18(TC下干燥2分鐘的干燥膜厚為0.9pm。<底涂層第二層>加入明膠lg甲基纖維素0.05gC12H25O(CH2CH2O)10H0.03g1，2-苯并異噻唑-3-酮(proxel)3.5xlO—3g乙酸0.2g水100g將該涂布液進行涂布，使得在干燥溫度17(TC下干燥2分鐘的干燥膜厚為O.lpm。<乳劑的制備>制備相對于水介質中的6.0g的Ag含有11.lg的明膠且含等價球直徑平均為0.15nm的碘溴化銀粒子(1=0.2摩爾％，Br二30摩爾。/。)的鹵化銀乳劑。此外，在該乳劑中以濃度達到10—7(摩爾/摩爾銀)的方式添加K3Rh2Br9以及K2lrCl6，從而在鹵化銀粒子中摻雜Rh離子和Ir離子。在該乳劑中添加Na2PdCl4，再用氯金酸和硫代硫酸鈉進行金硫增感。<感光材料>將制備的鹵化銀乳劑與明膠固化劑一起涂布到上述的聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)支撐體上，制作涂布物，使得銀的涂布量為2g/m2。涂布中使用的PET支撐體的寬度為30cm，在該支撐體上以28cm的涂布寬度涂布100m。該制作得到的涂布物的兩端各切除1.5cm，使得涂布物的涂布中央部剩下27cm，從而得到輥狀的鹵化銀感光材料S-1。(曝光)鹵化銀感光材料的曝光在連續曝光裝置中進行，其中將使用了特開2004-1244號公報的發明的實施方式中記載的DMD(數字微鏡器件)的曝光頭排列成55cm的寬度，將曝光頭和曝光臺彎曲地設置，以使得激光在感光材料的感光層上成像，安裝感光材料送出機構和巻取機構，并設置有具有緩沖作用的彎曲，使得曝光面的張力控制和巻取、送出機構的速度變化不影響曝光部分的速度。曝光的波長為405nm，光束形狀為12pm的近正方形，激光光源的輸出為100pJ。曝光圖案是12pm像素相對于輥的長度方向呈45度的格子狀，并以300nm的間距在寬度27cm、長度75cm的區域中進行。(顯影處理)顯影液1L配方對苯二酚20g亞硫酸鈉50g碳酸鉀40g乙二胺四乙酸2g溴化鉀3g聚乙二醇2000lg氫氧化鉀4gpH調整為10.3定影液1L配方硫代硫酸銨溶液(75%)300ml一水合亞硫酸銨25g1,3-二氨基丙垸四乙酸酯8g乙酸5g氨水(27%)lgpH調整為6.2使用上述處理劑，利用富士膠片公司制的自動顯影機FG-710PTS在如下處理條件下對經過曝光的感光材料進行顯影處理35。C顯影30秒，34°C定影23秒，用流動水(5L/min)處理20秒，從而得到形成有篩目狀圖案(導電性金屬部)的經過顯影的透光性導電薄膜。(通電處理)使用如下所示的4種電解質溶液以及通電方法進行通電處理。一本發明的活化處理方式A—將500g的硫酸鈉溶解到2L的自來水中，得到電解質溶液，將該電解質溶液作為活化液，在該活化液中將設置在距離薄膜2cm的位置上的碳電極作為陽極，由與上述制造的經過顯影的透光性導電薄膜的導電性面接觸且直徑為lcm的設置在距離電解液的液面2cm的位置的供電輥在室溫下以0.1A的電流供電15秒2分鐘，一邊進行輥輸送一邊進行活化處理。另外，第一供電輥的材料為不銹鋼，氫過電壓為一0.1Vvs.NHE。通過曝光、顯影而形成的篩目狀圖案(導電性金屬部)的氫過電壓為一0.2Vvs.NHE.一本發明的活化處理方式B—除了將5g的硫酸鈉溶解在2L的自來水中，得到電解質溶液，將該電解質溶液作為活化液之外，與活化處理方式A相同地進行活化處理。一本發明的活化處理方式C一除了將350g的硝酸鉀溶解在2L的自來水中，得到電解質溶液，將該電解質溶液作為活化液之外，與活化處理方式A相同地進行活化處理。一比較的活化處理方式D—將5g的氯化鈀溶解到2L的鹽酸酸性(pHl.O)水中，得到活化液，將上述制備的經過顯影的透光性導電性薄膜在4(TC下輥輸送15秒2分鐘，同時進行活化。(非電解鍍覆處理)用如下所示的兩種非電解鍍液進行非電解鍍覆處理。一非電解鍍覆處理M1—使用非電解鍍液(含有硫酸銅0.06mol/L、福爾馬林0.22mol/L、EDTA0.07mol/L、酒石酸鈉鉀0.1mol/L、分子量為2000的聚乙二醇100ppm、黃血鹽50ppm、a,a，-聯吡啶20ppm且pH為12.5的非電鍍銅液)，進行輥輸送，同時進行4(TC下的非電鍍銅處理。一非電解鍍覆處理M2—使用非電解鍍液(含有硫酸銅0.06mol/L、福爾馬林0.22mol/L、三乙醇胺0,3mol/L、分子量為1000的聚乙二醇200ppm、a,a，-聯吡啶20ppm且pH為12.5的非電鍍銅液)，進行輥輸送，同時進行25。C下的非電鍍銅處理。(電鍍銅處理)使用圖7所示的電鍍處理裝置110對由上述處理形成了篩目狀圖案的透光性導電薄膜進行鍍覆處理。另外，將上述感光材料按照其篩目面朝下的方式(篩目面與一對的第二供電輥180a以及180b相連的方式)安裝在電鍍處理裝置110中。另外，作為一對的第二供電輥180a以及180b，通過在經過粗面精加工后的不銹鋼制輥(5cm小，長度為70cm)的表面上實施O.lmm厚的電鍍銅而得到。作為一對的導向輥178a和178b以及其它的輸送輥，使用未進行鍍銅的5cmcp、長度為70cm的輥。此外，通過調節一對的導向輥178a和178b的高度，即使線速度不同，也能確保恒定的鍍液中的處理時間。此外，入口側的第二供電輥180a和透光性導電薄膜的篩目面接觸的面的最下部與鍍液液面之間的距離(圖7所示的距離Lb)為10cm。出口側的第二供電輥180b和透光性導電薄膜的篩目面接觸的面的最上部與鍍液液面之間的距離(圖7所示的距離Lc)為20cm。電鍍銅處理中的鍍覆處理液的組成、各鍍覆浴的浸漬處理時間(鍍液中的時間)以及各鍍覆浴的施加電壓如下所述。另外，處理液和水洗的溫度均為25'C。-電鍍銅液的組成(補充液的組成也與此相同)五水合硫酸銅75g硫酸190g鹽酸(35%)0.06ml力八°一夕*U—厶PCM5ml(口一厶.:ryK'八一7電子材料株式會社制)加入純水后的總量1L-鍍覆浴的處理時間以及施加電壓水洗l分鐘酸洗30秒電鍍銅130秒4V電鍍銅230秒4V電鍍銅330秒3V電鍍銅430秒2V水洗l分鐘(電鍍黑化處理)使用圖8所示的處理裝置111對通過上述處理形成的透光性導電薄膜進行鍍覆處理。另外，上述被鍍材料按照篩目面朝下的方式安裝在鍍覆處理裝置lll中，除此之外，其它的裝置條件也與鍍覆處理裝置110相同。電鍍黑化處理中的鍍覆處理液的組成、各鍍覆浴的浸漬處理時間(鍍液中的時間)以及各鍍覆浴的施加電壓如下所述。另外，處理液的溫度為35°C，水洗的溫度為25'C，實施鍍覆處理。-電鍍黑化液的組成六水合硫酸鎳98.4g硫酸鋅22.2g硫代氰酸銨17g硫酸鈉15,7g加入純水后的總量-鍍覆浴的處理時間水洗l分鐘酸洗30秒電鍍黑化130秒電鍍黑化230秒水洗l分鐘防銹30秒水洗l分鐘示出上述處理中使用的防銹液的配方。-防銹液的組成苯并三唑2.0g甲醇20ml加入純水1L薄膜樣品各75cm，以線速度0.6m/分鐘進行處理，從而得到表面電阻率均勻的透光性導電膜型電磁波屏蔽薄膜。對于實施例112以及比較例15，所使用的感光材料、活化處理的方式、通電時間、非電解鍍覆時間的詳細內容如表l所示。此外，將樣品安裝在垂直方向的像素間距為0.44mm的PDP(等離子體顯示面板)上，相對于PDP從正面方向以及斜方向觀察干擾條紋的程度時，未觀察到干擾條紋，因此適合用作透光性電磁波屏蔽薄膜。[評價](表面電阻測定)各樣品的表面電阻通過三菱化學株式會社的口^7夕GP(四探針法)進行測定。(鍍覆過度的計數)各樣品的鍍覆過度按照如下所述進行計算。拍攝各樣品的篩目的250倍的放大照片，計數開口部存在的直徑為1以上的點狀鍍覆過度。鍍覆過度通過計算20個格子后取平均值而得到。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage70</column></row><table>(評價結果)對表1的結果進行詳細論述。從實施例13可以看出，進行本發明的通電處理方式A時，鍍覆后的表面電阻低，而且鍍覆過度少。改變了通電處理方式的實施例46以及實施例7也與實施例13相同地獲得本發明的效果。也可知本發明的效果與通電處理中使用的電解質溶液的濃度以及溶液種類無關。實施例812所示的使用非電解鍍液發生變化時，也能再現實施例l7所述的效果，可以說本發明的效果與使用的非電解鍍液的種類也無關，是具有通用性的制造方法。比較例15顯示了使用作為比較的活化液D進行處理后的結果。從該結果可以看出，使用通電處理D的方法無法同時滿足制作樣品的電阻值和鍍覆過度，與本發明的目的不符。從這些結果可以確認本發明的效果。[實施例13]除了將上述制備的鹵化銀乳劑涂布到PET支撐體上，使得銀的涂布量為7.5g/i^之外，以同樣的方法制得感光材料S-2。使用該感光材料S-2，進行與實施例2相同的通電處理、非電解鍍覆M1、電鍍銅以及電鍍黑化。得到的導電性樣品的電阻值為0.1Q/sq，鍍覆過度為0。[實施例14]將5g的硝酸銀與20g的檸檬酸三鈉溶解到150ml的離子交換水中，將5g的硼氫化鈉溶解到50ml的離子交換水中，將該水溶液邊攪拌邊緩緩地進行添加。得到的分散液中加入甲醇以使銀粒子沉降，除去上清液，洗滌。將洗滌后的粒子再分散到環己醇和2-乙氧基乙醇的混合溶齊U(體積比為SO-SO),制作10重量％濃度的Ag/Ag20的混合微粒分散液。使用該分散液，根據預先輸入到計算機中的300間距、12pm線寬的圖形信息，使用壓電方式的噴墨打印機在基板上進行描繪，然后干燥，制得被鍍基板樣品。將得到的基板樣品進行與實施例2相同的通電處理、非電解鍍覆Ml、電鍍銅以及電鍍黑化。得到的導電性樣品的電阻值為0.2^/叫，鍍覆過度為[實施例15]將實施例2的底涂層第二層改為由聚氨酯樹脂和氧化鋁微粒形成的厚度為6pm的樹脂層，形成印刷固定層。然后，通過凹版印刷制作含有銀微粒的導電性油墨印刷圖案。篩目狀圖案形成為與實施例2相同的圖案，將該樣品作為被鍍材料。然后，實施本發明的通電處理A以及與實施例2相同的非電解鍍覆、電鍍銅以及電鍍黑化，得到導電性樣品。該透明導電性樣品的得到的導電性樣品的電阻值為0.2Q/sq，鍍覆過度為0。以PET面為粘貼面，將實施例2制得的樣品通過透明的丙烯酸系粘合材料粘貼到厚度為2.5mm、外形尺寸為950mmx550mm的玻璃板上。此時，事先通過層疊將保護薄膜粘貼到導電性篩目側上，來保護導電性篩目。所述保護薄膜為在聚乙烯薄膜上層疊了丙烯酸系粘接劑層的總厚lt為65pm的薄膜(SUNA化研株式會社制，商品名廿-亍夕卜Y-26F)。然后，通過厚度為25|im的丙烯酸系透光性粘合材料將厚度為10(Vm的PET薄膜、防反射層、含近紅外線吸收劑的層構成的帶防反射功能的近紅外線吸收薄膜(住友大阪"fe^V卜株式會社制，商品名夕]J7，7AR/NIR)粘貼到除去外緣部20mm后的內側的該導電性篩目層上。該丙烯酸系粘合材料層含有用于調整濾光器的透過性能的調色色素(三井化學制，PS-Red-G、PS-Violet-RC)。另外，在該玻璃板的相反的主面上，通過粘合材料粘貼防反射薄膜(日本油脂株式會社制，商品名U7》:y夕8201)，從而制作濾光器。得到的濾光器由于使用了具有保護薄膜的電磁波屏蔽薄膜而制成，因此，極大地減少了損傷或金屬篩目的缺陷。此外，金屬篩目為黑色，顯示器圖像不會帶上金屬色，而且，該濾光器具有在實際應用中沒有問題的電磁波屏蔽性能以及近紅外線阻斷性能(300800nm的透過率為15%以下)，并且通過設置在兩面的防反射層，使得可視性優良。另外，通過含有色素，可以賦予調色功能，可以適合用作等離子體顯示器等的濾光器。另外，本發明的導電性材料的制造方法以及制造裝置并不限定于上述實施方式，在不脫離本發明的實質的范圍內，可以采用各種結構。權利要求1、一種導電性材料的制造方法，其是在具有導電性金屬部(16)的被鍍材料(32)上實施鍍覆處理來形成導電層，其特征在于，該方法包括通電工序，所述通電工序是在所述鍍覆處理的前一階段，以所述導電性金屬部(16)作為陰極，將所述被鍍材料(32)在實質上不含鍍覆物質的電解液中進行通電。2、根據權利要求l所述的導電性材料的制造方法，其特征在于，所述電解液含有電解質和溶劑。3、根據權利要求2所述的導電性材料的制造方法，其特征在于，所述電解質為選自由堿金屬鹽、銨鹽、高氯酸鹽和硼酸鹽組成的組中的至少一種。4、根據權利要求2所述的導電性材料的制造方法，其特征在于，所述溶劑為水和/或非水溶劑。5、根據權利要求4所述的導電性材料的制造方法，其特征在于，所述非水溶劑為選自由酰胺、吡咯垸酮、腈、酮和四氫呋喃組成的組中的至少一種。6、根據權利要求l所述的導電性材料的制造方法，其特征在于，所述鍍覆處理為非電解鍍覆處理和/或電鍍處理。7、根據權利要求6所述的導電性材料的制造方法，其特征在于，所述電鍍處理為電鍍銅和/或電鍍黑化處理。8、一種導電性材料的制造方法，其特征在于，該方法包括金屬銀部形成工序，該工序將在支撐體(12)上具有含銀鹽的銀鹽乳劑層(28)的感光薄膜進行曝光、顯影，從而形成金屬銀部(16);通電工序，該工序將所述金屬銀部(16)作為陰極，在實質上不含鍍覆物質的電解液中進行通電；鍍覆工序，該工序在所述通電后的金屬銀部(16)上實施鍍覆處理，從而形成導電層。9、根據權利要求8所述的導電性材料的制造方法，其特征在于，所述電解液含有電解質和溶劑。10、根據權利要求9所述的導電性材料的制造方法，其特征在于，所述電解質為選自由堿金屬鹽、銨鹽、高氯酸鹽和硼酸鹽組成的組中的至少一種。11、根據權利要求9所述的導電性材料的制造方法，其特征在于，所述溶劑為水和/或非水溶劑。12、根據權利要求ll所述的導電性材料的制造方法，其特征在于，所述非水溶劑為選自由酰胺、吡咯烷酮、腈、酮和四氫呋喃組成的組中的至少一種。13、根據權利要求8所述的導電性材料的制造方法，其特征在于，所述鍍覆處理為非電解鍍覆處理和/或電鍍處理。14、根據權利要求13所述的導電性材料的制造方法，其特征在于，所述電鍍處理為電鍍銅和/或電鍍黑化處理。15、一種導電性材料的制造裝置，其是在具有導電性金屬部(16)的被鍍材料(32)上實施鍍覆處理來形成導電層的導電性材料的制造裝置，其特征在于，該裝置包括通電處理裝置(106)，該通電處理裝置(106)具有供電輥(102)和通電處理槽(130)，所述供電輥(102)與所述導電性金屬部(16)接觸并進行供電，所述通電處理槽(130)配置在比所述供電輥(102)更靠所述被鍍材料(32)的輸送方向的下流側上，并將所述導電性金屬部(16)在電解液(128)內進行通電處理；鍍覆裝置，該鍍覆裝置設置在所述通電處理裝置(106)的后段，并在所述導電性金屬部(16)上進行鍍覆處理。16、根據權利要求15所述的導電性材料的制造裝置，其特征在于，所述供電輥(102)的氫過電壓比所述導電性金屬部(16)的氫過電壓大。17、根據權利要求15所述的導電性材料的制造裝置，其特征在于，所述鍍覆裝置具有非電解鍍覆處理裝置(108)和/或電鍍處理裝置(110)。18、根據權利要求15所述的導電性材料的制造裝置，其特征在于，所述鍍覆裝置具有非電解鍍覆處理裝置(108)和電鍍處理裝置(110)，且朝向所述被鍍材料(32)的輸送方向的下流側依次設置有非電解鍍覆處理裝置(108)和電鍍處理裝置(110)。19、根據權利要求15所述的導電性材料的制造裝置，其特征在于，所述鍍覆裝置具有非電解鍍覆處理裝置(108)、電鍍處理裝置(110)以及電鍍黑化處理裝置(111)，且朝向所述被鍍材料(32)的輸送方向的下流側依次設置有非電解鍍覆處理裝置(108)、電鍍處理裝置(110)和電鍍黑化處理裝置(111)。全文摘要本發明將在透明支撐體(12)上具有含銀鹽的銀鹽乳劑層的感光薄膜進行曝光、顯影，從而形成金屬銀部(16)。然后，以該金屬銀部(16)為陰極，將被鍍材料(32)在實質上不含鍍覆物質的電解液中進行通電。然后，對通電后的被鍍材料(32)實施非電解鍍覆處理，僅在金屬銀部(16)上形成第一鍍覆層(20)。然后，進行電鍍處理，在第一鍍覆層(20)上形成第二鍍覆層(22)，再在該第二鍍覆層(22)上形成第三鍍覆層(23)。文檔編號C25D5/02GK101270493SQ20081008624公開日2008年9月24日申請日期2008年3月24日優先權日2007年3月23日發明者岡崎賢太郎,山崎高康申請人:富士膠片株式會社