專利名稱：防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體清洗技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)。
背景技術(shù)：
在半導(dǎo)體行業(yè)，需要對硅片后道エ藝銅互連階段后，多孔性介質(zhì)材料進(jìn)行超精細(xì)清洗，Chuck (卡盤)夾持的硅片高速旋轉(zhuǎn)進(jìn)行清洗時在エ藝腔室內(nèi)完成，清洗包括藥液漂洗、超純水沖洗和凡甩干等エ藝。在清洗的過程為了實現(xiàn)對化學(xué)藥液的回收利用，エ藝腔室采用分層設(shè)計，Up/down單元帶動Chuck至各エ藝位置，由伺服電機(jī)帶動Chuck做高速旋轉(zhuǎn)運動，通過離心カ將化學(xué)藥液甩到專用的回收槽里面。為了防止化學(xué)液向下發(fā)生滴漏，需要在エ藝腔室底背部向上吹N2，從而在硅片底部形成ー層自下而上的氣體保護(hù)膜。一般情況下，如果設(shè)備突然發(fā)生斷電，化學(xué)液將會殘留在硅片上面，此時如果硅片底部N2保護(hù)氣發(fā)生中斷，液體將可能通過硅片邊緣滴漏到エ藝腔室里面，嚴(yán)重污染清洗環(huán)境的清潔度。整個 設(shè)備如果采用UPS斷電保護(hù)，成本較高。

發(fā)明內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問題本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是，針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)，對N2管路進(jìn)行雙通道設(shè)計，從而保證整個清洗過程N(yùn)2通道始終處于暢通狀態(tài)。(ニ)技術(shù)方案本發(fā)明提供一種防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)，包括エ藝腔室和位于エ藝腔室底部的N2管路，所述N2管路包括常開N2管路和常閉N2管路，所述常開N2管路與常閉N2管路并聯(lián)設(shè)置，所述常開N2管路上設(shè)有常開波紋密封閥，所述常閉N2管路上設(shè)有常閉波紋密封閥。其中，當(dāng)所述常開波紋密封閥打開時，所述閉波紋密封閥關(guān)閉；當(dāng)所述常開波紋密封閥關(guān)閉時，所述閉波紋密封閥打開。其中，所述常開波紋密封閥和常閉波紋密封閥通過電磁閥島氣動控制。其中，防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)還包括位于常閉波紋密封閥前端管路上的壓カ針閥。其中，防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)還包括位于常閉波紋密封閥后端管路上的單向閥。其中，防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)還包括位于常開波紋密封閥后端管路上的超聲波流量計和過濾器，所述超聲波流量計位于所述過濾器的前端管路上。(三)有益效果本發(fā)明提供的防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)，采用雙通道互鎖并聯(lián)設(shè)計，當(dāng)設(shè)備主電源發(fā)生斷電時候，兩個互鎖的波紋密封閥通過相反控制動作，使N2通路不會因為斷電而發(fā)生中斷，保證清洗機(jī)環(huán)境清潔。


圖I為本發(fā)明防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)管路結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本發(fā)明防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)的エ藝腔室結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施例方式下面結(jié)合附圖和實施例，對本發(fā)明的具體實施方式
作進(jìn)ー步詳細(xì)描述。以下實施例用于說明本發(fā)明，但不用來限制本發(fā)明的范圍。如圖I所示，本發(fā)明提供一種防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)，包括エ藝腔室8和位于エ藝腔室底部的N2管路，所述N2管路包括常開N2管路9和常閉N2管路10，所述常開N2管路9與常閉N2管路10并聯(lián)設(shè)置，所述常開N2管路9上設(shè)有常開波紋密封閥4，所述常閉N2管路10上設(shè)有常閉波紋密封閥3。當(dāng)所述常開波紋密封閥4打開時，所述閉波紋密封閥3關(guān)閉，當(dāng)所述常開波紋密封閥4關(guān)閉時，所述閉波紋密封閥3打開。所述常開波紋密封閥4 和常閉波紋密封閥3通過電磁閥島氣動控制。防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)還包括位于常閉波紋密封閥3前端管路上的壓カ針閥2、位于常閉波紋密封閥3后端管路上的單向閥7以及位于常開波紋密封閥4后端管路上的超聲波流量計5和過濾器6，所述超聲波流量計5位于所述過濾器6的前端管路上。工作原理設(shè)備啟動后，通過高清度數(shù)字壓カ開關(guān)1，將系統(tǒng)設(shè)定到所需要的氣體壓力，通過電磁閥島控制的干潔氣源(CDA)氣體對常開波紋密封閥4和常閉波紋密封閥3進(jìn)行氣動控制，常開波紋密封閥4打開構(gòu)成常開N2管路9 ;常閉波紋密封閥3打開構(gòu)成常閉N2管路10，在常閉波紋密封閥3前端的管路上設(shè)置ー個可以手動調(diào)節(jié)的壓カ針閥2，設(shè)備啟動后手動打開壓カ針閥2，保證斷電時候N2能夠順利通過。所述常閉波紋密封閥3由開放切換到關(guān)閉狀態(tài)，常閉N2管路10斷開；常開波紋密封閥4則由關(guān)閉狀態(tài)切換到打開狀態(tài)，常開N2管路9保持暢通，N2經(jīng)過超聲波流量計5和過濾器6，進(jìn)入エ藝腔室8。如圖2所示，所述エ藝腔室內(nèi)氣道采用變徑、流線型設(shè)計，在エ藝腔室8頂部硅片正下方邊緣地方開設(shè)有均勻間隔的斜圓孔，保證氣流有足夠的壓カ從斜孔噴出，在硅片底部形成一層自底向上流動的N2保護(hù)膜。以上實施方式僅用于說明本發(fā)明，而并非對本發(fā)明的限制，有關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術(shù)方案也屬于本發(fā)明的范疇，本發(fā)明的專利保護(hù)范圍應(yīng)由權(quán)利要求限定。
權(quán)利要求
1.一種防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)，其特征在于，包括エ藝腔室和位于エ藝腔室底部的N2管路，所述N2管路包括常開N2管路和常閉N2管路，所述常開N2管路與常閉N2管路并聯(lián)設(shè)置，所述常開N2管路上設(shè)有常開波紋密封閥，所述常閉N2管路上設(shè)有常閉波紋密封閥。
2.如權(quán)利要求I所述的硅片清洗機(jī)，其特征在干，當(dāng)所述常開波紋密封閥打開時，所述閉波紋密封閥關(guān)閉；當(dāng)所述常開波紋密封閥關(guān)閉時，所述閉波紋密封閥打開。
3.如權(quán)利要求I或2所述的硅片清洗機(jī)，其特征在于，所述常開波紋密封閥和常閉波紋密封閥通過電磁閥島氣動控制。
4.如權(quán)利要求I所述的硅片清洗機(jī)，其特征在干，防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)還包括 位于常閉波紋密封閥前端管路上的壓カ針閥。
5.如權(quán)利要求I所述的硅片清洗機(jī)，其特征在干，防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)還包括 位于常閉波紋密封閥后端管路上的單向閥。
6.如權(quán)利要求I所述的硅片清洗機(jī)，其特征在干，防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)還包括位于常開波紋密封閥后端管路上的超聲波流量計和過濾器，所述超聲波流量計位于所述過濾器的前端管路上。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)，包括工藝腔室和位于工藝腔室底部的N2管路，所述N2管路包括常開N2管路和常閉N2管路，所述常開N2管路與常閉N2管路并聯(lián)設(shè)置，所述常開N2管路上設(shè)有常開波紋密封閥，所述常閉N2管路上設(shè)有常閉波紋密封閥。本發(fā)明提供的防斷電保護(hù)的硅片清洗機(jī)，采用雙通道互鎖并聯(lián)設(shè)計，當(dāng)設(shè)備主電源發(fā)生斷電時候，兩個互鎖的波紋密封閥通過相反控制動作，使N2通路不會因為斷電而發(fā)生中斷，保證清洗機(jī)環(huán)境清潔。
文檔編號B08B3/00GK102861745SQ20121034835
公開日2013年1月9日 申請日期2012年9月18日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月18日
發(fā)明者張紹國, 何金群, 裴立坤, 吳儀, 王好肖 申請人:北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司