專利名稱：消除電容式觸摸屏蝕刻殘留溶液的方法
技術領域：
本發明涉及一種電容式觸摸屏的制造方法，尤其是一種電容式觸摸屏sensor的制作過程中使用的消除殘留溶液的方法，具體地說是一種消除電容式觸摸屏蝕刻殘留溶液的方法。
背景技術：
目前，電容技術觸摸屏是利用人體的電流感應進行工作的。電容式觸摸屏是一塊復合玻璃屏，玻璃屏的表面涂有ΙΤ0，最外層是一薄層矽土玻璃保護層，夾層ITO涂層作為工作面，工作面上引出電極，邊緣有防護層保證良好的工作環境。 當手指觸摸在金屬層上時，由于人體電場，用戶和觸摸屏表面形成以一個耦合電容，對于高頻電流來說，電容是直接導體，于是手指從接觸點吸走一個很小的電流。這個電流分從觸摸屏的四角上的電極中流出，并且流經這四個電極的電流與手指到四角的距離成正比，控制器通過對這四個電流比例的精確計算，得出觸摸點的位置。在電容式觸摸屏中，一般所指的是ITO Sensor, 一塊觸摸屏上有橫縱交錯的M條X軸和N條Y軸的ITO Sensor，用來感應手指觸摸位置的(X，Y)坐標。M和N的數量依據觸摸屏大小而不同，屏越大，需要的ITO Sensor軸數越多。
在電容式觸摸屏sensor的制作過程中，對于ITO玻璃進行黃光制程，用于使ITO 玻璃上留下可以導電的、符合要求的ITO膜，將不需要的ITO膜使用蝕刻的方法將其蝕刻掉，在此生產過程中，會有蝕刻溶液的部分雜質及溶液殘留在蝕刻后的玻璃和ITO膜的交界的地方，在介于ITO膜與玻璃之間的臺階，因此此種殘留得以留存，在蝕刻后的脫膜工藝，強堿溶液與殘留蝕刻雜質進行反應，形成“殘留物”，并且在后道生產工序中不能消除， 嚴重影響了合格率。并且，此種情況一旦產生，由于以下原因，此種情況在生產的后續工序中很難被發現I.殘留物很微小，并且有相應的防蝕刻物質覆蓋在需要的ITO圖形的上方，影響此處的觀察。
2.觀察是否有殘留需要在黑箱進行，由于是濕法工序，玻璃表面有水跡，影響了黑箱檢查的光反射，難以發現殘留。
若此時不能消除殘留，則在后續生產不能處理掉，只能專門處理，但是處理帶來的合格率的損傷很大，且費時費工。發明內容
本發明的目的是針對現有的電容式觸摸屏制作過程中會有蝕刻溶液的部分雜質及溶液殘留在蝕刻后的玻璃和ITO膜的交界的地方嚴重影響產品質量的問題，發明一種消除電容式觸摸屏蝕刻殘留溶液的方法。
本發明的技術方案是一種消除電容式觸摸屏蝕刻殘留溶液的方法，其特征是它包括以下步驟首先，將經過刻蝕的觸摸屏掛置于支架上，并在90秒內將支架放入裝有清洗液的浸泡箱中，浸泡箱中的清洗液的液面應高出觸摸屏的有效工作區域；其次，觸摸屏在浸泡箱中浸泡25 35分鐘后取出立即進入下一道工序；所述的清洗液的由重量百分比為0. 8 1%的HCl，O. 05% O. 07%的HNO3和余量的去離子水配制而成。
所述的清洗液必須每24小時更換一次。
本發明的有益效果本發明能消除刻蝕過程中的殘留溶液，保證產品質量，確保后續工序的正常進行。
本發明方法簡單，易行，生產效率高，提高了產品的合格率。


圖I是本發明的觸摸屏插裝支架的結構示意圖。
圖2是本發明的浸泡箱的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖和實施例對本發明作進一步的說明。
如圖1-2所示。
一種消除電容式觸摸屏蝕刻殘留溶液的方法，它包括以下步驟首先，將經過刻蝕的觸摸屏掛置于圖I所示的支架上，并在90秒內將支架放入圖2所示的裝有清洗液的浸泡箱中，浸泡箱中的清洗液的液面應高出觸摸屏的有效工作區域； 其次，觸摸屏在浸泡箱中浸泡25 35分鐘后取出立即進入下一道工序；所述的清洗液的由重量百分比為0. 8 1%的HCl，O. 05% O. 07%的HNO3和余量的去離子水配制而成。
支架和溶液不發生反應。生產時將批量生產的ITO玻璃基板，放置在支架內，注意溶液對玻璃基板的阻力，防止碎片，待批量產品結束后，進行下一道工序，此時本發明溶液會對蝕刻溶液殘留進行反應，消除在產品的表面殘留，從而解決蝕刻溶液殘留問題。
本發明的支架和浸泡箱及清洗液必須滿足如下要求I.支架尺寸必須滿足ITO玻璃基板的尺寸要求，故應根據相應尺寸加以制作。
2.支架、浸泡箱及清洗液不能發生化學反應，不然會影響溶液質量，故支架、浸泡箱應選用不銹鋼材質制作。
3.支架和浸泡箱要分開，支架要有把手，這樣方便下道工序。
4.清洗液要按工作量更換，以殘留程度確定溶液濃度，一般每天更換一次。
5.要確保觸摸屏在清洗液中的時間不致過長，過長時間的浸泡會導致防蝕刻物質的變化，導致缺陷發生，因此應嚴格控制浸泡時間，及時取出。
在曝光、顯影后，在ITO玻璃表面留下一層抗蝕刻層，可以防止蝕刻液對其下的 ITO膜進行蝕刻，而沒有抗蝕刻層保護的ITO會被蝕刻掉，這樣在玻璃表面就留下了需要的導電ITO膜，然后再進行后續工序，以達到可以接受的阻值范圍。在蝕刻工序中，會有雜質留存在蝕刻后裸露的玻璃和未蝕刻ITO膜處，此種雜質以鐵元素為主，經過后道脫膜工序， 雜質將和強堿反應，如不處理將導致廢品，并且產生的比例很高，達到80%以上。
因此，將本發明的方法放置在蝕刻程序后，在蝕刻工序后將正常生產產品通過支架放置在清洗溶液內，清洗溶液可以消除殘留雜質，從而消除蝕刻殘留缺陷，并且對生產效率沒有影響。
本發明未涉及部分均與現有技術相同或可采用現有技術加以實現。
權利要求
1.一種消除電容式觸摸屏蝕刻殘留溶液的方法，其特征是它包括以下步驟首先，將經過刻蝕的觸摸屏掛置于支架上，并在90秒內將支架放入裝有清洗液的浸泡箱中，浸泡箱中的清洗液的液面應高出觸摸屏的有效工作區域；其次，觸摸屏在浸泡箱中浸泡25 35分鐘后取出立即進入下一道工序；所述的清洗液的由重量百分比為0. 8 1%的HCl，O. 05% O. 07%的HNO3和余量的去離子水配制而成。
2.根據權利要求I所述的消除電容式觸摸屏蝕刻殘留溶液的方法，其特征是所述的清洗液必須每24小時更換一次。
全文摘要
一種消除電容式觸摸屏蝕刻殘留溶液的方法，其特征是它包括以下步驟首先，將經過刻蝕的觸摸屏掛置于支架上，并在90秒內將支架放入裝有清洗液的浸泡箱中，浸泡箱中的清洗液的液面應高出觸摸屏的有效工作區域；其次，觸摸屏在浸泡箱中浸泡25～35分鐘后取出涼干進入下一道工序；所述的清洗液的由重量百分比為0.8～1%的HCl，0.05%～0.07%的HNO3和余量的去離子水配制而成。本發明能消除刻蝕過程中的殘留溶液，保證產品質量，確保后續工序的正常進行。
文檔編號B08B3/08GK102921666SQ201210474009
公開日2013年2月13日 申請日期2012年11月21日 優先權日2012年11月21日
發明者池榮軍 申請人:南京華顯高科有限公司