專利名稱：一種硅料清洗裝置組的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及光電領域，具體涉及一種硅料清洗裝置組。
背景技術：
光電領域中，硅是非常重要和常用的半導體原料，是太陽能電池最理想的原材料。制備硅片的原料表面一般都會有雜質和一些氧化物，必須要經過清洗后才能進入后續工序使用。但是目前生產操作中，由于很多硅料的清洗設備采用酸洗、堿洗、水沖洗和超聲清洗為一體的封閉式操作，所以無法實施監控，必須要等硅原料清洗程序結束后，才能觀察到硅料的清洗情況；硅原料通過這種方法清洗時一般只能按照酸洗、沖洗、堿洗、沖洗、超聲洗的流程進行清洗，但原料表面的雜質組分不同，機械地按照基本流程進行清洗原料，不僅費時費力，而且還造成了原料的不必要浪費，降低了生產效率。
發明內容本實用新型的目的在于克服現有技術的不足，提供一種硅料清洗裝置組，將硅原料的清洗按照原料表面雜質的不同進行不同的清洗流程。本實用新型所采取的技術方案是一種靈活清洗硅料的裝置組，包括沖淋清洗機，所述沖淋清洗機的四周分別設有酸性清洗機、酸性浸泡機、堿性清洗機和超聲清洗機。本實用新型進一步改進方案是，所述酸性清洗機位于酸性浸泡機的對面，所述堿性清洗機位于超聲清洗機的對面。本實用新型更進一步改進方案是，所述沖淋清洗機的型號為SGPR-05硅料清洗機。本實用新型更進一步改進方案是，所述酸性清洗機的型號為SGPR-04硅料酸洗機。本實用新型更進一步改進方案是，所述酸性浸泡機的型號為SGPR-05硅料浸泡機。本實用新型更進一步改進方案是，所述堿性清洗機的型號為SGSR-04硅料堿洗機。本實用新型更進一步改進方案是，所述超聲清洗機的型號為SGR28-05手動硅料清洗機。本實用新型的有益效果在于用本實用新型進行硅原料的清洗時，先將硅原料放入沖淋清洗機內預沖洗，并在沖洗后對硅原料的表面進行檢測；根據檢測將表面無附著物的硅原料送入超聲清洗機中清洗，將表面有少許雜質的硅原料放入酸性清洗機進行酸洗，將表面雜質較多的硅原料放入酸性浸泡機內浸泡數小時；將經過酸洗或酸浸泡的硅原料放入沖淋清洗機中進行沖洗，沖洗后對硅原料表面進行觀察；根據觀察將表面沒有殘留污垢的硅原料放入超聲清洗機進行超聲清洗，將表面仍有殘留污垢的硅原料放入堿性清洗機內進行堿洗；將經過堿洗的硅原料放入沖淋清洗機中進行沖洗，之后再將硅原料送入超聲清洗機中清洗。從上述工作過程可知，用本實用新型進行硅原料的清洗，既能夠進行實時監控，又能保證硅原料的清洗質量，還能減少硅原料的損耗，節省成本、提高效率。


圖1為本實用新型位置俯視示意圖。
具體實施方式
如圖1所示，本實用新型包括沖淋清洗機I (本實施案例中，沖淋清洗機I的型號為SGPR-05硅料清洗機)，所述沖淋清洗機I的四周分別設有酸性清洗機2 (本實施案例中，酸性清洗機2的型號為SGPR-04硅料酸洗機)、酸性浸泡機3 (本實施案例中，酸性浸泡機3的型號為SGPR-05硅料浸泡機)、堿性清洗機4 (本實施案例中，堿性清洗機4的型號為SGSR-04硅料堿洗機)和超聲清洗機5 (本實施案例中，超聲清洗機5的型號為SGR28-05手動硅料清洗機)；所述酸性清洗機2位于酸性浸泡機3的對面，所述堿性清洗機4位于超聲清洗機5的對面。本實用新型使用時，先將硅原料放入沖淋清洗機I內預沖洗，并在沖洗后對硅原料的表面進行檢測；根據檢測將表面無附著物的硅原料送入超聲清洗機5中清洗，將表面有少許雜質的硅原料放入酸性清洗機2進行酸洗，將表面雜質較多的硅原料放入酸性浸泡機3內浸泡數小時(本實施案例中，將硅原料浸泡f 3小時);將經過酸洗或酸浸泡的硅原料放入沖淋清洗機I中進行沖洗，沖洗后對硅原料表面進行觀察；根據觀察將表面沒有殘留污垢的硅原料放入超聲清洗機5進行超聲清洗，將表面仍有殘留污垢的硅原料放入堿性清洗機4內進行堿洗；將經過堿洗的硅原料放入沖淋清洗機I中進行沖洗，之后再將硅原料送入超聲清洗機5中清洗。
權利要求1.一種硅料清洗裝置組，其特征在于包括沖淋清洗機(1)，所述沖淋清洗機(I)的四周分別設有酸性清洗機(2)、酸性浸泡機(3)、堿性清洗機(4)和超聲清洗機(5)。
2.如權利要求1所述的一種硅料清洗裝置組，其特征在于所述酸性清洗機(2)位于酸性浸泡機(3)的對面，所述堿性清洗機(4)位于超聲清洗機(5)的對面。
3.如權利要求1所述的一種硅料清洗裝置組，其特征在于所述沖淋清洗機(I)的型號為SGPR-05硅料清洗機。
4.如權利要求1所述的一種硅料清洗裝置組，其特征在于所述酸性清洗機(2)的型號為SGPR-04硅料酸洗機。
5.如權利要求1所述的一種硅料清洗裝置組，其特征在于所述酸性浸泡機(3)的型號為SGPR-05硅料浸泡機。
6.如權利要求1所述的一種硅料清洗裝置組，其特征在于所述堿性清洗機(4)的型號為SGSR-04硅料堿洗機。
7.如權利要求1所述的一種硅料清洗裝置組，其特征在于所述超聲清洗機(5)的型號為SGR28-05手動硅料清洗機。
專利摘要本實用新型公開了一種硅料清洗裝置組，本實用新型包括沖淋清洗機，所述沖淋清洗機的四周分別設有酸性清洗機、酸性浸泡機、堿性清洗機和超聲清洗機；所述酸性清洗機位于酸性浸泡機的對面，所述堿性清洗機位于超聲清洗機的對面。用本實用新型行星硅原料清洗時，根據硅原料表面的不同，按照不同的流程對硅原料進行清洗。從上述工作過程可知，用本實用新型進行硅原料的清洗，既能夠進行實時監控，又能保證硅原料的清洗質量，還能減少硅原料的損耗，節省成本、提高效率。
文檔編號B08B7/04GK202845382SQ201220542400
公開日2013年4月3日 申請日期2012年10月23日 優先權日2012年10月23日
發明者張凌松 申請人:宿遷宇龍光電科技有限公司