專利名稱：一種pecvd輔助配件清洗機的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及太陽能生產設備技術領域，更具體地說，特別涉及一種PECVD輔助配件清洗機。
背景技術：
PECVD:等離子體增強化學氣相沉積法，是Plasma EnhancedChemical VaporDeposition的英文縮寫。等離子體增強化學氣相沉積法是借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，等離子體化學活性較強，很容易與基片發生反應，在基片上沉積出所期望的薄膜。在光伏行業技術領域中，通常采用PECVD對硅片進行鍍膜處理，用于提高硅片的介電常數、使得硅片具有良好的減反射效果。現有技術中PECVD設備的工藝腔室內，有大量用于輔助工藝的特氣槽、特氣擋板、防鍍膜板等輔助配件，這些材料的材質主要是以石墨纖維和不銹鋼板為主要材料。在長時間的生產工藝后，這些材料的表面會附著厚度在1_-2_的氮化硅層，影響了產品的質量。為了降低太陽能組件的生產成本，在輔助配件附著有較厚的氮化硅層后，需要對氮化硅層進行清理，用于保證輔助配件仍具有良好的輔助效果。輔助配件一般采用石墨或者不銹鋼制成，目前現有的維護方式為直接用金屬工具進行敲擊或用鋼絲刷進行清潔特氣槽以及擋板，由于氮化硅的附著能力較強，無法徹底清除表面附著的氮化硅，而且石墨件為易損件無法承受金屬工具的敲擊，金屬器件被金屬工具敲擊后出現了無法修復的嚴重變形，無法繼續使用。導致了特氣槽、特氣擋板、防鍍膜板成為了定期耗材，在日常生產中成本損失嚴重。敲擊方式將破壞石墨特氣槽以及石墨擋板表面的結構，容易造成石墨纖維分層，以及后期生產中工藝腔室掉渣導致大量不合格片子的產生，也會降低石墨特氣槽以及擋板的使用壽命，增加生產中的成本。綜上所述，如何在對輔助配件的影響較小的前提下對PECVD輔助配件進行高效的清理，成為了本領域技術人員亟待解決的問題。

實用新型內容本實用新型要解決的技術問題為提供一種能夠對PECVD輔助配件進行清洗的專用清洗機，該清洗機通過其結構設計，既能夠對PECVD輔助配件進行高效率的清洗，同時對PECVD輔助配件物理性狀的改變程度較小。為解決上述技術問題，本實用新型提供了一種PECVD輔助配件清洗機，包括:機架；酸洗系統，所述酸洗系統安裝于所述機架上，所述酸洗系統包括用于盛裝氫氟酸的酸槽；浸泡噴淋清洗系統，所述浸泡噴淋清洗系統安裝于所述機架上，所述浸泡噴淋清洗系統包括清洗槽，所述清洗槽中安裝有噴淋頭。[0013]優選地，本實用新型還包括干冰預清洗系統，所述干冰預清洗系統包括干冰處理槽，所述干冰處理槽的底部開設有排渣口。優選地，所述酸洗系統還包括排酸管路，所述排酸管路與所述酸槽的底壁連通。優選地，所述酸洗系統還包括用于向氫氟酸中充氣的充氣閥組件，所述充氣閥組件設置于所述酸槽靠近其底壁的位置，并與所述酸槽的底壁間隔設置。優選地，所述浸泡噴淋清洗系統還包括水循環組件，所述水循環組件包括用于與所述清洗槽相連通的進水管和出水管。優選地，所述進水管與所述出水管均設置于所述清洗槽的底壁上。優選地，本實用新型還包括排風系統，所述排風系統設置于所述機架的上側。優選地，所述排風系統包括排風風道，所述排風風道中安裝有用于調節排風量的調節閥。優選地，所述述排風系統包括排風風道，所述排風風道中安裝有用于對氣體進行過濾的過濾網。本實用新型提供了一種PECVD輔助配件清洗機，用于對PECVD工藝中所使用的輔助配件進行清洗。在本實用新型中，PECVD輔助配件清洗機包括:機架；酸洗系統，酸洗系統安裝于機架上，酸洗系統包括用于盛裝氫氟酸的酸槽；浸泡噴淋清洗系統，浸泡噴淋清洗系統安裝于機架上，浸泡噴淋清洗系統包括清洗槽，清洗槽中安裝有噴淋頭。機架用于安裝本實用新型其他的組件，在本實用新型中機架采用鋼架結構，用于保證機架具有較高的結構強度。酸洗系統用于對輔助配件進行酸洗，氫氟酸與氮化硅之間具有如下反應:Si3N4+4HF+9H20=3H2Si03，利用氫氟酸與氮化硅之間能夠反應的特性，本實用新型對輔助配件的清潔不采用物理清除的方法，能夠避免輔助材料物理性能的變化。在上述結構設計中，本實用新型提供的PECVD輔助配件清洗機采用氫氟酸與氮化硅進行化學反應實現對輔助配件的清洗，由于不采用物理敲擊的方式進行清洗，能夠避免輔助配件物理屬性的變化。同時，采用化學反應進行清洗作業，其清洗較為徹底，并且具有較為優質的清洗效果。

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據提供的附圖獲得其他的附圖。圖1為本實用新型一種實施例中PECVD輔助配件清洗機的結構示意圖；圖1中部件名稱與附圖標記的對應關系為:酸槽I ;排酸管路11 ;充氣閥組件12 ；清洗槽2;噴淋頭21;干冰處理槽3 ;排渣口 31 ；排風系統4。
具體實施方式
本實用新型的核心為提供一種能夠對PECVD輔助配件進行清洗的專用清洗機，該清洗機設置有用于盛放氫氟酸的酸槽，采用氫氟酸對PECVD輔助配件進行酸洗。通過該結構設計，既能夠對PECVD輔助配件進行高效率的清洗，同時對PECVD輔助配件物理性狀的改變程度較小。為了使本領域的技術人員更好地理解本實用新型的技術方案，
以下結合附圖和具體實施例對本實用新型作進一步的詳細說明。請參考圖1，圖1為本實用新型一種實施例中PECVD輔助配件清洗機的結構示意圖。本實用新型提供了一種PECVD輔助配件清洗機，用于對PECVD工藝中所使用的輔助配件進行清洗。在本實用新型中，PECVD輔助配件清洗機包括:機架；酸洗系統，酸洗系統安裝于機架上，酸洗系統包括用于盛裝氫氟酸的酸槽I ;浸泡噴淋清洗系統，浸泡噴淋清洗系統安裝于機架上，浸泡噴淋清洗系統包括清洗槽2，清洗槽2中安裝有噴淋頭21。機架用于安裝本實用新型其他的組件，在本實用新型中機架采用鋼架結構，用于保證機架具有較高的結構強度。酸洗系統用于對輔助配件進行酸洗，酸洗系統安裝于機架上，酸洗系統包括用于盛裝氫氟酸的酸槽I。氫氟酸與氮化硅之間具有如下反應:Si3N4+4HF+9H20=3H2Si03，利用氫氟酸與氮化硅之間能夠反應的特性，本實用新型對輔助配件的清潔不采用物理清除的方法，能夠避免輔助材料物理性能的變化。具體地，對不銹鋼質地的輔助配件采用2%至4%的氫氟酸進行浸泡，對石墨質地的輔助配件采用5%至6%的氫氟酸進行浸泡。浸泡噴淋清洗系統安裝于機架上,浸泡噴淋清洗系統包括清洗槽2，清洗槽2中安裝有噴淋頭21。輔助配件經過酸洗系統的清洗后，再通過浸泡噴淋清洗系統將氫氟酸洗掉，避免氫氟酸殘留腐蝕輔助配件。現有技術中對輔助配件的維護方式為直接用金屬工具進行敲擊或用鋼絲刷進行清潔，由于氮化硅的附著能力較強，無法徹底清除表面附著的氮化硅。并且，石墨質地的輔助配件較脆、容易損件無法承受金屬工具的敲擊，金屬器件被金屬工具敲擊后出現了無法修復的嚴重變形，無法繼續使用。本實用新型提供的PECVD輔助配件清洗機通過采用設置酸洗系統，氫氟酸能夠與氮化硅進行反應實現對輔助配件的清洗，由于不采用物理敲擊的方式進行清洗，能夠避免輔助配件物理屬性的變化。同時，采用化學反應進行清洗作業，其清洗較為徹底，并且具有較為優質的清洗效果。具體地，本實用新型提供的PECVD輔助配件清洗機還包括干冰預清洗系統，干冰預清洗系統包括干冰處理槽3，干冰處理槽3的底部開設有排渣口 31。干冰清洗，是一種清洗污垢采用的方法。這個過程是在設備表面及涂層之間產生收縮的張力。這種張力能夠充分地破壞污垢的結垢力，將污垢從設備涂層上剝離。在本實用新型中，通過采用干冰清洗的方法對輔助配件進行預處理，能夠有效地將輔助配件上的氮化硅附著物去除，由于該去除過程不采用硬物敲擊的方式，避免了輔助配件變形、損壞的情況發生。干冰處理槽3用于盛裝輔助配件上脫落的氮化硅顆粒，并且，在干冰處理槽3的底部開設有排渣口 31，方便氮化硅顆粒的集中處理。由上述可知，本實用新型采用氫氟酸對氮化硅進行酸洗，從而達到徹底清除輔助配件上氮化硅附著物的目的。在氫氟酸使用一段時間后，其酸洗效果會隨著氫氟酸濃度的降低而降低。為了便于酸槽I中氫氟酸溶液的更換，在本實施例中酸洗系統還包括排酸管路11，排酸管路11與酸槽I的底壁連通。在酸槽I工作狀態下，排酸管路11上安裝的閥門關閉，氫氟酸盛裝于酸槽I中與輔助配件上的氮化硅反應；在需要更換氫氟酸時，打開排酸管路11上閥門，氫氟酸將會通過排酸管路11排出酸槽I。具體地，酸洗系統還包括用于向氫氟酸中充氣的充氣閥組件12，充氣閥組件12設置于酸槽I靠近其底壁的位置，并與酸槽I的底壁間隔設置。充氣閥組件12能夠向氫氟酸溶液中充入氮氣，使得酸槽I中的氫氟酸溶液得到擾動，從而能夠加快氫氟酸與輔助配件上氮化硅的反應，加快處理進度。浸泡噴淋清洗系統的作用為對輔助配件進行水清洗，尤其是在輔助配件經過酸洗后，通過浸泡噴淋清洗系統能夠將輔助配件上殘留的氫氟酸溶液吸取，避免殘留的氫氟酸溶液對輔助配件造成腐蝕。具體地，在本實用新型中浸泡噴淋清洗系統還包括水循環組件，水循環組件包括用于與清洗槽2相連通的進水管和出水管。在上述結構設計中，水循環組件的作用為:為浸泡噴淋清洗系統提供清潔用水；同時，還能夠將清洗后廢水排出。水循環組件中的出水管具有對廢水的導向功能，出水管與清洗槽2向連通，同時本實用新型還可以設置廢水處理組件。例如采用過濾網，將廢水中的固體顆粒雜質過濾，通過調節廢水的酸堿性,可以將處理后的廢水在此供給水循環組件,實現廢水的循環利用。具體地，進水管與出水管均設置于清洗槽2的底壁上。進水管設置于清洗槽2的底壁上，能夠保證清洗用水從清洗槽2的底部注滿清洗槽2，該結構設計能夠有效避免水花的飛濺，提高清洗用水灌注的穩定性。出水管設置于清洗槽2的底壁上，能夠保證清洗槽2中使用過的清洗用水較為徹底地排出清洗槽2。出水管上設置有用于控制其開閉的閥門，在清洗槽2工作狀態下，出水管上安裝的閥門關閉，清洗用水盛裝于清洗槽2中用于對輔助配件進行水清洗；在需要更換清洗用水時，打開出水管上的閥門，廢水將會通過出水管排出清洗槽2。在上述實施例中，酸洗系統還包括用于向氫氟酸中充氣的充氣閥組件12，充氣閥組件12能夠向氫氟酸溶液中充入氮氣從而提高酸洗效率。基于該實施方式，本實用新型還提供了排風系統4，排風系統4設置于機架的上側。排風系統4能夠將經過氫氟酸溶液的氮氣排出PECVD輔助配件清洗機，避免氮氣與機器中的聚集。具體地，在本實用新型的一個實施例中，排風系統4包括排風風道，排風風道中安裝有用于調節排風量的調節閥。基于上述實施例，本實用新型對排風系統4做出了如下結構改進:排風系統4包括排風風道，所述排風風道中安裝有用于對氣體進行過濾的過濾網。當氮氣通過氫氟酸時，不可避免會將氫氟酸分子帶出其溶液中，使得通過氫氟酸溶液的氮氣具有微弱的酸性，在長期的使用過程中，該酸性的氮氣容易對PECVD輔助配件清洗機中的部件造成腐蝕。為了避免該情況發生，本實用新型提供了過濾網，過濾網能夠對氮氣進行過濾，使得排風系統4排出的氮氣為純凈的氮氣。經過過濾后的氮氣還能夠重新回輸至充氣閥組件12，實現氮氣的循環利用。 以上對本實用新型所提供的一種PECVD輔助配件清洗機進行了詳細介紹。本文中應用了具體個例對本實用新型的原理及實施方式進行了闡述，以上實施例的說明只是用于幫助理解本實用新型的方法及其核心思想。應當指出，對于本技術領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型原理的前提下，還可以對本實用新型進行若干改進和修飾，這些改進和修飾也落入本實用新型權利要求的保護范圍內。
權利要求1.一種PECVD輔助配件清洗機，其特征在于，包括: 機架； 酸洗系統，所述酸洗系統安裝于所述機架上，所述酸洗系統包括用于盛裝氫氟酸的酸槽(I); 浸泡噴淋清洗系統，所述浸泡噴淋清洗系統安裝于所述機架上，所述浸泡噴淋清洗系統包括清洗槽(2 )，所述清洗槽(2 )中安裝有噴淋頭(21)。
2.根據權利要求1所述的PECVD輔助配件清洗機，其特征在于，還包括干冰預清洗系統，所述干冰預清洗系統包括干冰處理槽(3)，所述干冰處理槽(3)的底部開設有排渣口(31)。
3.根據權利要求1所述的PECVD輔助配件清洗機，其特征在于，所述酸洗系統還包括排酸管路(11)，所述排酸管路(11)與所述酸槽(I)的底壁連通。
4.根據權利要求1所述的PECVD輔助配件清洗機，其特征在于，所述酸洗系統還包括用于向氫氟酸中充氣的充氣閥組件(12)，所述充氣閥組件(12)設置于所述酸槽(I)靠近其底壁的位置，并與所述酸槽(I)的底壁間隔設置。
5.根據權利要求1所述的PECVD輔助配件清洗機，其特征在于，所述浸泡噴淋清洗系統還包括水循環組件，所述水循環組件包括用于與所述清洗槽(2 )相連通的進水管和出水管。
6.根據權利要求5所述的PECVD輔助配件清洗機，其特征在于，所述進水管與所述出水管均設置于所述清洗槽(2)的底壁上。
7.根據權利要求1至6任一項所述的PECVD輔助配件清洗機，其特征在于，還包括排風系統(4)，所述排風系統(4)設置于所述機架的上側。
8.根據權利要求7所述的PECVD輔助配件清洗機，其特征在于，所述排風系統(4)包括排風風道，所述排風風道中安裝有用于調節排風量的調節閥。
9.根據權利要求7所述的PECVD輔助配件清洗機，其特征在于，所述述排風系統(4)包括排風風道，所述排風風道中安裝有用于對氣體進行過濾的過濾網。
專利摘要本實用新型公開了一種PECVD輔助配件清洗機，包括機架；酸洗系統，酸洗系統安裝于機架上，酸洗系統包括用于盛裝氫氟酸的酸槽；浸泡噴淋清洗系統，浸泡噴淋清洗系統安裝于機架上，浸泡噴淋清洗系統包括清洗槽，清洗槽中安裝有噴淋頭。酸洗系統用于對輔助配件進行酸洗，氫氟酸與氮化硅之間具有如下反應Si3N4+4HF+9H2O=3H2SiO3，利用氫氟酸與氮化硅之間能夠反應的特性，本實用新型對輔助配件的清潔不采用物理清除的方法，能夠避免輔助材料物理性能的變化。本實用新型采用氫氟酸與氮化硅進行化學反應實現對輔助配件的清洗，能夠使得本實用新型對輔助配件的清洗較為徹底，并且其清洗效果較佳。
文檔編號B08B3/02GK203030585SQ201320016459
公開日2013年7月3日 申請日期2013年1月11日 優先權日2013年1月11日
發明者閆文啟, 齊海洋, 李盼 申請人:英利集團有限公司