按摩足浴盆的制作方法
【專利摘要】本實用新型公開一種按摩足浴盆，所述按摩足浴盆包括盆座和設置在盆座內部的盆體；所述盆體內部設有可容納腳的盆腔，在盆腔內的盆體底部設有呈匹配對稱設置的左按摩區和右按摩區，左按摩區內和右按摩區內分別設有足底按摩裝置；所述足底按摩裝置包括按摩轉盤和偏心軸固按摩頭；所述按摩轉盤為圓形，所述偏心軸固按摩頭固結于按摩轉盤的頂面上，并且可以繞按摩轉盤的圓心轉動；所述按摩轉盤的盤面上設置有至少兩組沿按摩轉盤周向方向均勻設置的按摩滾珠組。針對不同體質人群需求而設計，使用時可以因人而異，可以起到調整陰陽，平衡氣血，疏通經脈的作用，達到強身的目的。
【專利說明】按摩足浴盆

【技術領域】
[0001]本實用新型涉及按摩器材領域。更具體地，涉及一種按摩足浴盆。

【背景技術】
[0002]現有的足浴按摩盆中，采用的有滑輪按摩，振動按摩和逆向旋轉按摩等方式。這些現有的按摩技術，對不同體質的人群采用的按摩方法是完全相同的。按照中醫按摩理論，不同體質的人群，采用的按摩方法應有所不同，因人而異才能起到相應的按摩效果，對于體質較弱的人群，需要用補法按摩，即:較輕刺激的按摩手法、柔和、輕快、時間短促，按摩時順時針旋轉；對于體質強壯的人群，需要用瀉法按摩，即:重刺激的手法，手法重而強，用力由輕入重，作用時間長，，按摩時逆時針旋轉。因此，需要一種能供各種體質的人群使用的按摩足浴盆。
實用新型內容
[0003]本實用新型要解決的技術問題是提供一種不同體質的人群均可使用的按摩足浴盆。
[0004]為解決上述技術問題，本實用新型采用下述技術方案:
[0005]一種按摩足浴盆，所述按摩足浴盆包括盆座和設置在盆座內部的盆體；
[0006]所述盆體內部設有可容納腳的盆腔，所述盆腔包括呈匹配對稱設置的左按摩區和右按摩區，左按摩區內的盆體內側底面上和右按摩區內的盆體內側底面上分別設有足底按摩裝置；
[0007]所述足底按摩裝置包括按摩轉盤和偏心軸固按摩頭；
[0008]所述按摩轉盤為圓形；所述偏心軸固按摩頭固結于按摩轉盤的盤面上，且所述偏心軸固按摩頭隨按摩轉盤一起繞按摩轉盤的圓心豎向軸線轉動；
[0009]所述按摩轉盤的盤面上還設置有至少兩組沿按摩轉盤周向方向均勻設置的按摩滾珠組；
[0010]所述按摩滾珠組包括至少兩個沿著按摩轉盤徑向方向排列設置的按摩滾珠。
[0011]所述按摩轉盤可沿順時針方向旋轉和逆時針方向旋轉；體質較弱的人適合采用順時針旋轉，體質強壯的人適合采用逆時針旋轉。
[0012]所述盆體的上端面設有用于操控按摩轉盤的旋轉方向和轉速的操作面板。
[0013]所述盆座和盆體之間設有用于帶動按摩轉盤旋轉的電機。
[0014]本實用新型的有益效果如下:
[0015]本實用新型針對不同體質人群的按摩需求不同的問題，設計出的按摩足浴盆，克服了對不同體質的人群采用完全相同的按摩方法的缺陷，使用時體質較弱的人采用按摩轉盤順時針旋轉，體質強壯的人采用按摩轉盤逆時針旋轉，因人而異，起到調整陰陽，平衡氣血，疏通經脈的作用，達到強身的目的。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0016]下面結合附圖對本實用新型的【具體實施方式】作進一步詳細的說明。
[0017]圖1示出本實用新型的俯視圖。

【具體實施方式】
[0018]為了更清楚地說明本實用新型，下面結合優選實施例和附圖對本實用新型做進一步的說明。附圖中相似的部件以相同的附圖標記進行表示。本領域技術人員應當理解，下面所具體描述的內容是說明性的而非限制性的，不應以此限制本實用新型的保護范圍。
[0019]如圖1所示，一種按摩足浴盆，所述按摩足浴盆包括盆座I和設置在盆座I內部的盆體2 ；
[0020]所述盆體2內部設有可容納腳的盆腔3，所述盆腔3包括呈匹配對稱設置的左按摩區4和右按摩區5，左按摩區4內的盆體2內側底面上和右按摩區5內的盆體2內側底面上分別設有足底按摩裝置；
[0021 ] 所述足底按摩裝置包括按摩轉盤6和偏心軸固按摩頭7 ；
[0022]所述按摩轉盤6為圓形；所述偏心軸固按摩頭7固結于按摩轉盤6的盤面上，且所述偏心軸固按摩頭7隨按摩轉盤6 —起繞按摩轉盤6的圓心豎向軸線轉動；
[0023]所述按摩轉盤6的盤面上還設置有至少兩組沿按摩轉盤6周向方向均勻設置的按摩滾珠組8 ；
[0024]所述按摩滾珠組8包括至少兩個沿著按摩轉盤6徑向方向排列設置的按摩滾珠81。
[0025]所述按摩轉盤6可沿順時針方向旋轉和逆時針方向旋轉。
[0026]所述盆體2上端面上設有用于操控按摩轉盤6的旋轉方向和轉速的操作面板9。
[0027]所述盆座I和盆體2之間設有用于帶動按摩轉盤6旋轉的電機。
[0028]顯然，本實用新型的上述實施例僅僅是為清楚地說明本實用新型所作的舉例，而并非是對本實用新型的實施方式的限定，對于所屬領域的普通技術人員來說，在上述說明的基礎上還可以做出其它不同形式的變化或變動，這里無法對所有的實施方式予以窮舉，凡是屬于本實用新型的技術方案所引伸出的顯而易見的變化或變動仍處于本實用新型的保護范圍之列。
【權利要求】
1.一種按摩足浴盆，其特征在于:所述按摩足浴盆包括盆座和設置在盆座內部的盆體； 所述盆體內部設有可容納腳的盆腔，所述盆腔包括呈匹配對稱設置的左按摩區和右按摩區，左按摩區內的盆體內側底面上和右按摩區內的盆體內側底面上分別設有足底按摩裝置； 所述足底按摩裝置包括按摩轉盤和偏心軸固按摩頭； 所述按摩轉盤為圓形；所述偏心軸固按摩頭固結于按摩轉盤的盤面上，且所述偏心軸固按摩頭隨按摩轉盤一起繞按摩轉盤的圓心豎向軸線轉動； 所述按摩轉盤的盤面上還設置有至少兩組沿按摩轉盤周向方向均勻設置的按摩滾珠組； 所述按摩滾珠組包括至少兩個沿著按摩轉盤徑向方向排列設置的按摩滾珠； 所述按摩轉盤可沿順時針方向旋轉和逆時針方向旋轉。
2.根據權利要求1所述的按摩足浴盆，其特征在于:所述盆體的上端面設有用于操控按摩轉盤的旋轉方向和轉速的操作面板。
3.根據權利要求1所述的按摩足浴盆，其特征在于:所述盆座和盆體之間設有用于帶動按摩轉盤旋轉的電機。
【文檔編號】A47K3/022GK204016100SQ201420205237
【公開日】2014年12月17日 申請日期:2014年4月24日 優先權日:2014年4月24日
【發明者】吳樹功 申請人:吳樹功