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一種抗指印的硅烷涂布聚氯乙烯人造革的制作方法

文檔序號:11212702閱讀:423來源:國知局

本發(fā)明屬于聚氯乙烯人造革技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種抗指印的硅烷涂布的聚氯乙烯人造革。



背景技術(shù):

人造革是一種外觀、手感似皮革并可代替其使用的塑料制品。通常以織物為底基,涂覆合成樹脂及各種塑料添加制成。上世紀(jì)八十年代,昂貴的皮衣皮料一般人消費(fèi)不起,應(yīng)市場需求,仿冒皮革的人造革一度流行起來,被廣泛應(yīng)用于制衣、制包。

硅樹脂生產(chǎn)的硅烷涂層是已知的,經(jīng)過不斷的發(fā)展,應(yīng)該硅烷涂層作為人造革的保護(hù)層可以提高人造革的使用質(zhì)量。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的是提供一種抗指印的硅烷涂布聚氯乙烯人造革。

本發(fā)明解決上述問題所采用的技術(shù)方案為:一種抗指印的硅烷涂布聚氯乙烯人造革,是在聚氯乙烯基底表面涂飾一層硅烷涂布材料并固化,所述硅烷涂布材料是用反應(yīng)物摻混一種或多種未預(yù)縮合或部分預(yù)縮合的硅烷,并且硅烷涂布材料中包含蠟。

根據(jù)本發(fā)明,所述硅烷的分子量大于200,更優(yōu)選大于300,尤其是大于500,并且最優(yōu)選大于1000。

本發(fā)明的范疇內(nèi),所述硅烷在有機(jī)側(cè)鏈中具有適于形成氫橋鍵的極性化基團(tuán)。

較合理的設(shè)置是,在所述固化之前,將所述硅烷與同系或非同系的硅烷或者與有機(jī)單體、低聚物或聚合物進(jìn)行有機(jī)交聯(lián)反應(yīng)。

本發(fā)明的一項(xiàng)改進(jìn)是在硅烷涂布材料中加入溶劑,包括醇、醋酸酯、醚或反應(yīng)稀釋劑。

進(jìn)一步地,向聚氯乙烯基底上濕化學(xué)涂覆硅烷涂布材料,包括噴霧、浸漬、流涂、輥涂、涂抹、壓涂、離心涂布、刮涂或真空蒸發(fā)。

與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:提供了一種硅烷涂布的聚氯乙烯人造革,經(jīng)過本發(fā)明的硅烷涂布材料保護(hù)后,使聚氯乙烯更好地抗指印特性,提高了聚氯乙烯人造革的使用品質(zhì)。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。

實(shí)施例1

將11.8g己二醇和49.5g異氰酸根合丙基三乙氧基硅烷(ictes)攪拌加熱至50℃并慘混入0.1g二月桂酸二丁基錫。50℃下進(jìn)一步攪拌30分鐘,之后冷卻至室溫。

將5g上述物料溶解于10g1-甲氧基-2-丙醇中并摻混入0.2g乙酰丙酮鋁和0.3g蠟。

采用流涂的方式將所獲得的硅烷涂布材料涂飾到聚氯乙烯人造革表面,之后在120℃下在通風(fēng)爐中固化50分鐘。

本實(shí)施例所得聚氯乙烯人造革具有很好的抗指印特性。

實(shí)施例2

將30.0gdesmophen1145和4.3g異氰酸根合丙基三乙氧基硅烷(ictes)攪拌加熱至50℃并慘混入0.15g二月桂酸二丁基錫。50℃下進(jìn)一步攪拌60分鐘,之后冷卻至室溫。

將10g上述物料溶解于8g1-甲氧基-2-丙醇中并摻混入0.1g乙酰丙酮鋁和0.2g蠟。

采用噴霧的方式將所獲得的硅烷涂布材料涂飾到聚氯乙烯人造革表面,之后在150℃下在通風(fēng)爐中固化60分鐘。

本實(shí)施例所得聚氯乙烯人造革具有很好的抗指印特性。

實(shí)施例3

45℃下將22.1g氨基丙基三乙氧基硅烷和27.8g縮水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷攪拌并在該溫度下置留45分鐘。

將10g反應(yīng)混合物溶于12g異丙醇中并摻混入0.3g乙酰丙酮和0.2g蠟。

再流涂到聚氯乙烯人造革表面,將涂層于120℃下在通風(fēng)爐中固化20分鐘。

本實(shí)施例所得聚氯乙烯人造革具有很好的抗指印特性。



技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種抗指印的硅烷涂布聚氯乙烯人造革,是在聚氯乙烯基底表面涂飾一層硅烷涂布材料并固化,硅烷涂布材料是用反應(yīng)物摻混一種或多種未預(yù)縮合或部分預(yù)縮合的硅烷。硅烷的分子量大于200。硅烷在有機(jī)側(cè)鏈中具有適于形成氫橋鍵的極性化基團(tuán)。聚氯乙烯人造革表面經(jīng)硅烷涂布材料保護(hù)后,使聚氯乙烯人造革具有更好的抗指印特性,提高了聚氯乙烯人造革的使用品質(zhì)。

技術(shù)研發(fā)人員:季建良
受保護(hù)的技術(shù)使用者:無錫華聯(lián)塑料制品有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2016.03.28
技術(shù)公布日:2017.10.10
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