專利名稱：用于光學級玻璃的電極熔化池裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種用于光學級玻璃的電極熔化池裝置
背景技術(shù)：
熔化玻璃用的能源各有不同，使用的方式也不同。有的用電極為主，有 的使用燃油、天然氣、以燒嘴為主，火焰呈黃色，輻射較好。但對于光學玻 璃是不能使用還原火焰，而用氧化火焰，火焰呈蘭色，輻射率低，相比之下 熱效率低一些。目前， 一般使用天然氣和純氧氣或天然氣和空氣燃燒。天然 氣和空氣燃燒反應(yīng)后剩余物為二氧化碳和水、氧氣、氮氣、氧化氮，其中氮 氣的比例較大，沖淡了二氧化碳和氧氣的含量。而用天然氣和純氧氣燃燒反 應(yīng)后剩余物只有二氧化碳和水，則兩者在澄清池中氣泡的變化有所不同 用氧氣燃燒，玻璃中二氧化碳和水較多，如果在澄清池中不消除掉，則 在出料池中可能產(chǎn)生二次氣泡。
采用電極融化的電極材料有鉬、二氧化錫、鉑等，各有特色。除特殊的 玻璃外，二氧化錫電極比鉬電極要好。但價格比鉬電極價格高，若考慮成本， 可以使用鉬電極，但澄清劑氧化砷、氧化銻的用量不能太多
(As203+Sb203<0. 1%〉。若用量過多，Mo的損耗增大，電極壽命縮短,而且可 能產(chǎn)生Mo、 As、 Sb的結(jié)石。二氧化錫電極由于本身進入玻璃而產(chǎn)生結(jié)石，但 沒有上述澄清劑的要求，不能推進，但鉬電極可以推進。二氧化錫電極不易 氧化，可用于玻璃換牌號，而鉬電極易氧化。銷金電極可以在很高溫度下使用，損耗很小，而鉬、二氧化錫電極的損
耗很大。但鉑金電極對于電源有特殊要求，使用的頻率從中頻到10KHZ電源， 如果使用50、 60HZ的電源，玻璃中會出現(xiàn)鉑金顆粒。
發(fā)明內(nèi)容
本實用新型的目的是提供一種用于光學級玻璃的電極熔化池裝置，使玻 璃料在熔化池MZ熔化均勻，并使其流型穩(wěn)定。
為達到以上目的，本實用新型是采取如下技術(shù)方案予以實現(xiàn)的-一種用于光學級玻璃的電極熔化池裝置，包括設(shè)有加熱電極的熔化池， 熔化池一側(cè)上方與一個投料口連通，熔化池另一側(cè)下方通過一個流液洞與攪 拌裝置連通，其特征在于，所述加熱電極從熔化池底部的耐火材料中垂直伸 出，并在垂直與熔化池底部的截面上有規(guī)則的排布，加熱電極伸出高度不高 于玻璃液面。
上述方案中，所述加熱電極在垂直于熔化池底部的截面上有規(guī)則的排布 是指這些電極至少分布成三列，每列各有三個電極，每列電極之間的距離與 列距相等。所述加熱電極伸出高度為玻璃液面的2/3 3/4。所述加熱電極為
鉑電極。
本實用新型鉑金電極從熔化池底部的耐火材料中垂直伸出，并在垂直與 熔化池底部的截面上有規(guī)則的排布，并浸在玻璃的熔液中，使電極具有足夠 的有效表面，能使熔化過程的玻璃液根據(jù)需要維持很高的溫度，特別適應(yīng)于 大量的玻璃料操作中。


圖1為包括本實用新型的電熔化設(shè)備整體結(jié)構(gòu)示意圖。圖2為圖1的俯視圖。
圖l、圖2中1、投料口； 2、加熱電極；3、流液洞；4、攪拌裝置；5、 通道裝置；MZ、熔化池；RZ、澄清池。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖及實施例對本實用新型作進一步的詳細描述。
如圖1所示，用于光學級玻璃的電極熔化池裝置，包括設(shè)有加熱電極2 的熔化池MZ，熔化池一側(cè)上方與一個投料口 l連通，熔化池另一側(cè)下方通過 一個流液洞3與攪拌裝置4連通，攪拌裝置4后面連接澄清池RZ、澄清池RZ 與一個通道裝置5連接。加熱電極2從熔化池底部的耐火材料中垂直伸出， 并在垂直與熔化池底部的截面上有規(guī)則的排布，加熱電極使電能轉(zhuǎn)換成熱能， 達到熔化光學玻璃的目的.加熱電極2伸出高度不高于玻璃液面。玻璃液底部 的溫度略高于玻璃液表面的溫度，但不形成熱循環(huán)；熔化池MZ中的玻璃液深 度不小于500mm，電極2的高度約為玻璃液面的2/3 3/4。
如圖2所示，加熱電極2在熔化池的底部有規(guī)則的排布，這些電極至少 分布成三列，每列各有三個電極，每列電極之間的距離與列距相等。
加熱電極2為Pt電極，電流密度一般不大于2A/cm2 。在設(shè)計時，考 慮到電極的使用壽命，電流密度要小于這個數(shù)據(jù)。若電極使用的電流密度減 小一半，電極的使用壽命可延長5倍。電極電流的變化會影響熔化池MZ中 玻璃的流動，因此應(yīng)盡量保持電極功率的穩(wěn)定。
權(quán)利要求1.用于光學級玻璃的電極熔化池裝置，包括設(shè)有加熱電極的熔化池，熔化池一側(cè)上方與一個投料口連通，熔化池另一側(cè)下方通過一個流液洞與攪拌裝置連通，其特征在于，所述加熱電極從熔化池底部的耐火材料中垂直伸出，并在垂直與熔化池底部的截面上有規(guī)則的排布，加熱電極伸出高度不高于玻璃液面。
2、 如權(quán)利要求1所述的用于光學級玻璃的電極熔化池裝置，其特征在于， 所述加熱電極在垂直于熔化池底部的截面上有規(guī)則的排布是指這些電極至少 分布成三列，每列各有三個電極，每列電極之間的距離與列距相等。
3、 如權(quán)利要求1所述的用于光學級玻璃的電極熔化池裝置，其特征在于， 所述加熱電極伸出高度為玻璃液面的2/3 3/4。
4、 如權(quán)利要求1-3任一所述的用于光學級玻璃的電極熔化池裝置，其特 征在于，所述加熱電極為鉑電極。
專利摘要本實用新型公開了一種用于光學級玻璃的電極熔化池裝置，包括設(shè)有加熱電極的熔化池，熔化池一側(cè)上方與一個投料口連通，熔化池另一側(cè)下方通過一個流液洞與攪拌裝置連通，其特征在于，所述加熱電極從熔化池底部的耐火材料中垂直伸出，并在垂直與熔化池底部的截面上有規(guī)則的排布，加熱電極伸出高度不高于玻璃液面。
文檔編號C03B5/02GK201317722SQ20082022252
公開日2009年9月30日 申請日期2008年11月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月20日
發(fā)明者楊國洪, 裴衛(wèi)東 申請人:陜西彩虹電子玻璃有限公司