專利名稱：一種寬波段高透過率ogs用玻璃及其制造方法
技術領域：
本發明涉及觸摸屏行業，主要應用在電容屏方面，具體涉及一種寬波段高透過率OGS(One glass solution)用玻璃及其制造方法,也可以達到更好的消底影效果。
背景技術：
現有OGS用玻璃的一種結構為:Glass/BM/IT0(氧化銦錫)，其中BM為絕緣邊框，ITO是導電層，這種結構在蝕刻成圖案以后，ITO電極線看的非常明顯，影響觸摸屏的外觀。另一種OGS用ITO導電玻璃的結構為:Glass/BM/Nb2o5/Si02/IT0(氧化銦錫)其中BM為絕緣邊框，ITO是導電層，作為觸摸屏的電極及傳感層，層為消影層，其主要功能是消除ITO蝕刻后的痕跡，有ITO和沒有ITO的地方膜層反射率在0.5%以內，這樣在人的視覺來看，在顯示屏上不容易看見ITO線條。但是以上兩種玻璃在做成觸摸屏后，第一種的ITO線條能夠很清晰的看到，第二種雖然ITO線條經過消影層已經淡化，但是兩種產品在太陽強光下，由于整個膜層的透過率比較低，只有88%左右，如果電阻值更低的話，透過率還會更低，導致反射率高，因此在強光下很難看清楚屏幕上的圖案。傳統觸摸屏是由兩片玻璃對貼組成(一片玻璃做為觸摸傳感器，一片玻璃做為保護玻璃，稱為G/G結構)，這樣增加了觸摸屏的厚度和重量；中國專利申請號200910305105.7公開了一種高透過率TP玻璃及其制造方法，其是在玻璃的前后表面分別采用兩層膜達到高透過率的效果，其僅僅是在550nm處提高了透過率，而且采用的ITO靶材是含3%重量Sn02的In203靶材，其產品電阻為400 Q左右。

發明內容
本發明解決上述問題提供一種寬波段高透過率OGS用玻璃及其制造方法，減輕了觸摸屏的重量，提高了透光率，消除了 ITO導電線條的底影，使得觸摸屏在強光下也能清楚的看到圖案。為解決上述問題，本發明通過以下方案來實現:一種寬波段高透過率OGS用玻璃，該OGS用玻璃為單片玻璃結構，同時起到保護玻璃和觸摸傳感器的雙重作用，在基板的后表面鍍有五氧化二鈮膜、二氧化硅膜，在基板的前表面分別鍍有五氧化二鈮膜、二氧化硅膜、絕緣邊框、ITO導電膜。優選地，所述基板的前表面依次鍍有絕緣邊框、一層五氧化二鈮膜、一層二氧化硅膜、一層五氧化二銀膜、一層二氧化娃膜、ITO導電膜,該基板的后表面依次鍍有一層五氧化二銀膜(4)、一層二氧化娃膜、一層五氧化二銀膜、一層二氧化娃膜。優選地，所述基板(I)的前表面依次鍍有一層五氧化二鈮膜、一層二氧化硅膜、一層五氧化二銀膜、一層二氧化娃膜、絕緣邊框、ITO導電膜,該基板的后表面依次鍍有一層五氧化二銀膜、一層二氧化娃膜、一層五氧化二銀膜、一層二氧化娃膜。優選地,所述基板的前表面依次鍍有一層五氧化二銀膜、一層二氧化娃膜、一層五氧化二銀膜、一層二氧化娃膜、ITO導電膜、絕緣邊框,該基板的后表面依次鍍有一層五氧化二銀膜、一層二氧化娃膜、一層五氧化二銀膜、一層二氧化娃膜。該方法工藝分為三種工藝制作流程，第一種工藝制作流程，絕緣邊框鍍在基板前表面的前表面的功能層和ITO膜層之前，為第一道工序；IT0膜采用低溫鍍膜；第二種工藝制作流程，絕緣邊框鍍在基板前表面的功能層和ITO膜之間，則功能層采用高溫方式或者低溫方式生產均可，ITO膜需要采用低溫鍍膜；第三種工藝制作流程，絕緣邊框鍍在基板前表面前表面的功能層和ITO膜之后，則鍍膜制程完全可采取高溫鍍膜來完成，ITO膜采用高溫鍍膜。優選地，所述第一種工藝的具體流程如下:a、玻璃基板清洗；b、制作絕緣邊框圖案，絕緣邊框在玻璃前表面；C、帶有絕緣邊框的玻璃基板進行鍍膜前清洗；d、將清洗干凈的玻璃基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內；先對玻璃基板的后表面進行鍍膜加工，依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；e、玻璃的后表面鍍完膜后，對玻璃的前表面進行鍍膜，絕緣邊框上依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,最后再鍍一層ITO導電膜；f、在鍍膜機中將玻璃取出，進行檢驗測試，合格入庫。優選地，所述第二種工藝的具體流程如下:a、玻璃基板清洗；b、將清洗干凈的玻璃基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內；先對玻璃基板的后表面進行鍍膜加工，依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；C、玻璃的后表面鍍完膜后,對玻璃的前表面進行鍍膜,依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜，一層Nb2O5膜，一層SiO2膜；然后從鍍膜機中取出，再次清洗；d、在玻璃前表面制作絕緣邊框；e、在進入鍍膜前清洗，鍍最后一層ITO導電膜；f、在鍍膜機中將玻璃取出，進行檢驗測試，合格入庫。優選地，所述第二種工藝的具體流程如下:a、玻璃基板清洗；b、將清洗干凈的玻璃基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內；先對玻璃基板的后表面進行鍍膜加工，依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；C、玻璃的后表面鍍完膜后,對玻璃的前表面進行鍍膜,依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,最后鍍一層ITO導電膜；d、然后從鍍膜機中取出，再次清洗；e、在玻璃前表面制作BM絕緣邊框；f、進行檢驗測試，合格入庫。

優選地，所述的方法工藝是在玻璃前后表面各采用4層光學膜層來提高透過率，是在450-650nm的光學波長范圍內可以使產品的透光率達到99%以上，采用的ITO靶材是含10%重量Sn02的In203靶材，電阻含蓋范圍可到10-500 Q。
本發明的技術是在玻璃前后面分別采用4層膜層來增加整個導電玻璃的透過率，降低反射率，其透過率在450-650nm的光波長范圍內可達到99%以上，比起傳統的導電玻璃，透過率高出好多，在這種高透過率的前提下，可以達到很好的消底影效果，若將產品的線距做的更小，比如10 u m,則消影效果會更好，即有ITO線條的地方和沒有ITO膜的地方視覺效果相同，不存在色差，而且由于其過高的透過率，使得做成的觸摸屏在強光下的顯示效果好，避免了在強光下看不清楚圖案的情況發生。本發明采用的方法作成的導電玻璃，避免了采用傳統消影膜層，ITO電阻值偏高的現象，傳統方法在ITO阻值較低的情況下，很難達到消底影的效果，本發明的產品由于在寬波段范圍內的高透過率，其在ITO阻值比較低的情況下，可以通過玻璃前后表面各4層膜不同膜厚的搭配，保證產品的透過率效果，因此其適用的電阻范圍廣，利于高性能OGS產品的選擇，即保證OGS產品的電學性能，也保證了產品的光學性能。本發明是在玻璃前后表面各采用4層光學膜層來提高透過率，是在450_650nm的光學波長范圍內可以使產品的透光率達到99%以上，采用的ITO靶材是含10%重量Sn02的In203靶材，電阻含蓋范圍可到10-500 Q，而且根據BM層和ITO層的制程順序的不同，ITO的鍍膜方式采用直流疊加射頻低溫濺射的方式或者直流磁控濺射高溫的方式完成。
本發明的有益效果:適用于OGS類的觸摸屏設計，其在設計與制造成本上與現有技術相比，同樣能夠達到采用消影膜層達到的消影效果，使其消影效果更加容易控制；而且在能夠達到消影效果的前提下拓寬了產品的電阻范圍，使OGS產品有了更寬的選擇，提高了產品的電學性能和光學性能，在強光下改善了產品的顯示效果。


圖1為發明實施例一的側視圖；圖2為發明實施例 二的側視圖；圖3為發明實施例三的側視圖；圖4為本發明ITO蝕刻線條效果圖；圖5為本發明絕緣邊框示意圖。
具體實施例方式一種寬波段高透過率OGS用玻璃，該OGS用玻璃為單片玻璃結構，同時起到保護玻璃和觸摸傳感器的雙重作用，在基板I的后表面鍍有五氧化二鈮膜4、二氧化硅膜5，在基板I的前表面分別鍍有五氧化二銀膜4、二氧化娃膜5、絕緣邊框2、ITO導電膜3。如圖1所示，實施例一，1、玻璃基板清洗；2、制作BM絕緣邊框圖案，BM邊框在玻璃前表面；3、帶有BM的玻璃基板進行鍍膜前清洗；4、將清洗干凈的玻璃基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內；先對玻璃基板的后表面進行鍍膜加工，依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；5、玻璃的后表面鍍完膜后，對玻璃的前表面進行鍍膜，BM上依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜,一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,最后再鍍一層ITO導電膜；6、在鍍膜機中將玻璃取出，進行檢驗測試，合格入庫。此種方案ITO采用低溫鍍膜。如圖2所示，實施例二，1、玻璃基板清洗； 2、將清洗干凈的玻璃基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內；先對玻璃基板的后表面進行鍍膜加工，依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；3、玻璃的后表面鍍完膜后,對玻璃的前表面進行鍍膜,依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2 膜，一層 Nb2O5 膜，一層 SiO2 膜；4、然后從鍍膜機中取出，再次清洗；5、在玻璃前表面制作BM絕緣邊框；6、在進入鍍膜前清洗，鍍最后一層ITO導電膜。7、在鍍膜機中將玻璃取出，進行檢驗測試，合格入庫。此種方案ITO采用低溫鍍膜。如圖3所示，實施例三，1、玻璃基板清洗；2、將清洗干凈的玻璃基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內；先對玻璃基板的后表面進行鍍膜加工，依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；3、玻璃的后表面鍍完膜后,對玻璃的前表面進行鍍膜,依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,最后鍍一層ITO導電膜，4、然后從鍍膜機中取出，再次清洗；5、在玻璃前表面制作BM絕緣邊框。6、進行檢驗測試，合格入庫。此種方案ITO采用高溫鍍膜。圖4為ITO蝕刻線條效果圖，a代表有ITO膜，b代表無ITO膜；圖5為絕緣邊框示意圖，絕緣邊框2包圍的中間為顯示區域6。以上方案中的Nb2O5膜都是采用中頻反應磁控濺射的方式制備而成，工作真空度為0.2-0.5Pa，工作氣體為高純氬氣，純度為99.999%，氬氣80-120sccm，中頻反應濺射的反應氣體為高純氧氣，純度為99.999 %，氧氣占比例10-15 %，靶功率在5KW-20KW，靶電壓550V——650V，膜層厚度在3nm-100nm之間。以上方案中的SiO2膜都是采用中頻反應磁控濺射的方式制備而成，工作真空度為0.2-0.5Pa，工作氣體為高純氬氣，純度為99.999%，氬氣200-400sccm，中頻反應濺射的反應氣體為高純氧氣，純度為99.999%，氧氣占比例30-50%，靶功率在5KW-50KW，靶電壓450V——5 50V，膜層厚度在20nm-200nm之間。高溫ITO導電膜是采用直流磁控濺射的方式制備而成，工作真空度為0.2-0.5Pa，工作氣體為高純氬氣，純度為99.999%，氬氣240-350sccm，靶功率在5KW-30KW，靶電壓220V——250V，膜層電阻在10-500Q之間。低溫ITO導電膜是采用直流疊加射頻濺射的方式制備而成，工作真空度為0.2-0.5Pa，工作氣體為高純氬氣，純度為99.999 %，氬氣240-350sccm，靶功率在5KW-40KW，靶電壓IlOV——150V，膜層電阻在10-500 Q之間。玻璃基板的溫度根據OGS本身的制作工藝，分為高溫鍍膜和低溫鍍膜，如果如果BM層在玻璃前表面的第一道工序，則前表面的鍍膜制程全部采用低溫鍍膜；若BM在玻璃前表面的高透膜層和ITO膜之間，則高透膜層采用高溫方式或者低溫方式生產均可，但是ITO膜層需要采用低溫鍍膜；若BM層在玻璃前表面的高透膜層和ITO膜層之后，則鍍膜制程完全可采取高溫鍍膜來完成。在以上溫度范圍內，溫度的高低對于采用中頻反應濺射制備高透膜層的Nb2O5膜和SiO2膜在工藝上沒有影響；但是對ITO膜層來說，溫度的高低影響到膜層的制備方式，可以根據溫度的高低和對膜層性能的要求選擇采取直流疊加射頻濺射的方式鍍膜或者直接采用直流濺射的方式完成。具體實施案例:
權利要求
1.一種寬波段高透過率OGS用玻璃，其特征在于:該OGS用玻璃為單片玻璃結構，同時起到保護玻璃和觸摸傳感器的雙重作用，在基板(I)的后表面鍍有五氧化二鈮膜(4)、二氧化硅膜(5)，在基板(I)的前表面分別鍍有五氧化二鈮膜(4)、二氧化硅膜(5)、絕緣邊框(2)、ITO 導電膜(3)。
2.根據權利要求1所述的一種寬波段高透過率OGS用玻璃，其特征在于:所述基板(I)的前表面依次鍍有絕緣邊框(2)、一層五氧化二鈮膜(4)、一層二氧化硅膜(5)、一層五氧化二銀膜(4)、一層二氧化娃膜(5)、ITO導電膜(5),該基板(I)的后表面依次鍍有一層五氧化二銀膜(4)、一層二氧化娃膜(5)、一層五氧化二銀膜(4)、一層二氧化娃膜(5)。
3.根據權利要求1所述的一種寬波段高透過率OGS用玻璃，其特征在于:所述基板(I)的前表面依次鍍有一層五氧化二銀膜(4)、一層二氧化娃膜(5)、一層五氧化二銀膜(4)、一層二氧化娃膜(5)、絕緣邊框(2)、ITO導電膜(5),該基板(I)的后表面依次鍍有一層五氧化二銀膜(4)、一層二氧化娃膜(5)、一層五氧化二銀膜(4)、一層二氧化娃膜(5)。
4.根據權利要求1所述的一種寬波段高透過率OGS用玻璃，其特征在于:所述基板(I)的前表面依次鍍有一層五氧化二銀膜(4)、一層二氧化娃膜(5)、一層五氧化二銀膜(4)、一層二氧化娃膜(5)、ITO導電膜(5)、絕緣邊框(2),該基板(I)的后表面依次鍍有一層五氧化二銀膜(4)、一層二氧化娃膜(5)、一層五氧化二銀膜(4)、一層二氧化娃膜(5)。
5.一種寬波段高透過率OGS用玻璃的制造方法，其特征在于:該方法工藝分為三種工藝制作流程， 第一種工藝制作流程，絕緣邊框(2)鍍在基板(I)前表面的前表面的功能層和ITO膜層之前，為第一道工序；IT0膜(3)采用低溫鍍膜； 第二種工藝制作流程，絕緣邊框(2)鍍在基板(I)前表面的功能層和ITO膜(3)之間，則功能層采用高溫方式或者低溫`方式生產均可，ITO膜(3)需要采用低溫鍍膜； 第三種工藝制作流程，絕緣邊框(2)鍍在基板(I)前表面前表面的功能層和ITO膜(3)之后，則鍍膜制程完全可采取高溫鍍膜來完成，ITO膜(3)采用高溫鍍膜。
6.根據權利要求5所述的寬波段高透過率OGS用玻璃的制造方法，其特征在于，所述第一種工藝的具體流程如下: a、玻璃基板清洗； b、制作絕緣邊框⑵圖案，絕緣邊框⑵在玻璃前表面； C、帶有絕緣邊框(2)的玻璃基板進行鍍膜前清洗； d、將清洗干凈的玻璃基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內；先對玻璃基板的后表面進行鍍膜加工，依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,一層Nb2O5膜,一層SiO2膜； e、玻璃的后表面鍍完膜后，對玻璃的前表面進行鍍膜，絕緣邊框(2)上依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,最后再鍍一層ITO導電膜； f、在鍍膜機中將玻璃取出，進行檢驗測試，合格入庫。
7.根據權利要求5所述的寬波段高透過率OGS用玻璃的制造方法，其特征在于，所述第二種工藝的具體流程如下: a、玻璃基板清洗； b、將清洗干凈的玻璃基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內；先對玻璃基板的后表面進行鍍膜加工，依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,一層Nb2O5膜,一層SiO2膜；C、玻璃的后表面鍍完膜后，對玻璃的前表面進行鍍膜，依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜，一層Nb2O5膜，一層SiO2膜；然后從鍍膜機中取出，再次清洗； d、在玻璃前表面制作絕緣邊框(2); e、在進入鍍膜前清洗，鍍最后一層ITO導電膜； f、在鍍膜機中將玻璃取出，進行檢驗測試，合格入庫。
8.根據權利要求5所述的寬波段高透過率OGS用玻璃的制造方法，其特征在于，所述第二種工藝的具體流程如下: a、玻璃基板清洗； b、將清洗干凈的玻璃基板裝在基片架上送入鍍膜線的真空腔體內；先對玻璃基板的后表面進行鍍膜加工，依次鍍一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,一層Nb2O5膜,一層SiO2膜； C、玻璃的后表面鍍完膜后，對玻璃的前表面進行鍍膜，依次鍍一層Nb2O5膜，一層SiO2膜，一層Nb2O5膜,一層SiO2膜,最后鍍一層ITO導電膜； d、然后從鍍膜機中取 出，再次清洗； e、在玻璃前表面制作BM絕緣邊框； f、進行檢驗測試，合格入庫。
9.根據權利要求5所述的寬波段高透過率OGS用玻璃的制造方法，其特征在于:所述的方法工藝是在玻璃前后表面各采用4層光學膜層來提高透過率，是在450-650nm的光學波長范圍內可以使產品的透光率達到99%以上，采用的ITO靶材是含10%重量Sn02的In203靶材，電阻含蓋范圍可到10-500 Q。
全文摘要
本發明公開了一種寬波段高透過率OGS用玻璃及其制造方法，該OGS用玻璃為單片玻璃結構，同時起到保護玻璃和觸摸傳感器的雙重作用，在基板的后表面鍍有五氧化二鈮膜、二氧化硅膜，在基板的前表面分別鍍有五氧化二鈮膜、二氧化硅膜、絕緣邊框、ITO導電膜；該工藝分為三種，制造出的OGS用玻璃為單片玻璃結構，同時起到保護玻璃和觸摸傳感器的雙重作用，其在設計與制造成本上與現有技術相比，同樣能夠達到采用消影膜層達到的消影效果，使其消影效果更加容易控制；而且在能夠達到消影效果的前提下拓寬了產品的電阻范圍，使OGS產品有了更寬的選擇，提高了產品的電學性能和光學性能，在強光下改善了產品的顯示效果。
文檔編號C03C17/34GK103102084SQ20131002313
公開日2013年5月15日 申請日期2013年1月21日 優先權日2013年1月21日
發明者李俊華, 姜翠寧, 李亮亮 申請人:深圳市正星光電技術有限公司