專利名稱：一種液晶顯示器玻璃基板的蝕刻方法
技術領域：
本發明涉及液晶顯示器玻璃基板加工技術領域，尤其涉及一種液晶顯示器玻璃基板的蝕刻方法。
背景技術：
隨著人們對顯示器的顯示效果的關注程度越來越高，特別是顯示器的分辨率的要求不斷提升；故而，在顯示器的玻璃基板加工過程中，其線距、線寬需要蝕刻得越來越細，均勻性也要求越來越嚴格。為了滿足市場的要求，必須提供一種高要求的蝕刻方法。

發明內容
本發明的目的在于提供一種液晶顯示器玻璃基板的蝕刻方法，該液晶顯示器玻璃基板蝕刻方法能夠進一步地提高液晶顯示器玻璃基板的蝕刻質量，蝕刻品質好。為達到上述目的，本發明通過以下技術方案來實現。一種液晶顯示器玻璃基板的蝕刻方法，包括有以下工藝步驟，具體為:
a、將玻璃基板放置于提籃；
b、將裝好玻璃基板的提籃放 置于第一超聲波清洗槽內，清洗時間為1-1.5分鐘；
C、將經過第一次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于第一蝕刻槽內，第一蝕刻槽通過循環泵體連續地供給蝕刻劑，玻璃基板于第一蝕刻槽內的蝕刻時間為5-8分鐘，其中，第一蝕刻槽內的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為:
氫氟酸 20%-35%
硫酸 10%-25%
水45%-65% ；
d、將經過第一次蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第二超聲波清洗槽內，清洗時間為2-3分鐘；
e、將經過第二次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于第二蝕刻槽內，第二蝕刻槽通過循環泵體連續地供給蝕刻劑，玻璃基板于第二蝕刻槽內的蝕刻時間為3-5分鐘，其中，第二蝕刻槽內的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為:
氫氟酸 30%-40%
硫酸 5%-10%
水50%-65% ；
f、將經過第二次蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第三超聲波清洗槽內，清洗時間為2-3分鐘；
h、將經過第三次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于烘干器內，直至玻璃基板烘干為止。進一步的，所述步驟c所使用的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為:氫氟酸 25%-30%
硫酸 15%-20%
水50%-60%。更進一步的，所述步驟c所使用的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為: 氫氟酸 28%
硫酸 18%
水54%。進一步的，所述步驟e所使用的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為:
氫氟酸 35%-40%
硫酸 5%-8%
水50%-60%。更進一步的，所述步驟e所使用的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為: 氫氟酸 40%
硫酸 5%
水55%。

本發明的有益效果為:本發明所述的一種液晶顯示器玻璃基板的蝕刻方法，該蝕刻方法包括有以下工藝步驟 ，具體為:a、將玻璃基板放置于提籃；b、將裝好玻璃基板的提籃放置于第一超聲波清洗槽內，清洗時間為1-1.5分鐘；c、將經過第一次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于第一蝕刻槽內，第一蝕刻槽通過循環泵體連續地供給蝕刻劑，玻璃基板于第一蝕刻槽內的蝕刻時間為5-8分鐘；d、將經過第一次蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第二超聲波清洗槽內，清洗時間為2-3分鐘；e、將經過第二次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于第二蝕刻槽內，第二蝕刻槽通過循環泵體連續地供給蝕刻劑，玻璃基板于第二蝕刻槽內的蝕刻時間為3-5分鐘；f、將經過第二次蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第三超聲波清洗槽內，清洗時間為2-3分鐘；h、將經過第三次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于烘干器內，直至玻璃基板烘干為止。其中，第一蝕刻槽內的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為:氫氟酸20%-35%、硫酸10%-25%、水45%-65% ;第二蝕刻槽內的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為:氫氟酸30%-40%、硫酸5%-10%、水50%-65%。通過上述工藝步驟，該蝕刻方法能夠有效地提高液晶顯示器玻璃基板的蝕刻質量，蝕刻品質好。
具體實施例方式下面結合具體的實施方式來對本發明進行說明。實施例一，一種液晶顯示器玻璃基板的蝕刻方法，包括有以下工藝步驟，具體為:
a、將玻璃基板放置于提籃；
b、將裝好玻璃基板的提籃放置于第一超聲波清洗槽內，清洗時間為1-1.5分鐘；
C、將經過第一次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于第一蝕刻槽內，第一蝕刻槽通過循環泵體連續地供給蝕刻劑，玻璃基板于第一蝕刻槽內的蝕刻時間為5-8分鐘，其中，第一蝕刻槽內的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為:
氫氟酸 28%
硫酸 18%水54% ；
d、將經過第一次蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第二超聲波清洗槽內，清洗時間為2-3分鐘；
e、將經過第二次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于第二蝕刻槽內，第二蝕刻槽通過循環泵體連續地供給蝕刻劑，玻璃基板于第二蝕刻槽內的蝕刻時間為3-5分鐘，其中，第二蝕刻槽內的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為:
氫氟酸 40%
硫酸 5%
水55% ；
f、將經過第二次蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第三超聲波清洗槽內，清洗時間為2-3分鐘；
h、將經過第三次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于烘干器內，直至玻璃基板烘干為止。其中，本實施例一的蝕刻方法依次通過玻璃基板裝夾、一次超聲波清洗、一次蝕亥IJ、二次超聲波清洗、二次蝕刻、三次超聲波清洗以及烘干的步驟完成玻璃基板蝕刻加工，該蝕刻方法能夠有效地提高液晶顯示器玻璃基板的蝕刻質量，蝕刻品質好。實施例二，一種液晶顯示器玻璃基板的蝕刻方法，包括有以下工藝步驟，具體為:
a、將玻璃基板放置于提籃；· b、將裝好玻璃基板的提籃放置于第一超聲波清洗槽內，清洗時間為1-1.5分鐘；
C、將經過第一次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于第一蝕刻槽內，第一蝕刻槽通過循環泵體連續地供給蝕刻劑，玻璃基板于第一蝕刻槽內的蝕刻時間為5-8分鐘，其中，第一蝕刻槽內的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為:
氫氟酸 25%
硫酸 20%
水55% ；
d、將經過第一次蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第二超聲波清洗槽內，清洗時間為2-3分鐘；
e、將經過第二次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于第二蝕刻槽內，第二蝕刻槽通過循環泵體連續地供給蝕刻劑，玻璃基板于第二蝕刻槽內的蝕刻時間為3-5分鐘，其中，第二蝕刻槽內的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為:
氫氟酸 35%
硫酸 8%
水57% ；
f、將經過第二次蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第三超聲波清洗槽內，清洗時間為2-3分鐘；
h、將經過第三次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于烘干器內，直至玻璃基板烘干為止。其中，本實施例二的蝕刻方法依次通過玻璃基板裝夾、一次超聲波清洗、一次蝕亥|J、二次超聲波清洗、二次蝕刻、三次超聲波清洗以及烘干的步驟完成玻璃基板蝕刻加工，該蝕刻方法能夠有效地提高液晶顯示器玻璃基板的蝕刻質量，蝕刻品質好。實施例三，一種液晶顯示器玻璃基板的蝕刻方法，包括有以下工藝步驟，具體為:
a、將玻璃基板放置于提籃；
b、將裝好玻璃基板的提籃放置于第一超聲波清洗槽內，清洗時間為1-1.5分鐘；
C、將經過第一次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于第一蝕刻槽內，第一蝕刻槽通過循環泵體連續地供給蝕刻劑，玻璃基板于第一蝕刻槽內的蝕刻時間為5-8分鐘，其中，第一蝕刻槽內的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為:
氫氟酸 30%
硫酸 20%
水50% ；
d、將經過第一次蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第二超聲波清洗槽內，清洗時間為2-3分鐘；
e、將經過第二次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于第二蝕刻槽內，第二蝕刻槽通過循環泵體連續地供給蝕刻劑，玻璃基板于第二蝕刻槽內的蝕刻時間為3-5分鐘，其中，第二蝕刻槽內的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為:
氫氟酸 40%· 硫酸 8%
水52% ；
f、將經過第二次蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第三超聲波清洗槽內，清洗時間為2-3分鐘；
h、將經過第三次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于烘干器內，直至玻璃基板烘干為止。其中，本實施例三的蝕刻方法依次通過玻璃基板裝夾、一次超聲波清洗、一次蝕亥|J、二次超聲波清洗、二次蝕刻、三次超聲波清洗以及烘干的步驟完成玻璃基板蝕刻加工，該蝕刻方法能夠有效地提高液晶顯示器玻璃基板的蝕刻質量，蝕刻品質好。以上內容僅為本發明的較佳實施例，對于本領域的普通技術人員，依據本發明的思想，在具體實施方式
及應用范圍上均會有改變之處，本說明書內容不應理解為對本發明的限制。
權利要求
1.一種液晶顯示器玻璃基板的蝕刻方法，其特征在于，包括有以下工藝步驟，具體為: a、將玻璃基板放置于提籃； b、將裝好玻璃基板的提籃放置于第一超聲波清洗槽內，清洗時間為1-1.5分鐘； C、將經過第一次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于第一蝕刻槽內，第一蝕刻槽通過循環泵體連續地供給蝕刻劑，玻璃基板于第一蝕刻槽內的蝕刻時間為5-8分鐘，其中，第一蝕刻槽內的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為: 氫氟酸 20%-35% 硫酸 10%-25% 水45%-65% ； d、將經過第一次蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第二超聲波清洗槽內，清洗時間為2-3分鐘； e、將經過第二次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于第二蝕刻槽內，第二蝕刻槽通過循環泵體連續地供給蝕刻劑，玻璃基板于第二蝕刻槽內的蝕刻時間為3-5分鐘，其中，第二蝕刻槽內的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為: 氫氟酸 30%-40% 硫酸 5%-10% 水50%-65% ； f、將經過第二次蝕刻處理后的玻璃基板隨提籃放置于第三超聲波清洗槽內，清洗時間為2-3分鐘； h、將經過第三次超聲波清洗后的玻璃基板隨提籃放置于烘干器內，直至玻璃基板烘干為止。
2.根據權利要求1所述的一種液晶顯示器玻璃基板的蝕刻方法，其特征在于:所述步驟c所使用的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為: 氫氟酸 25%-30% 硫酸 15%-20% 水50%-60%。
3.根據權利要求2所述的一種液晶顯示器玻璃基板的蝕刻方法，其特征在于:所述步驟c所使用的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為: 氫氟酸 28% 硫酸 18% 水54%。
4.根據權利要求1至3任意一項所述的一種液晶顯示器玻璃基板的蝕刻方法，其特征在于:所述步驟e所使用的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為: 氫氟酸 35%-40% 硫酸 5%-8% 水50%-60%。
5.根據權利要求4所述的一種液晶顯示器玻璃基板的蝕刻方法，其特征在于:所述步驟e所使用的蝕刻劑包括有以下重量份的組分，具體為: 氫氟酸 40%硫酸 5%水 55%
全文摘要
本發明公開了一種液晶顯示器玻璃基板的蝕刻方法，該蝕刻方法依次通過玻璃基板裝夾、一次超聲波清洗、一次蝕刻、二次超聲波清洗、二次蝕刻、三次超聲波清洗以及烘干的步驟完成玻璃基板蝕刻加工，一次超聲波清洗時間為1-1.5分鐘，一次蝕刻時間為5-8分鐘，二次超聲波清洗時間為2-3分鐘，二次蝕刻時間為3-5分鐘，三次超聲波清洗時間為2-3分鐘，其中，一次蝕刻所使用的蝕刻劑包括20%-35%氫氟酸、10%-25%硫酸以及45%-65%水，二次蝕刻所使用的蝕刻劑包括30%-40%氫氟酸、5%-10%硫酸以及50%-65%水。該蝕刻方法能夠有效地提高液晶顯示器玻璃基板的蝕刻質量，蝕刻品質好。
文檔編號C03C15/00GK103241958SQ20131020231
公開日2013年8月14日 申請日期2013年5月28日 優先權日2013年5月28日
發明者陳必盛 申請人:湖北優尼科光電技術有限公司