一種新型陶瓷磚的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及材料科學領域，具體涉及一種新型陶瓷磚。本實用新型的新型陶瓷磚，包括坯體、底釉層、生料釉層及彩色釉層，所述底釉層設于坯體上方，所述生料釉層設于底釉層上方，所述彩色釉層設于生料釉層上方，帶有晶花，所述晶花突出在彩色釉層表面。由于在表面設置了晶花，手摸有凹凸感、對光線反射更為強烈；同時，晶花的突出部分可以提供更好的耐磨性，延長產品的使用壽命。
【專利說明】一種新型陶瓷磚
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及材料科學領域，具體涉及一種新型陶瓷磚。
【背景技術】
[0002]陶瓷磚拒水透氣性強，自重輕，具有柔性，耐酸堿耐凍融，抗震，抗裂，與外墻外保溫體系相容性很好。陶瓷磚以其外觀多種多樣、色彩繽紛，給人以強烈的藝術效果，深受國內外用戶的歡迎。但是現有的陶瓷磚表面光滑，對光線的反射效果不佳，裝飾性不好，層次感不強。此外，表面硬度也不夠高，有所欠缺，耐磨性較差。

【發明內容】

[0003]為解決上述技術問題，本實用新型提出一種新型陶瓷磚，具有良好的觸感、對光線反射更為強烈，可以獲得更好的裝飾效果，并且增強了陶瓷磚表面的耐磨性。
[0004]其技術特征為:
[0005]一種新型陶瓷磚，包括坯體、底釉層、生料釉層及彩色釉層，所述底釉層設于坯體上方，所述生料釉層設于底釉層上方，所述彩色釉層設于生料釉層上方，帶有晶花，所述晶花突出在彩色釉層表面。
[0006]進一步，所述坯體下表面設有凹坑。
[0007]進一步，所述彩色釉層的最高點與最低點之間的高度差為0.02?0.05mm。
[0008]有益效果:本實用新型的新型陶瓷磚，由于在表面設置了晶花，手摸有凹凸感、對光線反射更為強烈；同時，晶花的突出部分可以提供更好的耐磨性，延長產品的使用壽命；彩色釉層最高點與最低點之前的高度差為0.02?0.05mm，使得陶瓷磚磚表面既不會有明顯的凸凹點，影響觀感，又可以使其具有更好的光線反射效果，使其具有更好的裝飾效果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]圖1是本實用新型的結構示意圖；
[0010]附圖標記說明:
[0011]1-還體，2-底釉層，3-生料釉層，4_彩色釉層，5-晶花,6-凹坑。
【具體實施方式】
[0012]下面結合附圖對本實用新型作進一步的說明。
[0013]如圖1所示，本實用新型的一種新型陶瓷磚，包括坯體1、底釉層2、生料釉層3及彩色釉層4，所述底釉層2設于坯體I上方，所述生料釉層3設于底釉層2上方，所述彩色釉層4設于生料釉層3上方，彩色釉層4帶有晶花5，所述晶花5突出在彩色釉層4表面。
[0014]所述坯體I下表面設有凹坑。
[0015]所述彩色釉層4的最高點與最低點之間的高度差為0.02?0.05mm。
[0016]所述坯體I中加入重量份為10份的石米點和重量份為10份破碎過篩好的廢磚料，從而降低能源消耗，使得產品成本大大降低。
[0017]以上所述僅是本實用新型的較佳實施方式，故凡依本實用新型專利申請范圍所述的構造、特征及原理所做的等效變化或修飾，均包括于本實用新型專利申請范圍內。
【權利要求】
1.一種新型陶瓷磚，包括坯體、底釉層、生料釉層及彩色釉層，所述底釉層設于坯體上方，所述生料釉層設于底釉層上方，所述彩色釉層設于生料釉層上方，其特征在于:所述彩色釉層帶有晶花，所述晶花突出在彩色釉層表面。
2.根據權利要求1所述的新型陶瓷磚，其特征在于:所述坯體下表面設有凹坑。
3.根據權利要求1所述的新型陶瓷磚，其特征在于:所述彩色釉層的最高點與最低點之間的高度差為0.02?0.05mm。
【文檔編號】C04B41/86GK203545899SQ201320712755
【公開日】2014年4月16日 申請日期:2013年11月13日 優先權日:2013年11月13日
【發明者】王偉 申請人:江蘇經貿職業技術學院