一種新型光纖碳密封涂覆裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及光纖制備反應(yīng)裝置【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種新型光纖碳密封涂覆裝置。其包括依次相連的上部氣封裝置、反應(yīng)氣腔、沉積腔、下部氣封裝置、底座支撐架，反應(yīng)管直插于反應(yīng)氣腔內(nèi)，所述的底座支撐架固定于調(diào)節(jié)平臺(tái)上，所述的反應(yīng)管下部螺紋對(duì)接反應(yīng)延長(zhǎng)管，反應(yīng)延長(zhǎng)管伸入沉積腔，沉積腔上部設(shè)置氧含量測(cè)試孔，沉積腔下部對(duì)稱設(shè)置兩個(gè)抽廢氣孔。本實(shí)用新型每個(gè)部件均可獨(dú)立拆卸，使用方便，優(yōu)化設(shè)計(jì)能夠控制反應(yīng)氣體的反應(yīng)量，防止過(guò)量碳粉在反應(yīng)管內(nèi)壁的堆積，通過(guò)氧含量的在線測(cè)試，可對(duì)反應(yīng)裝置內(nèi)部氧含量進(jìn)行控制，通過(guò)抽廢氣設(shè)備可將過(guò)量的反應(yīng)氣體及未沉積碳粉排出反應(yīng)裝置，其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便、可延長(zhǎng)碳密封涂覆光纖連續(xù)生產(chǎn)。
【專利說(shuō)明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及光纖制備反應(yīng)裝置【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種新型光纖碳密封涂覆 裝直。 一種新型光纖碳密封涂覆裝置

【背景技術(shù)】
[0002] 傳統(tǒng)石英光纖在長(zhǎng)期使用過(guò)程中會(huì)受到應(yīng)力及水汽作用，引起裸光纖表面微裂紋 的不斷生長(zhǎng)，從而導(dǎo)致光纖傳輸損耗增加，以及光纖機(jī)械強(qiáng)度的下降，減少光纖使用壽命。 一般通信用光纖通常采用兩層丙烯酸樹(shù)脂材料作為涂覆層，來(lái)保護(hù)裸光纖不受外界環(huán)境影 響，并提高光纖機(jī)械強(qiáng)度，但這種樹(shù)脂材料，阻水性能相對(duì)較差，且不能滿足特殊環(huán)境使用。
[0003] 光纖的密封涂覆技術(shù)，主要是通過(guò)在裸光纖表面涂覆一層具有極佳抗水性和抗氫 性的材料，在涂覆密封材料后繼續(xù)涂覆兩層樹(shù)脂材料，從而達(dá)到提高光纖耐疲勞和抗水、抗 氫損性能的目的。一般采用的密封涂覆材料包括金屬材料鋁、鎳、鉛等，陶瓷材料氧化鋁、氮 化硅、碳化硅等。碳密封涂覆光纖的研究可以追溯到1982年，美國(guó)國(guó)防部高級(jí)研究計(jì)劃署 "Carbon CoatedFibers"的研究項(xiàng)目。碳膜化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，結(jié)構(gòu)致密，形式時(shí)收縮力較小，對(duì) 氫及水的阻塞作用顯著。因此，近些年來(lái)對(duì)于碳密封涂覆光纖的研究一直倍受人們青睞。
[0004] 大量研究報(bào)道中均指出，在碳密封涂覆光纖的生產(chǎn)制備過(guò)程中，反應(yīng)氣體的選擇、 反應(yīng)溫度、反應(yīng)速度、碳粉沉積率、拉絲速度等是重要影響因素，而反應(yīng)裝置的結(jié)構(gòu)又會(huì)直 接影響到反應(yīng)速率、碳粉沉積率，以及可生產(chǎn)光纖長(zhǎng)度。使用早前的反應(yīng)裝置，運(yùn)行一段時(shí) 間后，在光纖進(jìn)出口位置會(huì)沉積大量的碳粉，影響光纖強(qiáng)度及性能，嚴(yán)重時(shí)會(huì)導(dǎo)致擦傷，從 而導(dǎo)致碳涂覆光纖的連續(xù)生產(chǎn)長(zhǎng)度一般只有幾十公里甚至只有十幾公里。 實(shí)用新型內(nèi)容
[0005] 針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)上存在的不足，本實(shí)用新型提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便、可延長(zhǎng)碳 密封涂覆光纖連續(xù)生產(chǎn)的新型光纖碳密封涂覆裝置。
[0006] 為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型是通過(guò)如下的技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)：
[0007] -種新型光纖碳密封涂覆裝置，包括依次相連的上部氣封裝置、反應(yīng)氣腔、沉積 腔、下部氣封裝置、底座支撐架，設(shè)置若干小孔的反應(yīng)管直插于反應(yīng)氣腔內(nèi)，其所述的底座 支撐架固定于調(diào)節(jié)平臺(tái)上，所述的上部氣封裝置、反應(yīng)氣腔和下部氣封裝置均設(shè)置對(duì)稱的 進(jìn)氣口，所述的反應(yīng)管下部螺紋對(duì)接反應(yīng)延長(zhǎng)管，反應(yīng)延長(zhǎng)管伸入沉積腔，沉積腔上部設(shè)置 氧含量測(cè)試孔，沉積腔下部對(duì)稱設(shè)置兩個(gè)抽廢氣孔。
[0008] 上述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其所述的沉積腔的內(nèi)徑60_80mm，高度 200_250mm。
[0009] 上述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其所述的上部氣封裝置、下部氣封裝置 內(nèi)徑均為30-70mm，高度為10-50mm，上部氣封裝置、下部氣封裝置設(shè)置的光纖孔直徑為 l〇-15mm〇
[0010] 上述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其所述的反應(yīng)氣腔內(nèi)徑為30-60mm，高度 30_50mm。
[0011] 上述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其所述的反應(yīng)管內(nèi)徑l〇_15mm，長(zhǎng)度 30-60mm，反應(yīng)管上均勻設(shè)置20-60個(gè)直徑為0. 5-1. 5mm的小孔。
[0012] 上述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其所述的反應(yīng)延長(zhǎng)管的長(zhǎng)度為10-50mm，內(nèi) 徑 10_15mm。
[0013] 上述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其所述沉積腔的氧含量測(cè)試孔距離頂端 10_50mm,抽廢氣孔距離底部20_60mm。
[0014] 上述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其所述的沉積腔底部光纖出口處設(shè)置倒三 角形狀，斜坡高度不超過(guò)抽廢氣孔的高度，頂角角度范圍30-60°。
[0015] 有益效果：
[0016] 本實(shí)用新型每個(gè)部件均可獨(dú)立拆卸，使用方便，優(yōu)化設(shè)計(jì)的反應(yīng)管及反應(yīng)延長(zhǎng)管， 能夠控制反應(yīng)氣體的反應(yīng)量，防止過(guò)量碳粉在反應(yīng)管內(nèi)壁的堆積，通過(guò)氧含量的在線測(cè)試， 可對(duì)反應(yīng)裝置內(nèi)部氧含量進(jìn)行控制，通過(guò)抽廢氣設(shè)備可將過(guò)量的反應(yīng)氣體及未沉積碳粉排 出反應(yīng)裝置，其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、操作方便、可延長(zhǎng)碳密封涂覆光纖連續(xù)生產(chǎn)。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0017] 下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型；
[0018] 圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0019] 為使本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白了解，下面 結(jié)合【具體實(shí)施方式】，進(jìn)一步闡述本實(shí)用新型。
[0020] 參照?qǐng)D1，本實(shí)用新型包括依次相連的上部氣封裝置21、反應(yīng)氣腔22、沉積腔28、 下部氣封裝置31、底座支撐架32,上部氣封裝置、下部氣封裝置內(nèi)徑均為30mm，高度為 10mm,上部氣封裝置、下部氣封裝置設(shè)置的光纖孔直徑為10mm，沉積腔的內(nèi)徑60mm，高度 200mm。設(shè)置若干小孔的反應(yīng)管23直插于反應(yīng)氣腔22內(nèi)，底座支撐架32固定于調(diào)節(jié)平臺(tái) 33上，所述的上部氣封裝置21、反應(yīng)氣腔22和下部氣封裝置31均設(shè)置對(duì)稱的進(jìn)氣口，所述 的反應(yīng)管23下部螺紋對(duì)接反應(yīng)延長(zhǎng)管24,反應(yīng)延長(zhǎng)管24伸入沉積腔28,沉積腔28上部距 離頂端30mm設(shè)置氧含量測(cè)試孔27,沉積腔28下部距離底部30mm對(duì)稱設(shè)置兩個(gè)抽廢氣孔 29,沉積腔28底部光纖出口處設(shè)置倒三角形狀，斜坡高度不超過(guò)抽廢氣孔29的高度，頂角 角度范圍30-60°。
[0021] 光纖20從上部氣封裝置開(kāi)口處進(jìn)入反應(yīng)裝置，穿過(guò)反應(yīng)管23、反應(yīng)延長(zhǎng)管24進(jìn) 入沉積腔28 ;反應(yīng)氣腔22直徑40mm高度35mm，反應(yīng)管23長(zhǎng)度30mm，內(nèi)徑12mm，反應(yīng)管23 管壁上圓孔直徑0. 8mm，設(shè)有五層，每層對(duì)稱分布4個(gè)小孔，反應(yīng)延長(zhǎng)管24長(zhǎng)度可調(diào)節(jié)為 10mm、20mm、30mm，內(nèi)徑15mm ;再經(jīng)過(guò)沉積腔下蓋板、下部氣封裝置31，從下部氣封裝置31的 開(kāi)口離開(kāi)反應(yīng)裝置，最后從底座支撐架32和X-Y移動(dòng)調(diào)節(jié)平臺(tái)33中心穿出。氣封氣體通 常選用N2、Ar或He等惰性氣體，本實(shí)施例使用Ar氣，氣體流量為2-5L/min ;反應(yīng)氣體通常 選用乙炔、丙炔等,本實(shí)施例使用丙炔與Ar混合氣體，混合氣體中Ar占15%，總流量設(shè)置為 l-2L/min ;反應(yīng)裝置內(nèi)部氧含量通過(guò)沉積腔腔體28上的氧含量測(cè)試孔27進(jìn)行測(cè)量，反應(yīng)裝 置內(nèi)部未反應(yīng)氣體及為沉積碳粉通過(guò)沉積腔腔體28上的抽廢氣孔29排出。
[0022] 以上顯示和描述了本實(shí)用新型的基本原理和主要特征和本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)。本行 業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解，本實(shí)用新型不受上述實(shí)施例的限制，上述實(shí)施例和說(shuō)明書中描述 的只是說(shuō)明本實(shí)用新型的原理，在不脫離本實(shí)用新型精神和范圍的前提下，本實(shí)用新型還 會(huì)有各種變化和改進(jìn)，這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實(shí)用新型范圍內(nèi)。本實(shí)用新型 要求保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等效物界定。
【權(quán)利要求】
1. 一種新型光纖碳密封涂覆裝置，包括依次相連的上部氣封裝置、反應(yīng)氣腔、沉積腔、 下部氣封裝置、底座支撐架，設(shè)置若干小孔的反應(yīng)管直插于反應(yīng)氣腔內(nèi)，其特征在于，所述 的底座支撐架固定于調(diào)節(jié)平臺(tái)上，所述的上部氣封裝置、反應(yīng)氣腔和下部氣封裝置均設(shè)置 對(duì)稱的進(jìn)氣口，所述的反應(yīng)管下部螺紋對(duì)接反應(yīng)延長(zhǎng)管，反應(yīng)延長(zhǎng)管伸入沉積腔，沉積腔上 部設(shè)置氧含量測(cè)試孔，沉積腔下部對(duì)稱設(shè)置兩個(gè)抽廢氣孔。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其特征在于，所述的沉積腔 的內(nèi)徑 60_80mm，高度 200-250mm。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其特征在于，所述的上部氣 封裝置、下部氣封裝置內(nèi)徑均為30-70mm，高度為10-50mm，上部氣封裝置、下部氣封裝置設(shè) 置的光纖孔直徑為l〇-15mm。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其特征在于，所述的反應(yīng)氣 腔內(nèi)徑為30_60mm，高度30_50mm。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其特征在于，所述的反應(yīng)管 內(nèi)徑10-15mm,長(zhǎng)度30_60mm,反應(yīng)管上均勻設(shè)置20-60個(gè)直徑為0· 5mm-l. 5mm的小孔。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其特征在于，所述的反應(yīng)延 長(zhǎng)管的長(zhǎng)度為l〇-50mm，內(nèi)徑10_15mm。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其特征在于，所述沉積腔的 氧含量測(cè)試孔距離頂端10-50mm，抽廢氣孔距離底部20-60mm。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種新型光纖碳密封涂覆裝置，其特征在于，所述的沉 積腔底部光纖出口處設(shè)置倒三角形狀，斜坡高度不超過(guò)抽廢氣孔的高度，頂角角度范圍 30-60。。
【文檔編號(hào)】C03C25/22GK203845956SQ201420231364
【公開(kāi)日】2014年9月24日 申請(qǐng)日期:2014年5月7日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月7日
【發(fā)明者】姜建新, 焦猛, 郭浩林, 郝昌平, 俞亮, 孫貴林, 李建明, 袁健 申請(qǐng)人:江蘇亨通光纖科技有限公司, 江蘇亨通光電股份有限公司