防輻射起圈高分子膜的制作方法
【專利摘要】本發明涉及一種高分子膜。它包括基層(1)和表層(2)，基層(1)和表層(2)之間設置有一層防輻射層(3)，防輻射層(3)為鉛層，鉛層粘合在基層(1)和表層(2)之間，基層(1)由織物制成，所述織物由經紗和緯紗交織而成，其中經紗包括起圈紗和底紗，起圈紗跨過一定數量的緯紗后形成固定地組織。其中，起圈紗形成的毛圈的起點和終點之間間隔三根緯紗；底紗形成的固定地組織，相鄰交織點之間間隔三根緯紗。本發明其基層和表層之間設置有一層防輻射層，所述防輻射層為鉛層，鉛層能夠有效的阻擋一些放射性物質，從而達到防輻射的效果，因此其具有防輻射的功能。本發明可以使產品豐滿、蓬松、柔軟、手感厚實。
【專利說明】 防輻射起圈高分子膜
(-)【技術領域】
[0001]本發明涉及一種高分子膜。
(二)【背景技術】
[0002]隨著日本福島核電站核泄露事故的發生，防核輻射已經成為時下的熱題，而世界各地建了很多的核電站，核輻射已經成為了不可避免的威脅，有效的預防核輻射，有效的消除潛在的威脅，要求有更多的保護措施。在核電站的鋼板上貼上一層膜，用于更高效的防止核輻射，確有必要。一般的高分子膜沒有防輻射的功能，不能滿足要求。且不產品不豐滿、不蓬松、不柔軟、手感不厚實。
(三)
【發明內容】

[0003]本發明的目的在于克服上述不足，提供一種防輻射起圈高分子膜。
[0004]本發明的目的是這樣實現的:一種防輻射起圈高分子膜，它包括基層和表層，其特點是:所述基層和表層之間設置有一層防輻射層，所述防輻射層為鉛層，所述鉛層粘合在基層和表層之間，所述基層由織物制成，所述織物由經紗和緯紗交織而成，其中經紗包括起圈紗和底紗，起圈紗跨過一定數量的緯紗后形成固定地組織。其中，起圈紗形成的毛圈的起點和終點之間間隔三根緯紗；底紗形成的固定地組織，相鄰交織點之間間隔三根緯紗。
[0005]本發明的有益效果是:
[0006]1、本發明防輻射起圈高分子膜，其基層和表層之間設置有一層防輻射層，所述防輻射層為鉛層，鉛層能夠有效的阻擋一些放射性物質，從而達到防輻射的效果，因此其具有防輻射的功能。
[0007]2、本發明可以使產品豐滿、蓬松、柔軟、手感厚實。
(四)【專利附圖】

【附圖說明】
[0008]圖1為本發明防輻射起圈高分子膜的結構示意圖。
[0009]圖中:
[0010]基層I
[0011]表層2
[0012]防輻射層3。
(五)【具體實施方式】
[0013]參見圖1，本發明防輻射起圈高分子膜，它包括基層I和表層2，所述基層I和表層2之間設置有一層防輻射層3，所述防輻射層3為鉛層，所述鉛層粘合在基層I和表層2之間。所述基層I由織物制成，所述織物由經紗和緯紗交織而成，其中經紗包括起圈紗和底紗，起圈紗跨過一定數量的緯紗后形成固定地組織。其中，起圈紗形成的毛圈的起點和終點之間間隔三根緯紗；底紗形成的固定地組織，相鄰交織點之間間隔三根緯紗。
【權利要求】
1.一種防輻射起圈高分子膜，它包括基層(I)和表層(2)，所述基層(I)和表層(2)之間設置有一層防輻射層(3)，所述防輻射層(3)為鉛層，所述鉛層粘合在基層(I)和表層(2)之間，所述基層(I)由織物制成，所述織物由經紗和緯紗交織而成，其中經紗包括起圈紗和底紗，起圈紗跨過一定數量的緯紗后形成固定地組織。其中，起圈紗形成的毛圈的起點和終點之間間隔三根緯紗；底紗形成的固定地組織，相鄰交織點之間間隔三根緯紗。
【文檔編號】B32B15/14GK103660438SQ201210347501
【公開日】2014年3月26日 申請日期:2012年9月7日 優先權日:2012年9月7日
【發明者】李曉春 申請人:李曉春