本發明涉紡織機械技術領域,尤其涉及一種具有定位功能氣動燙畫機。
背景技術:
氣動燙畫機可將升華類、溶劑類油墨的彩色圖案與文字經熱轉印在棉、麻、化纖、尼龍等織物及陶瓷、玻璃制品上,還可進行植毛燙畫和發泡印花工藝等的熱處理,及服裝的低溫低壓襯與面料的粘合,如童裝、鞋帽等粘合之用,也可用于生產小批量的手帕,時紡織機械中最為常見的一種機械設備。
目前市場上的燙畫機,結構較為簡單,在進行布料印花時會出現印花位置偏斜,且印花的線條明暗不一,從而導致印花的質量較差,同時在會出出現布料放置不周正,導致印出的花紋與布料之間的位置不對稱,從而影響布料的品質。
技術實現要素:
本發明的目的是為了解決現有技術中存在的缺點,而提出的一種具有定位功能氣動燙畫機。
為了實現上述目的,本發明采用了如下技術方案:一種具有定位功能氣動燙畫機,包括支撐底板,其特征在于,所述支撐底板四個拐角處下方固定連接有減震支腿,所述支撐底板上方焊接有主體支架,所述主體支架上方固定有氣缸,所述氣缸通過氣動伸縮桿和印花板固定連接,所述主體支架一側固定有控制箱,所述支撐底板通過滑軌和工作面板滑動連接,所述工作面板上鋪設有刻度尺和高溫布,且刻度尺位于工作面板兩側邊框處,所述控制箱上固定有控制面板,且控制面板上設有顯示屏,所述控制面板表面顯示屏下方沿水平方向由左至右一次設有電源開關、急停按鈕和調節旋鈕。
作為上述技術方案的進一步描述:
所述控制箱外殼體上設有散熱孔。
作為上述技術方案的進一步描述:
所述印花板四個拐角處固定連接有定位激光燈。
作為上述技術方案的進一步描述:
所述氣缸共設有兩個,且兩個氣缸關于主體支架豎直中線相互對稱。
作為上述技術方案的進一步描述:
所述工作面板一端通過螺絲固定連接有把手。
本發明中,首先,通過設有定位激光燈,可以對工作面板上需要印花的布料進行精確的定位,使得印花的位置更加的準確,不會出現花紋傾斜的現象,保證了印花的效果,提高了該燙畫機的品質,其次通過設有兩個氣缸,通過兩個氣缸帶動兩個氣動伸縮桿對印花板進行下壓,使得下壓時印花板受力更加的均勻,印花的線條更加的清洗,質量更好,再有通過在工作面板表面設有刻度尺,在放置布料時可以更加的額周正,防止布料放置傾斜,導致印花出現歪斜,從而影響印花的質量。
附圖說明
圖1為本發明提出的一種具有定位功能氣動燙畫機的結構示意圖;
圖2為本發明提出的一種具有定位功能氣動燙畫機的工作面板結構示意圖;
圖3為本發明提出的一種具有定位功能氣動燙畫機的控制箱表面結構示意圖。
圖例說明:
1-減震支腿、2-支撐底板、3-控制箱、4-定位激光燈、5-印花板、6-氣動伸縮桿、7-氣缸、8-主體支架、9-工作面板、10-滑軌、11-把手、12-刻度尺、13-高溫布、14-控制面板、15-顯示屏、16-調節旋鈕、17-急停按鈕、18-電源開關。
具體實施方式
下面將結合本發明實施例中的附圖,對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例,而不是全部的實施例。
參照圖1-3,一種具有定位功能氣動燙畫機,包括支撐底板2,其特征在于,支撐底板2四個拐角處下方固定連接有減震支腿1,支撐底板2上方焊接有主體支架8,主體支架8上方固定有氣缸7,氣缸7通過氣動伸縮桿6和印花板5固定連接,主體支架8一側固定有控制箱3,支撐底板2通過滑軌10和工作面板9滑動連接,工作面板9上鋪設有刻度尺12和高溫布13,且刻度尺12位于工作面板9兩側邊框處,控制箱3上固定有控制面板14,且控制面板14上設有顯示屏15,控制面板14表面顯示屏15下方沿水平方向由左至右一次設有電源開關18、急停按鈕17和調節旋鈕16。
控制箱3外殼體上設有散熱孔,用于對控制箱3內部的電氣元件進行散熱,印花板5四個拐角處固定連接有定位激光燈4,在進行印花時,可以通過四個定位激光燈4將印花板5與工作面板9的位置相互對應,從而使得印花的位置更加的精確,氣缸7共設有兩個,且兩個氣缸7關于主體支架8豎直中線相互對稱,通過兩個氣缸7帶動兩個氣動伸縮桿6對印花板5進行下壓,使得下壓時受力更加的均勻,印花質量更好,工作面板9一端通過螺絲固定連接有把手11。
工作原理:該具有定位功能氣動燙畫機使用時,首先將需要印花的布料平整的鋪在工作面板9表面的高溫布13上,在通過把手11將工作面板9放置在支撐底板2表面的滑軌10上,打開定位激光燈4這時定位激光燈4開始投射出定位光線照射在布面的表面,通過滑軌10和工作面板9表面的刻度尺12對布面進行定位,定位完成后將該燙畫機接入到外接電源中,打開電源開關18轉動調節旋鈕16控制氣缸7的壓力,氣缸7開始工作控制氣動伸縮桿6將印花板5下壓至布料的表面進行印花,高溫布13保護工作面板9防止工作面板9損壞,延長工作面板9的使用壽命壽命長,同時清潔方便;
以上所述,僅為本發明較佳的具體實施方式,但本發明的保護范圍并不局限于此,任何熟悉本技術領域的技術人員在本發明揭露的技術范圍內,根據本發明的技術方案及其發明構思加以等同替換或改變,都應涵蓋在本發明的保護范圍之內。