專利名稱：用于顯微鏡檢查的傳感器的制作方法
技術領域：
本發明涉及數字掃描顯微鏡領域，并且有利地應用于數字病理學領域。具體而言，本發明涉及一種用于利用包括傳感器的數字掃描器對樣本進行顯微成像的方法，所述傳感器包括像素的2D陣列；以及涉及ー種執行這種方法的數字掃描顯微鏡，其在本文后面也被稱為掃描器。
背景技術：
數字掃描顯微鏡通常生成樣本的數字圖像，所述樣本諸如是放置在顯微鏡載玻片中的組織樣本。
通常通過在整個顯微鏡載玻片上掃描所述樣本并將不同的圖像帶接合在一起和/或通過疊加在不同波長測量的圖像來完成這種操作。圖I示意性表示了這種顯微鏡載玻片的截面。它尤其包括典型厚度為Imm(毫米)的載玻片I、典型厚度為O. 17mm的蓋玻片2、用于固定和密封像組織層的樣本4的封固劑3。樣本4的厚度通常可以為大約5 μ m,并且對于包括樣本的安裝層，大約為10到15 μ m。從WO 2001084209已知，數字掃描顯微鏡能夠包括ID線傳感器，也稱為線掃描攝像機或線性陣列傳感器。這樣的傳感器僅包括一條線，換言之，一行感測像素。還已知，與其他類型的傳感器(例如2D陣列傳感器)相比，ID線傳感器能夠提供更好的連續機械掃描操作、較少的接合問題，并且能夠允許使用所謂的時間延遲積分(TDI)線傳感器。一般而言，這樣的ID線傳感器需要與高效自動聚焦系統組合，以便實現樣本的優質圖像，樣本沿Z軸(深度方向)的位置可以改變數微米(其可能超過顯微鏡的聚焦深度)。應當指出的是，這種要求在這里真的很重要，尤其是因為使用這樣的傳感器必然要求在整個樣本的圖像采集期間進行大量的掃描增量，并因此涉及到掃描期間更多的聚焦調節。就此而言，WO 2001084209公開了現有技術中最常見的解決方案，其包括生成和使用聚焦圖。這樣的聚焦圖提供了實測的最佳聚焦位置，根據沿掃描路徑的不同掃描位置用于掃描器的目標。在樣本的實際圖像采集之前生成聚焦圖，并使其能夠用于任何這樣的采集過程。在采集樣本圖像的掃描過程期間，在內插于各實測的最佳聚焦位置之間的軌線上設置掃描器目標的聚焦位置。

發明內容
本發明的發明人已意識到，盡管提供了ー些優點，但ID線傳感器與基于聚焦圖的自動聚焦的組合可能有若干缺點。例如，因為如上述情況，對這樣的聚焦圖的需求可能限制掃描器的總處理時間(處理時間通常可以指輸出樣本的圖像或在特定環境中輸出這一祥本的圖像帶所需的總時間)，它需要至少ー個在先的繪圖步驟。此外，ID線傳感器需要眾多的聚焦調節，這可能需要使用復雜并且笨重的機械部件來獲得快速并且精確的圖像采集。例如，可能需要復雜并且笨重的致動器以在掃描過程期間調節目標的聚焦位置。
此外，由于聚焦誤差的原因，有時會使掃描過程自身變得更為復雜。例如，有時需要對同一樣本區域執行多次采集。于是，本發明的目的是提供一種新的方法和一種新的數字掃描器，其克服了上述問題。就此而言，根據本發明的第一方面，提供了一種用于利用包括傳感器的掃描器對樣本進行顯微成像的方法，所述傳感器包括XY坐標系中的像素的2D陣列，Y軸基本垂直于掃描方向，并且其中，掃描器被布置成使得所述傳感器能夠對樣本的斜截面成像。更確切地說，這種方法包括如下步驟a)激活像素的2D陣列的第一子陣列，所述第一子陣列主要在第一 X坐標沿Y軸延伸，以及b)通過利用像素的第一子陣列對樣本的第一區域成像來生成第一圖像。 這里應當指出，“基本”意指Y軸優選與掃描方向成90°的角度，但也可以使用稍微不同的角度。實際上，這ー角度應當使得掃描期間由單排像素掃掠的面積盡可能大。最優情況可以實現最大的掃掠面積，并從而在Y軸精確垂直于掃描方向時，可以獲得掃描顯微鏡的最高處理量。然而，其他設計考慮可能導致相當大偏離。具體而言，可能合理的是選擇60和120度之間的范圍中的角度。實際上，這樣的范圍仍然提供了掃描器最大處理量至少87%的處理量(相對處理量等于余弦(90-60))。于是，根據本發明，令2D陣列傳感器通過利用其感測區域的有限選擇(子陣列)充當X線傳感器(這里字母“X”是指整數，下文將看出，低于2D陣列傳感器中的數的總線)。換言之，令2D陣列傳感器模擬X線傳感器的功能和操作。稍后將明了，在可以由這種傳感器對樣本截面進行成像的掃描器布置中使用這種模擬的X線傳感器，實現了各種優點，諸如克服了上述問題。此外，為掃描成像系統提供了掃描期間聚焦深度的高效率變化。在本發明的優選實施例中，X線傳感器是ID線傳感器。第一子陣列于是包括一條線的像素。如果將其用在掃描過程中，在掃描期間定期調節線的X位置，以更新掃描器確定該線將是焦點對準(in focus)的位置。在優選實施例中，同時使用將其中的第一子陣列用于例如充當ID線傳感器的2D陣列傳感器來從樣本的更大聚焦范圍提取信息，以便確定針對模擬的線傳感器的期望聚焦位置。通過這種方式，為掃描成像系統提供了在掃描期間聚焦深度的高效率自動聚焦和高效率變化。具體而言，單個2D陣列傳感器同時充當ID線傳感器和自動聚焦系統的聚焦檢測器。“同吋”表示在精確相同的時間采集圖像和聚焦信息，或者以交織的方式以充分高的占空比采集它們。本發明的其他實施例如下-該方法還包括如下步驟·掃描樣本，·激活像素的2D陣列的第二子陣列，所述第二子陣列主要在不同于第一 X坐標的第二 X坐標沿Y軸延伸， ·通過利用像素的第二子陣列對樣本的第二區域成像來生成第二圖像；-該方法還包括通過組合第一圖像和第二圖像來構建樣本的合成圖像的步驟；-該方法還包括提供第一坐標的步驟；-該方法還包括確定第一X坐標以使得第一子陣列能夠在預定聚焦條件(predetermined focus)下提供第一圖像的步驟；-該方法還包括確定第一X坐標和第二 X坐標以使得第一子陣列和第二子陣列能夠在基本相等的聚焦條件下提供第一圖像和第二圖像的步驟；-該方法還包括·利用所述傳感器的2D陣列的像素的預定子集對樣本的第二區域成像，所述子集不同于像素的子陣列，·從這ー圖像導出聚焦信息，以及·根據所述聚焦信息確定第一 X坐標；
-該方法還包括激活像素的預定子集以使的所述預定子集主要沿X軸延伸且具有矩形形狀；-像素的子集可以分布在像素的2D陣列中的至少兩個相異區域上；-假設所述樣本具有一定厚度，所述方法包括提供與所述厚度之內像素的第一子陣列能夠在預定聚焦條件下對樣本進行成像的深度相關的信息的步驟，以及根據這種深度信息確定第一 X坐標的步驟；-所述預定聚焦條件可以對應于最佳焦點對準；-樣本的截面可以相對于掃描方向是傾斜的；-掃描器可以包括樣本保持架，樣本保持架包括保持表面，并且其中，像素的2D陣列可以基本位于相對于所述保持表面成傾角的平面中；-可以控制2D陣列傳感器以通過激活第一子陣列，使得所述第一子陣列沿Y軸包括少于三排像素，并且優選僅包括ー排像素，來模擬ID線傳感器；或者通過激活第一子陣列，使得所述第一子陣列沿Y軸在每個級(stage)中包括少于三排像素，并且優選僅包括一排像素，來模擬ID N級TDI傳感器；根據本發明的另一方面，提供了一種執行本發明的方法的掃描顯微鏡。


在閱讀作為非限制性范例并參考附圖給出的本發明的如下具體描述后，本發明的這些和其他方面和優點將變得更加明顯，在附圖中-已經論述的圖I示意性圖示了組織玻片組件的截面；-圖2示意性圖示了根據本發明的實施例的掃描顯微鏡；-圖3示意性圖示了在本發明的掃描顯微鏡中所使用的傳感器的像素的2D陣列；-圖4示意性圖示了組織玻片組件和本發明的掃描顯微鏡的2D陣列的投影；-圖5示意性圖示了所述投影在兩個不同位置與組織層相交的兩種情況；-圖6示意性圖示了像素的2D陣列，并且尤其示出了根據本發明的實施例的像素的子集；-圖7圖示了表示根據本發明的實施例的方法的步驟的框圖；-圖8示意性圖示了像素的2D陣列，并且尤其示出了根據本發明的實施例的像素的子集；-圖9示意性圖示了本發明的使用TDI原理的實施例。
具體實施例方式圖2中圖示了根據本發明的實施例的掃描顯微鏡。這種掃描器被布置用于對樣本(例如未示出的組織層)進行成像，樣本可以放置在載玻片10與蓋玻片11之間。這種顯微鏡載玻片被放置在圖中未示出的樣本支架的保持表面上。如在現有技術中可能已知的，沿著成像路徑P并從顯微鏡載玻片開始，掃描器具體可以包括顯微鏡物鏡20 (通常由多個透鏡20a、b和c制成)、用于遮擋來自組織樣本的未散射的反射光的光闌21、管透鏡23和傳感器24。傳感器24包括像素的2D陣列，在本文也稱為像素的矩陣。這種傳感器通常是CMOS成像傳感器。如從圖2可以看出的，像素的矩陣相對于顯微鏡物鏡透鏡的光軸O傾斜。掃描器還包括控制模塊25，其用于控制掃描器的操作過程，并且尤其是用于控制對樣本成像的掃描過程。控制模塊通常包括處理器，例如FPGA (現場可編程門陣列)或DSP(數字信號處理器)。如現有技術中已知的，通過利用所謂的反射或透射模式的光源，光斑能夠輻照組織層中的區域。這ー斑點反射或透射的光穿過顯微鏡物鏡透鏡、光闌、管透鏡行迸，并且被投影到傳感器的感測區域，即像素的2D陣列的感測區域上并被其探測到。
本文在后面將使用例如圖3中所示的非笛卡爾坐標系XYZ，其中，矩陣表面在平行于X軸和Y軸的平面上延伸，并且其中，Z軸可以垂直于X軸和Y軸。本領域技術人員應當明白，因為像素的矩陣處于上述傾斜配置中，投影到這一矩陣上的是樣本(例如組織層)的斜截面的圖像。這里可以指出，可能優選的是，投影到這一矩陣上的圖像相對于掃描方向充分傾斜，以確保來自中心圖像平面周圍的充分大范圍深度的樣本圖像信息被投影到像素矩陣上。在本文中，中心圖像平面是指被成像對象中平行于掃描方向和Y軸的平面。中心圖像平面在樣本中所處的位置使得，從在沿X軸最接近像素矩陣中心的位置X處被定義為例如像素的單實線(沿像素矩陣的Y軸延伸)的子陣列拍攝后續圖像將會生成這個中心圖像平面的圖像。現在參考圖3，圖示了傳感器的傾斜像素矩陣的示意圖。仍然是為了進行非限制性例示，由方形表示矩陣的每個像素，例如像素30，并且圖3示出了這一矩陣的總表面。可以看出，矩陣表面在平行于X軸和Y軸的平面上延伸。換言之，矩陣具有沿坐標系的兩個軸X和Y延伸的兩個維度(X、Y)，并且其分別包括多排(或換言之，線)和多列。應當指出的是，軸Z可以平行于光軸0，并且在提到例如深度吋，將尤其用于如下情況。此外，XYZ坐標系也可以是笛卡爾或非笛卡爾坐標系。結果，掃描器的掃描方向可以垂直于Z軸。然而，在其他實施例中，光軸可以垂直于像素矩陣。在這種情況下，樣本的平移可能不平行于XY平面，因此在像素矩陣上對樣本相對于掃描方向的斜截面進行成像。根據本發明的方法的實施例，控制模塊25激活傳感器的像素矩陣之內在特定坐標(例如圖3中的XI)的像素的第一子陣列31 (圖3中的陰影部分)。應當理解，與本發明意義上的矩陣相比，子陣列應當包括顯著更少數量的像素。優選地，子陣列的表面應當表示矩陣的總表面的小于一半。更優選地，子陣列的表面應當表示矩陣的總表面的小于四分之一。另外，應當理解，主要沿Y軸延伸的子陣列應當表示列數顯著大于行數。優選地，這樣的子陣列包括ー排的所有像素，并且包括矩陣的總排數的小于三分之一。更優選地，子陣列包括ー排的所有像素并且包括少于三排。更優選地，子陣列包括ー排的所有像素并且僅包括ー排。這樣的配置被表示為圖3中的非限制性范例。回到根據上述根據實施例的方法，像素的子陣列對從樣本投影的光敏感并因此對其進行探測。然后控制模塊生成所述截面的第一區域的第一圖像。為了構建更大區域的圖像，可以在相對于顯微鏡載玻片掃描傳感器的同時重復上述步驟。在這種情況下，在每個掃描位置，指定并激活新的子陣列，并生成樣本截面中每個 新區域的新圖像。然后，從這些圖像的組合，可以生成更大區域的圖像并稱為合成圖像。可以通過各種方式提供并確定要激活的子陣列的X坐標，例如Xl (參見圖3)。根據實施例，可以相對于聚焦信息確定坐標。就此而言，在優選實施例中，掃描器利用如上所述同樣的2D陣列傳感器，用于進行成像和連續自動聚焦。“連續”表示在掃描過程期間即時測量和控制自動聚焦。本實施例的掃描器能夠獲得聚焦信息、要激活的子陣列的坐標，以便能夠在預定聚焦條件(例如，預定量的失聚焦或精確聚焦)下生成圖像，并利用相同的2D陣列傳感器生成這ー圖像。本實施例能夠依賴通過參考作為非限制性范例提供的圖4做出的觀測。這幅圖再次圖示了具有玻璃載片51的顯微鏡載玻片、蓋玻片52和包括組織層54的封固劑53。再次呈現了與傳感器相關聯的坐標系XYZ，但同時還有與總體掃描器相關聯的新的非笛卡爾坐標系X’ TL。假設傳感器相對于保持架的表面(理想情況下為水平表面)成傾斜角β ’，那么軸X和X’彼此成同樣角度β’。出于說明性的目的，這幅圖進ー步呈現了傳感器的像素的2D陣列到顯微鏡載玻片中的投影55。這ー投影對應于傳感器實際可以從這一顯微鏡載玻片探測到和成像什么。如前所述，2D陣列傳感器能夠生成樣本的斜截面的圖像；該截面實際對應于投影55。這ー斜截面55在位置(例如參見相交I或位置540)與組織層54相交。顯然，這一相交尤其取決于組織層相對于顯微鏡物鏡透鏡焦平面的軸向位置。這尤其是因為，如圖4所示，組織層54在掃描方向上的深度位置(沿Ζ)是不均勻的。能夠導出，因為可以將整個斜截面的圖像投影到2D陣列傳感器上，所以包括組織層54的這ー截面將始終是傳感器的2D陣列中的ー些像素處，即在能夠對相交I成像的像素處的焦點上。如圖5a中作為范例圖示的，組織層54距蓋玻片52越近，相交的位置越偏向2D像素陣列的左側(參見相交58)。
注意在圖5中，左是指與矢量X平行并且相反的方向。相反，如圖5b中所示，組織層54距載玻片51越近，相交的位置越偏向2D像素陣列的右側(參見相交59)。結果，通過確定像素的矩陣之內的相交的位置，例如坐標，能夠確定應當激活哪ー像素子陣列，以便對焦點對準的對應樣本區域成像。于是，可以看出，掃描器能夠使用同一 2D陣列傳感器進行連續自動聚焦以及成像。在本發明的實施例中，利用傳感器的2D陣列之內選擇的固定數量的像素進行掃描顯微鏡的自動聚焦。
為了清楚起見，根據本發明，將由像素子集指定用于自動聚焦的像素，而上文定義的子陣列將指定用于成像的像素。根據定義，子集和子陣列可能彼此顯著不同，尤其是對于像素的相應數量或位置而言。然而，它們兩者都能夠在矩陣區域之內交疊。當然，可能存在這樣的情況被成像的樣本區域處于子陣列可以與子集重合的深度上。然而，這種狀況可能是例外，兩者之間的像素內容可能至少有細微的差異。圖6圖示了根據本實施例的子集的第一范例。在矩陣中，這一子陣列分布在三個相異區域100、200、300中。子集的三個對應的部分101、201和301均具有矩形形狀，通過激活2列像素，沿著矩陣的整個X維度延伸。這樣的配置可用于如下方法中。參考圖6和7，在步驟700中激活像素的子集101、201、301。在步驟701中生成與子集的三個部分對應的樣本三個區域的圖像。在步驟702中從這幅圖像導出聚焦信息。例如，控制模塊25確定子集的哪個(些)像素已經能夠拍攝焦點對準的圖像并導出對應的(ー個或多個)排。可以通過本領域技術人員容易認識的各種方式進行這種確定。例如,可以使用一種算法來分析由子集生成的圖像，并確定聚焦特性。例如，控制模塊可以執行算法，所述算法分析這幅圖像中的銳化度，以確定子集的每個像素處的聚焦特性。由于可以在X維度和Y維度上定義排，所以掃描器知道相關像素的對應的(ー個或多個)X坐標。然后指定像素子陣列進行成像。在圖6的非限制性范例中，指定的子陣列401形成包括四條線的像素的矩形。因此，可以提供四個X坐標。或者，可以提供單個坐標。這ー坐標可以允許掃描器通過任何預定義的關系導出其他三個坐標。例如，單個坐標可以對應于子陣列的寬度的中心處或最接近該中心處的位置。一旦指定了子陣列，該方法還包括激活它的步驟703。在步驟704中，生成樣本中與子陣列能夠成像的區域對應的區域的第一圖像。可以在用于對樣本的更多區域成像的掃描過程中重復這種方法，通常用于對樣本的整個表面成像。在這種情況下，可以根據掃描方向X’并相對于樣本來移動傳感器。然后可以再次執行步驟700到704。如上所述，盡管在掃描過程期間樣本與傳感器之間的距離是變化的，但子陣列沿著矩陣的X維度相應地移動到出現相交I的坐標處，由此保持樣本處于期望的聚焦狀況。在現有技術中還知道生成和組合額外的圖像，以獲得樣本的合成圖像。
可能不必在掃描的每個位置處執行步驟700到702。相反，有些位置可能僅執行步驟703和704。在這種情況下，最后指定的子陣列可以再次用于成像。這里，不針對生成的每幅圖像執行步驟700到702的優點在干，使用較少的可用傳感器帶寬來獲得聚焦信息，留下更多帶寬用于圖像的實際采集，實現掃描器的更高處理量，然而代價是對期望聚焦位置的變化跟蹤更慢。根據本發明的實施例，在整個掃描過程期間子陣列的排數是固定的，例如I排用于模擬ID線傳感器，或稍多的排用于擴大感測區域(圖6示出了子陣列寬度固定為4排的范例)。或者，在掃描過程期間可以動態地設置排數。作為非限制性范例，這ー數字可以根據子集中已經被確定能夠在預定聚焦條件下(例如在焦點對準時)提供圖像的排數而不同。于是，在一些情況下，在掃描期間子陣列的寬度可以不問。 在實施例中，可以設置掃描器以令子陣列的形狀符合所述相交I的形狀。因此，在這些實施例中，子陣列的形狀可以是任何形狀，諸如彎折的、彎曲的。此外，在所述備選方案中，可以定義子陣列的最大排數。根據本發明的實施例，可以使用其他子集配置。作為非限制性范例，圖8示出了子陣列800以及主要沿與子陣列相同方向，即垂直于掃描方向X’延伸的像素子集。更確切地說，在形成由附圖標記801到804指定的四個部分的四個相異區域中分布子集。這些部分是成對配置的。在同一 X坐標處定位一対。具體而言，第一對801、802被定位在坐標Xl處，并且第二對803、804被定位在坐標X2處。在每對中，一部分(801或803)包括ー排7個像素，而一部分(802或804)包括ー排6個像素。當然，本領域技術人員應當認識到，根據一般經驗，子集的配置可以對應于允許傳感器作為自聚焦子陣列傳感器那樣功能的任何可想到的形狀。作為范例，該形狀可以是圓形、曲線、彎折等。根據本發明的實施例，子集可以在掃描過程期間改變。例如，可以在第一掃描位置處使用圖8中的坐標Xl和X2，并且可以在第二掃描位置處使用坐標X3、X4。通過這種方式，如圖8的右側箭頭所示，可以在矩陣的維度X上掃描子集。現在將描述實施例的第一詳細實施方式。在這種實施方式中，再次通過使傳感器相對于保持表面傾斜角度β’實現向傳感器2D陣列上投影樣本的斜截面。再次參考圖4，自動聚焦系統的深度范圍Az’t(rt可以充分大，以實現其他參數的理想設置。假設傳感器沿X軸具有Nx個像素，沿這ー軸的像素尺寸為b。還假設傳感器沿Y軸具有Ny個像素。再次想到，掃描方向(沿X’軸)與X軸形成角度β’。由于傳感器傾斜角度β ’，由下式給出橫向和軸向采樣Δ x=bcos β 'Δ z=bsin β 丨由下式給出在組織玻片處的橫向和軸向采樣Δ χ' = Δ χ/Μ
Δ ζ' =η Δ ζ/Μ2其中，M是放大率，η是組織玻片的折射率。在對象處的軸向采樣現在遵循下式
[0125權利要求
1.一種用于利用包括傳感器的掃描器對樣本進行顯微成像的方法，所述傳感器包括XY坐標系中的像素的2D陣列,Y軸基本垂直于掃描方向,其中,所述掃描器被布置成使得所述傳感器能夠對所述樣本的斜截面成像，并且其中，所述方法包括如下步驟 激活像素的所述2D陣列的第一子陣列，所述第一子陣列主要在第一 X坐標(Xl)處沿所述Y軸延伸， 通過利用像素的所述第一子陣列對所述樣本的第一區域成像來生成第一圖像。
2.根據權利要求I所述的方法，其還包括如下步驟 掃描所述樣本， 激活像素的所述2D陣列的第二子陣列，所述第二子陣列主要在不同于所述第一 X坐標(Xl)的第二 X坐標(X2)處沿所述Y軸延伸， 通過利用像素的所述第二子陣列對所述樣本的第二區域成像來生成第二圖像。
3.根據權利要求2所述的方法，其包括通過組合所述第一圖像和所述第二圖像來構建所述樣本的合成圖像的步驟。
4.根據權利要求I所述的方法，其包括提供所述第一坐標的步驟。
5.根據權利要求I所述的方法，其包括確定所述第一X坐標(Xl)以使得所述第一子陣列能夠在預定聚焦條件下提供所述第一圖像的步驟。
6.根據權利要求2所述的方法，其包括確定所述第一X坐標(Xl)和所述第二 X坐標(X2)以使得所述第一子陣列和所述第二子陣列能夠在基本相等的聚焦條件下提供所述第一圖像和所述第二圖像的步驟。
7.根據權利要求I所述的方法，其包括如下步驟 利用所述傳感器的所述2D陣列的像素的預定子集對所述樣本的第 二區域成像，所述子集不同于像素的所述子陣列， 從這幅圖像導出聚焦信息，以及 從所述聚焦信息確定所述第一 X坐標(XI)。
8.根據權利要求7所述的方法，其包括激活像素的所述預定子集以使得所述預定子集主要沿X軸延伸且具有矩形形狀的步驟。
9.根據權利要求7或8所述的方法，其中，像素的所述子集分布在像素的所述2D陣列中的至少兩個相異區域上。
10.根據權利要求I所述的方法，其中，所述樣本具有一定厚度，并且所述方法包括提供與所述厚度之內像素的所述第一子陣列能夠在預定聚焦條件下對所述樣本成像的深度(Z)相關的信息的步驟，以及根據這種深度信息確定所述第一 X坐標(Xl)的步驟。
11.根據權利要求5到10中的任一項所述的方法，其中，所述預定聚焦條件對應于最佳焦點對準。
12.根據權利要求I所述的方法，其中，所述樣本的所述截面相對于所述掃描方向是傾斜的。
13.根據權利要求I所述的方法，其中，所述掃描器包括樣本保持架，所述樣本保持架包括保持表面，并且其中，像素的所述2D陣列基本位于相對于所述保持表面成傾角的平面中。
14.根據權利要求I所述的方法，其中，控制2D陣列傳感器以通過激活所述第一子陣列，使得所述第一子陣列沿所述Y軸包括少于三排的像素，并且優選僅包括一排像素，來模擬ID線傳感器，或者通過激活所述第一子陣列，使得所述第一子陣列沿所述Y軸在每個級中包括少于三排的像素，并且優選僅包括一排像素，來模擬ID N級TDI傳感器。
15.一種用于對樣本成像的掃描顯微鏡，其被配置成執行根據前述權利要求中的任一項所述的方法。
全文摘要
本發明涉及一種利用包括傳感器的數字掃描器對樣本進行顯微成像的方法，所述傳感器包括像素的2D陣列，本發明還涉及一種執行這種方法的數字掃描顯微鏡。尤其提供了一種用于利用包括傳感器的掃描器對樣本進行顯微成像的方法，傳感器包括XY坐標系中的像素的2D陣列，Y軸基本垂直于掃描方向，其中，所述掃描器被布置成使得所述傳感器能夠對樣本的斜截面成像，并且其中，所述方法包括如下步驟激活像素的2D陣列的第一子陣列，所述第一子陣列主要在第一X坐標(X1)處沿Y軸延伸，利用所述第一像素子陣列，通過對所述樣本的第一區域成像來生成第一圖像。根據本發明的各方面，還提出了一種掃描器，所述掃描器執行這種方法并使用同樣的2D陣列傳感器實現成像和自動聚焦的目的。
文檔編號G02B21/36GK102687056SQ201080060107
公開日2012年9月19日 申請日期2010年12月22日 優先權日2009年12月30日
發明者B·胡什肯, S·斯托林加 申請人:皇家飛利浦電子股份有限公司