專利名稱：激光雕刻用樹脂組合物、激光雕刻用浮雕印刷版原版及其制法、以及浮雕印刷版的制版方法
技術領域：
本發明涉及激光雕刻用樹脂組合物、激光雕刻用浮雕印刷版原版及其制造方法、 以及浮雕印刷版的制版方法。
背景技術：
作為在層疊于支承體表面的感光性樹脂層形成凹凸而形成印刷版的方法，公知有對使用感光性組合物形成的浮雕形成層，介由原畫膜利用紫外光加以曝光，選擇性地使圖像部分固化，用顯影液將未固化部除去的方法，即所謂“模擬制版”。浮離印刷版是具有有凹凸的浮雕層的凸版印刷版，這樣的具有凹凸的浮雕層，通過將作為主成分含有例如合成橡膠這樣的弾性體性聚合物、熱塑性樹脂等樹脂、或含有樹脂和增塑劑的混合物的感光性組合物的浮離形成層圖案化，形成凹凸而得到。在這樣的浮離印刷版中，有時將具有軟質的浮雕層的印刷版稱為柔性版。在通過模擬制版來制作浮離印刷版的情況下，一般需要使用了銀鹽材料的原畫膜，因此需要原畫膜的制造時間和成本。進而，在原畫膜的顯影中需要化學處理，并且還需要顯影廢液的處理，因此正在研究更簡易的版的制作方法，例如不使用原畫膜的方法、不需要顯影處理的方法等。近年來研究了不需要原畫膜并采用掃描曝光進行浮雕形成層的制版的方法。作為不需要原畫膜的手法，提出了在浮雕形成層上設置了能夠形成圖像掩模的激光感應式的掩模層要素的浮雕印刷版原版(例如，參照專利文獻1)。根據這些原版的制版方法，通過基于圖像數據的激光照射由掩模層要素形成具有與原畫膜同樣的功能的圖像掩摸，稱為“掩模CTP方式”，不需要原畫膜，但其后的制版處理是介由圖像掩模并用紫外光曝光、將未固化部顯影除去的エ序，在需要顯影處理這點上仍有改進的余地。作為不需要顯影エ序的制版方法，大量地提出了利用激光將浮離形成層直接離刻而制版的所謂“直雕CTP方式”。直離CTP方式是不折不扣地用激光進行雕刻，從而形成成為浮雕的凹凸的方法，與使用了原畫膜的浮雕形成不同，具有能夠自由地控制浮雕形狀的優點。目前為止，以直雕CTP方式使用的版材，作為決定版材的特性的粘結劑，提出了使用疏水性的弾性體(橡膠)的粘結劑(例如參照專利文獻1。)。專利文獻1 日本特開2004-262077號公報

發明內容
對于將浮雕形成層進行激光雕刻而得到的浮雕版，要求對于紫外線固化性的所謂 UV墨液的耐久性、對于水性墨液的耐久性和對于洗滌液的耐久性。本發明要解決的課題在干，提供對于由激光雕刻產生的雕刻渣的沖洗洗滌液耐性優異、印刷時對于水性墨液的耐久性高、而且對于UV墨液的耐久性也優異的適合激光雕刻用浮雕印刷版原版的浮雕形成層的激光雕刻用樹脂組合物。此外，本發明要解決的其他課題在干，提供在激光雕刻用的浮雕印刷版原版中形成的浮雕層對于墨液洗滌液的耐性、對于水性墨液的耐性和對于UV墨液的耐性優異的浮離印刷版原版及其制造方法以及使用了其的浮雕印刷版的制造方法。上述的課題通過以下的解決手段<1>、<9> <11>和<13>來實現。與作為優選的實施方式的<2> <8>、<12>、<14>和<15> 一起列出。<1>激光雕刻用樹脂組合物，其特征在干，含有(成分A)含有選自烯鍵式不飽和基、環氧基、氧雜環丁基、水解性甲硅烷基和硅烷醇基中的至少1種的聚合性基團進而還具有磺酰胺基的低分子化合物，具有選自馬來酰亞胺基、琥珀酰亞胺基和鄰苯ニ甲酰亞胺基中的殘基的低分子化合物，或者含有來自具有馬來酰亞胺基的化合物的結構單元或具有磺酰胺基的結構單元的高分子化合物；<2>如<1>所述的激光雕刻用樹脂組合物，其中上述高分子化合物含有烯鍵式不飽和基或水解性甲硅烷基；<3>如<1>或<2>所述的激光雕刻用樹脂組合物，其還含有(成分B)粘結劑聚合物；<4>如<1> <3>中任意一項所述的激光雕刻用樹脂組合物，其還含有(成分C) 聚合性化合物；<5>如く 1> <4>中任意一項所述的激光雕刻用樹脂組合物，其還含有(成分D) 聚合引發劑；<6>如<1> <5>中任意一項所述的激光雕刻用樹脂組合物，其還含有(成分幻增塑劑；<7>如<1> <6>中任意一項所述的激光雕刻用樹脂組合物，其還含有(成分F) 香料；<8>如<1> <7>中任意一項所述的激光雕刻用樹脂組合物，其還含有(成分G) 能夠吸收波長700 1300nm的光的光熱轉換劑；<9>激光雕刻用浮雕印刷版原版，其在支承體上具有由<1> <8>中任意一項所述的激光雕刻用樹脂組合物形成的浮雕形成層；<10>激光雕刻用浮雕印刷版原版，其在支承體上具有將由<1> <8>中任意ー項所述的激光雕刻用樹脂組合物形成的浮雕形成層通過光和/或熱進行交聯而成的浮雕形成層；<11>浮離印刷版原版的制造方法，其特征在干，包括形成由<1> <8>中任意一項所述的激光雕刻用浮雕樹脂組合物形成的浮雕形成層的層形成エ序、和形成將上述浮離形成層通過光和/或熱進行交聯而成的交聯浮雕形成層的交聯エ序；<12>如<11>所述的浮雕印刷版原版的制造方法，其中交聯エ序為通過熱將上述浮離形成層交聯的エ序；<13>浮離印刷版的制版方法，其包括對采用<11>或<12>所述的浮雕印刷版原版的制造方法制造的浮雕印刷版原版的浮雕形成層進行激光雕刻而形成浮雕層的浮雕層形成エ序；<14>如<13>所述的浮雕印刷版的制版方法，其中上述浮離形成層的厚度為0. 05mm以上IOmm以下；<15>如<13>或<14>所述的浮雕印刷版的制版方法，其中上述浮離形成層的肖氏 A硬度為50°以上90°以下。根據本發明，能夠提供通過激光雕刻而產生的雕刻渣的沖洗性優異、印刷時能夠適合用于水性墨液和/或UV墨液的、適合激光雕刻用浮雕印刷版原版的浮雕形成層的激光雕刻用樹脂組合物。此外，根據本發明，通過使用上述本發明的激光雕刻用樹脂組合物，能夠提供形成的浮雕層的水性墨液耐性和UV墨液耐性均優異的浮雕印刷版原版及其制造方法、以及浮離印刷版的制版方法。
具體實施例方式
以下對本發明詳細說明。[激光雕刻用樹脂組合物]本發明的激光雕刻用樹脂組合物，其特征在干，含有(成分A)含有選自烯鍵式不飽和基、環氧基、氧雜環丁基、水解性甲硅烷基和硅烷醇基中的至少1種聚合性基團進而還具有磺酰胺基的低分子化合物，具有選自馬來酰亞胺基、琥珀酰亞胺基和鄰苯ニ甲酰亞胺基中的殘基的低分子化合物，或者含有來自具有馬來酰亞胺基的化合物的結構單元或具有磺酰胺基的結構單元的高分子化合物。以下也將“來自具有馬來酰亞胺基的化合物的結構單元”簡稱為“來自馬來酰亞胺基的結構單元”。本發明的激光雕刻用樹脂組合物，除了被實施激光雕刻的浮雕印刷版原版的浮雕形成層用途以外，還能夠廣泛地應用于其他用途。例如，不僅用于是采用激光雕刻進行以下詳述的凸狀的浮雕形成的印刷版原版的浮雕形成層，也能夠用于表面形成凹凸和/或開ロ 部的其他的材形例如凹版、孔版、印模等采用激光雕刻形成圖像的各種印刷版和/或各種成型體的形成。關于本組合物，特別優選應用于在適當的支承體上具有的浮雕形成層的形成。應予說明，本說明書中，關于浮離印刷版原版的說明，優選將含有粘結劑聚合物且作為供于激光雕刻的圖像形成層的、表面平坦的層稱為浮雕形成層，將對其進行激光雕刻而在表面形成了凹凸的層稱為浮雕層。如上所述，成分A選自以下的ニ種低分子化合物(成分Al)和(成分A2)以及ー 種高分子化合物(成分A3)。以下對于這些化合物進行說明。(成分Al)含有選自烯鍵式不飽和基、環氧基、氧雜環丁基、水解性甲硅烷基和硅烷醇基中的至少1種聚合性基團進而還具有磺酰胺基的低分子化合物其中，烯鍵式不飽和基、環氧基、氧雜環丁基、水解性甲硅烷基和硅烷醇基均具有自反應性或加成反應性，通過連鎖的加成反應變化為分子量高的化合物，或者在能夠與其他活性的交聯性基鍵合方面具有共通的性質。成分Al是含有從上述組中選擇的至少1種聚合性基團進而還具有磺酰胺基的低分子化合物。其中，所謂“低分子化合物”，意味著分子量小于1000，優選為分子量100 900。 此外，所謂作為后述的成分A3的“高分子化合物”，意味著分子量為1000以上，從與其他的使用原料的相容性的觀點出發，優選重均分子量為1000 1000000，更優選重均分子量為 1000 100000。上述的烯鍵式不飽和基，限于鏈狀的結構，包括(甲基)丙烯酰基、乙烯基和烯丙基，優選(甲基)丙烯酰基和乙烯基。環氧基可以為鏈狀，也可以為環狀，包括縮水甘油基、氧化環己烯基。氧雜環丁基可具有取代基，優選為未取代或者碳數1 5的低級烷基作為取代基。“水解性甲硅烷基和硅烷醇基”中的“水解性甲硅烷基”，是含水解性基團的甲硅烷基，作為水解性基團，可以列舉烷氧基、芳氧基、巰基、鹵素基、酰胺基、乙酰氧基、氨基、異丙烯氧基等。甲硅烷基發生水解而成為硅烷醇基，硅烷醇基發生脫水縮合而生成硅氧烷鍵。這樣的水解性甲硅烷基或硅烷醇基優選下述式(1)所示的基團。[化1]
權利要求
1.一種激光雕刻用樹脂組合物，其特征在干，含有(成分A)含有選自烯鍵式不飽和基、環氧基、氧雜環丁基、水解性甲硅烷基和硅烷醇基中的至少1種聚合性基團進而還具有磺酰胺基的低分子化合物，具有選自馬來酰亞胺基、琥珀酰亞胺基和鄰苯ニ甲酰亞胺基中的殘基的低分子化合物，或者含有來自具有馬來酰亞胺基的化合物的結構單元或具有磺酰胺基的結構單元的高分子化合物。
2.如權利要求1所述的激光雕刻用樹脂組合物，其中， 所述高分子化合物含有烯鍵式不飽和基或水解性甲硅烷基。
3.如權利要求1所述的激光雕刻用樹脂組合物，其中， 還含有(成分B)粘結劑聚合物。
4.如權利要求1所述的激光雕刻用樹脂組合物，其中， 還含有(成分C)聚合性化合物。
5.如權利要求1所述的激光雕刻用樹脂組合物，其中， 還含有(成分D)聚合引發劑。
6.如權利要求1所述的激光雕刻用樹脂組合物，其中， 還含有(成分幻增塑劑。
7.如權利要求1所述的激光雕刻用樹脂組合物，其中， 還含有(成分F)香料。
8.如權利要求1所述的激光雕刻用樹脂組合物，其中，還含有(成分G)能夠吸收波長700 1300nm的光的光熱轉換劑。
9.ー種激光雕刻用浮雕印刷版原版，其在支承體上具有由權利要求1 8中任意ー項所述的激光雕刻用樹脂組合物形成的浮雕形成層。
10.ー種激光雕刻用浮雕印刷版原版，其在支承體上具有由權利要求1 8中任意ー項所述的激光雕刻用樹脂組合物形成的浮雕形成層利用光和/或熱而交聯的浮雕形成層。
11.ー種激光雕刻用浮雕印刷版原版的制造方法，其特征在干，包括形成由權利要求1 8中任意一項所述的激光雕刻用樹脂組合物形成的浮雕形成層的層形成エ序、和形成利用光和/或熱將所述浮雕形成層經交聯而成的交聯浮雕形成層的交聯エ序。
12.如權利要求11所述的浮雕印刷版原版的制造方法，其中， 交聯エ序是利用熱將所述浮雕形成層交聯的エ序。
13.一種浮雕印刷版的制版方法，其中，包括對采用權利要求11所述的制造方法制造的激光雕刻用浮雕印刷版原版的浮雕形成層進行激光雕刻而形成浮雕層的浮雕層形成エ序。
14.如權利要求13所述的浮雕印刷版的制版方法，其中， 所述浮雕形成層的厚度為0. 05mm以上IOmm以下。
15.如權利要求13所述的浮雕印刷版的制版方法，其中， 所述浮雕形成層的肖氏A硬度為50°以上90°以下。
全文摘要
本發明的目的在于提供沖洗洗滌液耐性優異、印刷時對水性墨液的耐久性高且對UV墨液的耐久性也優異的適合激光雕刻用浮雕印刷版原版的浮雕形成層的激光雕刻用樹脂組合物。本發明的激光雕刻用樹脂組合物，其特征在于，含有(成分A)含有選自烯鍵式不飽和基、環氧基、氧雜環丁基、水解性甲硅烷基和硅烷醇基中的至少1種聚合性基團進而還具有磺酰胺基的低分子化合物，具有選自馬來酰亞胺基、琥珀酰亞胺基和鄰苯二甲酰亞胺基中的殘基的低分子化合物，或者含有來自具有馬來酰亞胺基的化合物的結構單元或具有磺酰胺基的結構單元的高分子化合物。
文檔編號G03F7/075GK102540713SQ201110410108
公開日2012年7月4日 申請日期2011年12月9日 優先權日2010年12月10日
發明者川島敬史 申請人:富士膠片株式會社