專利名稱：一種低張力正膠顯影液及其制備方法
技術領域：
本發明涉及一種正膠顯影液及其制備方法，尤其涉及一種用于IC、FPD的低張力正膠顯影液及其制備方法。
背景技術：
正膠顯影液，無色的有機堿性水溶液，有特殊臭味，有腐蝕性；該產品主要用于 ICdntegrated Circuit，集成電路板)、FPD (Flat Panel Display，平板顯示器)制造用正性光刻膠的顯影劑；可防止和減少鈉離子的污染，改善應用性能，具有顯影干凈、親和力性能好等優點，有利于提高分辯力。目前低張力正膠顯影液的成份主要為四甲基氫氧化銨 (TMAH)；該產品主要存在以下幾點缺點1)該正膠顯影液的表面張力大于等于70mN/m，應用后其產品容易產生過顯和 CD (Critical Dimensions)值不穩定的現象；2)該正膠顯影液的使用壽命短，由此在生產使用時顯影液消耗量大，造成單位成本較高。因此有必要提供低張力正膠顯影液及其制備方法，避免現有產品容易出現過顯和 CD值不穩定的現象。

發明內容
本發明所要解決的技術問題是提供一種低張力正膠顯影液及其制備方法，表面張力低，避免現有產品容易出現過顯和CD值不穩定的現象，降低顯影液的消耗量。本發明為解決上述技術問題而采用的技術方案是提供一種低張力正膠顯影液，包括以下重量百分比的組合物四甲基氫氧化銨 2.；35% 2.41% ；聚氧乙烯烷基醚 0. 2 % 0. 3 % ；水97. 29% 97. 45%。上述的低張力正膠顯影液，其中，所述四甲基氫氧化銨的濃度為25% (重量百分比)。上述的低張力正膠顯影液，其中，所述聚氧乙烯烷基醚的濃度大于99% (重量百分比)。本發明為解決上述技術問題還提供一種低張力正膠顯影液的制備方法，包括如下步驟先加入四甲基氫氧化銨和一半水到反應釜中，充分攪拌10 30分鐘；然后再加入聚氧乙烯烷基醚并加滿水，其中，四甲基氫氧化銨的重量百分比為 2. 2. 41%，聚氧乙烯烷基醚的重量百分比為0. 2% 0. 3%，再攪拌10 30分鐘；最后將制得的混合物經0. 5 μ m的過濾器過濾，以去除混合液中粒徑大于0. 5 μ m 的有害粒子，即得低張力正膠顯影液。本發明對比現有技術有如下的有益效果本發明提供的低張力正膠顯影液及其制備方法，通過在原有工藝的基礎上新加入微量非離子型表面活性劑聚氧乙烯烷基醚，使其表面張力降低到25-35mN/m，從而有效避免常規產品出現的過顯及CD值不穩定問題，使其在使用效果不受影響的前提下顯影速率均勻快速，使用后產品顯影線條無鋸齒形且清晰， 分辨率達到0. 8um。
具體實施例方式下面通過實施例進一步描述本發明，但不限于所舉的實施例。選用濃度為25重量％的四甲基氫氧化銨，高純級，杭州格林達化學有限公司生產，其指標如表1
權利要求
1.一種低張力正膠顯影液，其特征在于，包括以下重量百分比的組合物 四甲基氫氧化銨 2.:35% 2.41% ；聚氧乙烯烷基醚 0.2% 0.3%; 水97. 29% 97. 45%。
2.如權利要求1所述的低張力正膠顯影液，其特征在于，所述四甲基氫氧化銨的濃度為25% (重量百分比)。
3.如權利要求1所述的低張力正膠顯影液，其特征在于，所述聚氧乙烯烷基醚的濃度大于99% (重量百分比)。
4.一種如權利要求1所述的低張力正膠顯影液的制備方法，其特征在于，包括如下步驟先加入四甲基氫氧化銨和一半水到反應釜中，充分攪拌10 30分鐘； 然后再加入聚氧乙烯烷基醚并加滿水，其中，四甲基氫氧化銨的重量百分比為 2. 2. 41%，聚氧乙烯烷基醚的重量百分比為0. 2% 0. 3%，再攪拌10 30分鐘； 最后將制得的混合物經0. 5 μ m的過濾器過濾，以去除混合液中粒徑大于0. 5 μ m的有害粒子，即得低張力正膠顯影液。
全文摘要
本發明公開了一種低張力正膠顯影液及其制備方法，所述正膠顯影液包括以下重量百分比的組合物四甲基氫氧化銨2.35％～2.41％；聚氧乙烯烷基醚0.2％～0.3％；水97.29％～97.45％。本發明提供的低張力正膠顯影液及其制備方法，通過在原有工藝的基礎上新加入微量非離子型表面活性劑聚氧乙烯烷基醚，使其表面張力降低到25-35mN/m，從而有效避免常規產品出現的過顯及CD值不穩定問題，使其在使用效果不受影響的前提下顯影速率均勻快速，使用后產品顯影線條無鋸齒形且清晰，分辨率達到0.8um。
文檔編號G03F7/32GK102540772SQ201110461720
公開日2012年7月4日 申請日期2011年12月30日 優先權日2011年12月30日
發明者季文慶, 朱龍, 欒成, 殷福華, 邵勇 申請人:江陰江化微電子材料股份有限公司