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光學元件的制作方法

文檔序號:11198056閱讀:1026來源:國知局
光學元件的制造方法與工藝

本發明涉及一種光學元件,特別是由黏著劑結合的光學元件。



背景技術:

圖1為黏合型光學元件10的剖面示意圖。光學元件10包含一下增亮膜11、配置在該下增亮膜11上方的一上增亮膜12。傳統中,在上增亮膜12的下表面涂布液態黏著層13,通過壓印將下增亮膜11的棱鏡插入液態黏著層13,接著進行熱處理過程或uv光照過程,在液態黏著層13上使得液態黏著層13進行交聯反應,從而形成固化膜,以完成下增亮膜11和上增亮膜12之間的貼合。此方式的好處在于,當黏著層13處于液態時,可確保黏著層13和下增亮膜11的棱鏡之間具有足夠的接觸面積,以保證光學元件10的黏著穩定性。然而,由于黏著層13在貼合前處于液態,貼合時容易產生明顯的虹吸現象(wickphenomenon)(即毛細現象),從而不易控制液態黏著層13和下增亮膜11的棱鏡之間的接觸面積,且進而使得貼合后的光學性質變差。在貼合中接觸面積越大,則光學增益(即輝度)越差。

還有另一種方式完成貼合。在上增亮膜12的下表面涂布液態黏著層13,施加光照或熱處理能夠使得液態黏著層13進行交聯反應,從而形成固化膜,接著通過壓印將下增亮膜11的棱鏡插入固態黏著層13,以完成下增亮膜11和上增亮膜12之間的貼合。此方式的好處在于固化后的液態黏著層13不具有流動性,因此可降低虹吸現象。然而,由于黏著層13先行固化,下增亮膜11的棱鏡和固態黏著層13之間大部分的黏合為物理黏合而非化學黏合,因此下增亮膜11和上增亮膜12之間的黏著力通常較弱, 易于在后續的裁切或組裝中出現貼合產品剝離的現象。

因此,本發明提出了一種光學元件及其制造方法,以克服上述的缺點。



技術實現要素:

本發明提出一種光學元件,其可以有效地控制貼合的接觸面積,以避免貼合過程中所產生的虹吸現象,且保證光學元件具有足夠的黏著強度。

在一個實施例中,本發明公開了一種光學元件,該光學元件包含:一第一光學膜,具有一第一表面;一黏著劑,配置在該第一光學膜的該第一表面上,其中該黏著劑包含一光可硬化部分和一熱可硬化部分;以及一第二光學膜,包含一光可硬化材料,其中該第二光學膜的該光可硬化材料黏合于該黏著劑的該光可硬化部分,當該黏著劑的該光可硬化部分正黏合于該第二光學膜的該光可硬化材料時,該黏著劑的該光可硬化部分正在硬化且該黏著劑的該熱可硬化部分已經硬化。

在本發明的一實施例中,該第二光學膜包含多個微結構,其中該多個微結構由該光可硬化材料制成,該多個微結構的該光可硬化材料黏合于該黏著劑的該光可硬化部分。

在本發明的一實施例中,微結構為一棱鏡。

在本發明的一實施例中,該黏著劑的該光可硬化部分和該熱可硬化部分的重量比值配置使得該黏著劑和該第二光學膜的該多個微結構之間的黏著力大于100克/25毫米,且該光學元件的光學增益大于1.6。

在本發明的一實施例中,該黏著劑的該光可硬化部分和該熱可硬化部分的重量比值為0.11~4,使得該黏著劑和該第二光學膜的該多個微結構之間的黏著力大于100克/25毫米,且該光學元件的光學增益大于1.6。

在本發明的一實施例中,該黏著劑的厚度為0.5~3微米。

在本發明的一實施例中,該黏著劑的該光可硬化部分和該熱可硬化部 分分別源自于一第一材料和一第二材料,其中該第二材料不同于該第一材料。

在本發明的一實施例中,該黏著劑的該光可硬化部分和該熱可硬化部分源自于一單一材料。

在一個實施例中,本發明公開了形成一種光學元件的方法,該方法包含:提供具有一第一表面的一第一光學膜;在該第一光學膜的該第一表面上配置一黏著劑,其中該黏著劑包含一光可硬化部分和一熱可硬化部分;以及提供一第二光學膜,其中該第二光學膜包含一光可硬化材料,其中該第二光學膜的該光可硬化材料黏合于該黏著劑的該光可硬化部分,當該黏著劑的該光可硬化部分正黏合于該第二光學膜的該光可硬化材料時,該黏著劑的該光可硬化部分正在硬化且該黏著劑的該熱可硬化部分已經硬化。

在一個實施例中,本發明公開了一種光學元件,該光學元件包含:一第一光學膜,具有一第一表面;一黏著劑,配置在該第一光學膜的該第一表面上,其中該黏著劑包含一熱可硬化部分和一光可硬化部分;以及一第二光學膜,包含一熱可硬化材料,其中該第二光學膜的該熱可硬化材料黏合于該黏著劑的該熱可硬化部分,當該黏著劑的該熱可硬化部分正黏合于該第二光學膜的該熱可硬化材料時,該黏著劑的該熱可硬化部分正在硬化且該黏著劑的該光可硬化部分已經硬化。

在一個實施例中,本發明公開了一種光學元件,該光學元件包含:一第一光學膜,具有一第一表面;一黏著劑,配置在該第一光學膜的該第一表面上,其中該黏著劑包含一第一可硬化部分和一第二可硬化部分;以及一第二光學膜,包含一可硬化材料,其中該第二光學膜的該可硬化材料黏合于該黏著劑的該第二可硬化部分,其中該黏著劑的該第一可硬化部分通過一第一制程硬化,且該黏著劑的該第二可硬化部分和該第二光學膜的該可硬化材料通過一第二制程硬化,其中該第二制程不同于該第一制程,當 該黏著劑的該第二可硬化部分正黏合于該第二光學膜的該可硬化材料時,該黏著劑的該第二可硬化部分正在硬化且該黏著劑的該第一可硬化部分已經硬化。

附圖說明

圖1為現有的黏合型光學元件的剖面示意圖;

圖2為本發明提供的光學元件的剖面示意圖;

圖3a為微結構的光導向部的剖面示意圖;

圖3b為微結構的黏合部的剖面示意圖;

圖4為另一個實施例中微結構的光導向部和黏合部的剖面示意圖;

圖5為另一個實施例中微結構的光導向部和黏合部的剖面示意圖;以及

圖6a至圖6e說明在實施例1、實施例2、實施例3、比較例1和比較例2中虹吸現象的實際剖面示意圖。

附圖標記說明:10-黏合型光學元件;11-下增亮膜;12-上增亮膜;13-黏著層;14-棱鏡;15-虹吸現象;100-光學元件;101-第一光學膜;101a-上表面;101b-下表面;101s-基板;101m-微結構層;102-第二光學膜;102a-上表面;102b-下表面;102s-基板;102m-微結構層;103-黏著劑;104-微結構;104a-光導向部;104b-黏合部;104x-延伸面;104y-面;104z-面。

具體實施方式

本發明的詳細說明于隨后描述,這里所描述的較佳實施例是作為說明和描述的用途,并非用來限定本發明的范圍。

圖2為本發明提供的光學元件100的剖面示意圖。光學元件100包含一第一光學膜101、一第二光學膜102以及在該第一光學膜101和該第二 光學膜102之間的一黏著劑103。第一光學膜101具有一上表面101a和一下表面101b。黏著劑103配置在第一光學膜101的下表面101b上。第二光學膜102具有一上表面102a和一下表面102b。黏著劑103包含一光可硬化部分和一熱可硬化部分。第二光學膜102包含一光可硬化材料。第二光學膜102的光可硬化材料黏合于黏著劑103的光可硬化部分,當黏著劑103的光可硬化部分正黏合于第二光學膜102的光可硬化材料時,黏著劑103的光可硬化部分正在硬化且黏著劑103的熱可硬化部分已經硬化。

在一個實施例中,第二光學膜102包含多個微結構104(例如棱鏡或微透鏡(microlens),較佳來說,各個微結構104為一棱鏡),且微結構104由光可硬化材料制成,其中微結構104的光可硬化材料黏合于黏著劑103的該光可硬化部分,當黏著劑103的光可硬化部分正黏合于第二光學膜102的微結構104的光可硬化材料時,黏著劑103的光可硬化部分正在硬化且黏著劑103的熱可硬化部分已經硬化。較佳來說,如果虹吸現象(在配置在第一光學膜101的下表面101b上的黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間)起因于黏著劑103的光可硬化部分和第二光學膜102的微結構104的光可硬化材料的結合,增加第二光學膜102的微結構104的表面積(未埋于黏著劑103里的面積)、降低黏著劑103的厚度或任何其它適合的方法可增加光學元件100的光學增益(即輝度)。

黏著劑103可由第一材料和第二材料的組合制成(第二材料不同于第一材料),其中第一材料具有作為黏著劑103的光可硬化部分的光可硬化官能基且第二材料具有作為黏著劑103的熱可硬化部分的熱可硬化官能基。黏著劑103也可由單一材料制成,其中該單一材料具有分別作為黏著劑103的光可硬化部分和黏著劑103的熱可硬化部分的光可硬化官能基和熱可硬化官能基。

詳細的制造方法于下方描述:

一開始,在第一光學膜101的下表面101b上的配置黏著劑103;此時黏著劑103為液態。假如第二光學膜102正黏合于液態黏著劑103時,在液態黏著劑103和第二光學膜102之間的界面易于產生虹吸現象而降低光學元件100的光學增益(即輝度)。為了解決上述問題,本發明使用包含由不同制程硬化的兩個可硬化部分的黏著劑103來同時改善黏著劑103與第二光學膜102之間的黏著力和光學元件100的光學增益。

黏著劑103包含由光照制程(illuminationprocess)硬化的光可硬化部分和熱處理制程(heattreatmentprocess)硬化的熱可硬化部分;然而,本發明并不局限于此案例(例如,黏著劑103包含由第一制程硬化的第一可硬化部分和第二制程硬化的第二可硬化部分)。在第一光學膜101的下表面101b上的液態黏著劑103施加熱處理制程后,黏著劑103的熱可硬化部分已硬化,但黏著劑103的光可硬化部分尚未硬化。因此,在熱處理制程后,在第一光學膜101的下表面101b上的黏著劑103由液態改變成半固態。接著,將第二光學膜102黏合于在第一光學膜101的下表面101b上的半固態黏著劑103。由于半固態黏著劑103相較于液態黏著劑103具有較低的流動性,因此當第二光學膜102正黏合于半固態黏著劑103時,可大大地改善虹吸現象。當第二光學膜102黏合于第一光學膜101的下表面101b上的半固態黏著劑103時,在黏著劑103的光可硬化部分(尚未硬化)和第二光學膜102的光可硬化材料(此時,第二光學膜102的光可硬化材料未硬化或部分硬化,通過控制在光照制程中的uv光照能量使第二光學膜102的光可硬化材料僅完成一部分的交聯硬化反應可達成部分硬化)施加光照制程以充分完成化學黏合。因此,在光照制程后,在第一光學膜101和第二光學膜102之間的黏著劑103的相由半固態改變成固態,且第二光學膜102的光可硬化材料的相改變成固態。

上述制造方法的優點包含:(a)通過優化黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值,可調整在熱處理制程后的半固態黏著劑103的 硬度以進一步控制第二光學膜102的微結構104在黏著劑103中的插入深度;同時,由于半固態黏著劑103不具流動性,可有效地改善虹吸現象。此外,在貼合制程中,第二光學膜102的微結構104的接觸面積可精準地控制:(b)在貼合制程中,由于半固態黏著劑103和第二光學膜102的微結構104都具有尚未反應的光可硬化官能基,在后續的uv照明中的可進行光聚合反應形成化學黏合以進一步提供在第一光學膜101和第二光學膜102之間足夠的黏著力。

黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值可進一步配置以同時改善黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力和光學元件100的光學增益。在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值配置使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于100克/25毫米且光學元件100的光學增益大于1.6。在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值配置使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于120克/25毫米且光學元件100的光學增益大于1.62。

在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值配置使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于140克/25毫米且光學元件100的光學增益大于1.62。在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值配置使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于160克/25毫米且光學元件100的光學增益大于1.65。在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值配置使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于180克/25毫米且光學元件100的光學增益大于1.65。在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值配置使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于200克/25毫米且光學元件100的光學增益大于1.67。在一個實 施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值配置使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于220克/25毫米且光學元件100的光學增益大于1.67。在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值配置使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于250克/25毫米且光學元件100的光學增益大于1.7。換句話說,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的特定重量比值可符合上述的黏著力和光學增益。

黏著劑103的厚度為0.5~3微米。黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值以及黏著劑103的厚度可進一步配置以同時改善黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力和光學元件100的光學增益。在一個實施例中,黏著劑103的厚度為0.5~2微米。在一個實施例中,黏著劑103的厚度為0.5~1.5微米(1~1.5微米或0.5~1微米)。雖然黏著劑103具有較小的厚度(例如小于1.5微米),卻能提供足夠大的黏著力以避免黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的分離現象。此外,較小的黏著劑103厚度可改善光學增益。較佳來說,如果虹吸現象(在配置在第一光學膜101的下表面101b上的黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間)起因于黏著劑103的光可硬化部分和第二光學膜102的微結構104的光可硬化材料的結合,增加第二光學膜102的微結構104的表面積(未埋于黏著劑103里的面積)、降低黏著劑103的厚度或任何其它適合的方法可增加光學元件100的光學增益。

各個微結構104具有一光導向部104a和黏合于黏著劑103的一黏合部104b。圖3a為微結構104的光導向部104a的剖面示意圖。圖3b為微結構104的黏合部104b的剖面示意圖。光導向部104a具有定義一第一兩面角(dihedralangle)θ1的兩個相交延伸面(facets)104x(例如延伸平面)且黏合部104b具有定義一第二兩面角θ2的兩個相交面104y(例如平面),其中該第一兩面角θ1實質上等于該第二兩面角θ2(實際上,光導向部104a的 兩個相交延伸面104x和黏合部104b的兩個相交面104y為一致的)。較佳來說,第一兩面角θ1(或第二兩面角θ2)為90度;然而本發明并不局限于這個案例。微結構104可沿著一第一方向延伸;在一個實施例中,微結構104可為沿者第一方向具有相同尺寸的橫截面形狀的規則微結構(例如規則棱鏡或規則透鏡)。微結構104可為一塊狀(bulk)微結構(例如微透鏡(microlens))。詳細來說,本發明采取規則微結構104(較佳為規則三角形棱鏡)黏合于黏著劑103;為了增加黏著力,本發明中的微結構104不需要具有特定形狀(此特定形狀作為增加接觸黏著劑103的面積之用),因此可降低制程的復雜度。此外,具有較小厚度的黏著劑103(例如小于1.5微米)和規則微結構也可降低光學元件100的總厚度。

圖4為另一個實施例中微結構104的光導向部104a和黏合部104b的剖面示意圖。第二兩面角θ2可小于第一兩面角θ1,以使得黏合部104b具有更多接觸黏著劑103的面積以改善黏著力。此外,黏合部104b可具有兩平行面104z(例如平面)使得黏合部104b具有更多接觸黏著劑103的面積以改善黏著力(見圖5)。

第一光學膜101可為任何適合的光學膜,例如增亮膜、擴散片、反射式偏光增亮膜(dbef)等。第二光學膜102可為任何適合的光學膜,例如增亮膜、擴散片、反射式偏光增亮膜等等。第一光學膜101可包含一基板101s(例如pet基板)和配置在該基板101s上的一微結構層101m。第二光學膜102可包含一基板102s(例如pet基板)和配置在該基板102s上的一微結構層102m。

僅通過依據第二光學膜102的光可硬化材料來選擇黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值而不增加其它復雜的制程,本發明達到了“在黏著劑103與第二光學膜102的微結構104之間提供足夠黏著力”的目標而維持光學元件100的光學增益在操作范圍內,以大大地降低制造 成本。

黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值為0.11~4。降低黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值,使得在熱處理制程后黏著劑103中具有較多已經硬化的熱可硬化部分。換句話說,在光照制程中,在第一光學膜101和第二光學膜102之間具有較少有流動性的光可硬化部分用以黏合,因此可大大地降虹吸現象。

黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分具有較小的重量比值有助于改善虹吸現象,但由于黏著劑103具有較少的光可硬化部分可黏合于第二光學膜102來形成化學黏合,使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間具有較弱的黏著力,在后續的制程中可能常發生黏著劑103和第二光學膜102(或第二光學膜102的微結構10)4的分離現象;黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分具有較大的重量比值會惡化虹吸現象,因而大大地降低光學元件100的光學增益。因此,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分具有優化的重量比值可同時改善虹吸現象和黏著力。

黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值可進一步配置以同時改善黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力和光學元件100的光學增益。在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值為0.25~2.33。在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值為0.3~1.08。較佳來說,如果虹吸現象(在配置在第一光學膜101的下表面101b上的黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間)起因于黏著劑103的光可硬化部分和第二光學膜102的微結構104的光可硬化材料的結合,增加第二光學膜102的微結構104的表面積(未埋于黏著劑103里的面積)、降低黏著劑103的厚度或任何其它適合的方法可增加光學元件100的光學增益。

黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值為0.11~4使 得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于100克/25毫米,且光學元件100的光學增益大于1.6。本發明利用黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值和第二光學膜102的微結構104的光可硬化材料來同時改善黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力和光學元件100的光學增益。較佳來說,如果虹吸現象(在配置在第一光學膜101的下表面101b上的黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間)起因于黏著劑103的光可硬化部分和第二光學膜102的微結構104的光可硬化材料的結合,增加第二光學膜102的微結構104的表面積(未埋于黏著劑103里的面積)、降低黏著劑103的厚度或任何其它適合的方法可增加光學元件100的光學增益。

黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值和第二光學膜102的微結構104的光可硬化材料可進一步配置以同時改善黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力和光學元件100的光學增益。在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值配置使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于100克/25毫米且光學元件100的光學增益大于1.6。在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值配置使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于120克/25毫米且光學元件100的光學增益大于1.62。在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值配置使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于140克/25毫米且光學元件100的光學增益大于1.62。在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值配置使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于160克/25毫米且光學元件100的光學增益大于1.65。在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值配置使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于180克/25毫米且 光學元件100的光學增益大于1.65。在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值配置使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于200克/25毫米且光學元件100的光學增益大于1.67。在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值配置使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于220克/25毫米且光學元件100的光學增益大于1.67。在一個實施例中,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值配置使得黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力大于250克/25毫米且光學元件100的光學增益大于1.7。換句話說,黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的特定重量比值可符合上述的黏著力和光學增益。

黏著劑103的厚度為0.5~3微米。黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值以及黏著劑103的厚度可進一步配置以同時改善黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的黏著力和光學元件100的光學增益。在一個實施例中,黏著劑103的厚度為0.5~2微米。在一個實施例中,黏著劑103的厚度為0.5~1.5微米(1~1.5微米或0.5~1微米)。雖然黏著劑103具有較小的厚度(例如小于1.5微米),卻能提供足夠大的黏著力以避免黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間的分離現象。此外,較小的黏著劑103厚度可改善光學增益。較佳來說,如果虹吸現象(在配置在第一光學膜101的下表面101b上的黏著劑103和第二光學膜102的微結構104之間)起因于黏著劑103的光可硬化部分和第二光學膜102的微結構104的光可硬化材料的結合,增加第二光學膜102的微結構104的表面積(未埋于黏著劑103里的面積)、降低黏著劑103的厚度或任何其它適合的方法可增加光學元件100的光學增益。

實驗

下面的實施例作了“黏著劑的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值”對“第二光學膜的棱鏡的光可硬化材料”的實驗。然而,本發明并不局限于這些案例。在這些實施例中,第二光學膜102的棱鏡104的光可硬化材料是相同的,黏著劑103的熱可硬化部分由em-2000(negamichemicalindustrial公司制造)和sn-50(negamichemicalindustrial公司制造)的組合制成,且黏著劑103的光可硬化部分由bisphenola(eo)30dimethacrylate(m2301,miwon公司制造)和isodecylacrylate(m130,miwon公司制造)的組合制成。此外,在各個實施例中均加入光起始劑(photoinitiator)184。在常溫下混拌4小時后進行相關物性量測與樣品涂布、生產與制備。測量結果列于表1且圖6a至圖6e說明在實施例1、實施例2、實施例3、比較例1和比較例2中虹吸現象的實際剖面示意圖。

表1

實施例1

在實施例1中的黏著劑103材料全為熱可硬化。在第一光學膜101的下表面101b上涂布黏著劑103且加熱黏著劑103以干燥黏著劑103的溶劑,使黏著劑103進行熱硬化反應。由于在熱處理制程后黏著劑103處于 固態,在貼合過程中黏著劑103無法流動,因此可完全克服虹吸現象??刂起ぶ鴦?03的厚度在1~1.5微米,通過滾輪壓印將第二光學膜102的棱鏡104黏合于黏著劑103,使得黏著劑103和第二光學膜102的棱鏡104形成物理黏合。光學增益為1.67。由于黏著劑103全由熱可硬化材料制成,第二光學膜102的棱鏡104僅通過物理黏合(非化學黏合)來黏合。因此,黏著力相當低,僅約117克/25毫米,如表1所示。

實施例2

在實施例2中的黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值為0.33。在第一光學膜101的下表面101b上涂布黏著劑103且加熱黏著劑103以干燥黏著劑103的溶劑,使黏著劑103的熱可硬化部分進行熱硬化反應。控制黏著劑103的厚度在1~1.5微米,通過滾輪壓印將第二光學膜102的棱鏡104黏合于黏著劑103,使得黏著劑103和第二光學膜102的棱鏡104形成物理黏合。由于黏著劑的熱可硬化部分和光可硬化部分的重量比值(0.67)較大,將黏著劑103干燥至半固態使得在貼合過程中黏著劑103無法流動,因此可完全克服虹吸現象。此外,黏著劑103的光可硬化部分和第二光學膜102的棱鏡104可通過uv光照制程進行交聯硬化反應以形成化學黏合。因此,黏著力可改善至202克/25毫米且光學增益為1.66,如表1所示。

實施例3

在實施例3中的黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值為1。在第一光學膜101的下表面101b上涂布黏著劑103且加熱黏著劑103以干燥黏著劑103的溶劑,使黏著劑103的熱可硬化部分進行熱硬化反應??刂起ぶ鴦?03的厚度在1~1.5微米,通過滾輪壓印將第二光學膜102的棱鏡104黏合于黏著劑103,使得黏著劑103和第二光學膜102的棱鏡104形成物理黏合。由于黏著劑的熱可硬化部分和光可硬化部分的重量 比值為1,將黏著劑103干燥至半固態使得在貼合過程中黏著劑103仍不易流動,因此仍可完全克服虹吸現象。此外,黏著劑103的光可硬化部分和第二光學膜102的棱鏡104可通過uv光照制程進行交聯硬化反應以形成化學黏合。因此,黏著力可改善至231克/25毫米。然而,輕微的虹吸現象出現,因此光學增益相當低,為1.64,如表1所示。

比較例1

在比較例1中的黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值為3。在第一光學膜101的下表面101b上涂布黏著劑103且加熱黏著劑103以干燥黏著劑103的溶劑,使黏著劑103的熱可硬化部分進行熱硬化反應。控制黏著劑103的厚度在1~1.5微米,通過滾輪壓印將第二光學膜102的棱鏡104黏合于黏著劑103,使得黏著劑103和第二光學膜102的棱鏡104形成物理黏合。黏著劑103的光可硬化部分和第二光學膜102的棱鏡104可通過uv光照制程進行交聯硬化反應以形成化學黏合。因此,黏著力可改善至233克/25毫米。由于黏著劑103的光可硬化部分和熱可硬化部分的重量比值僅為0.33,在干燥和熱硬化后的黏著劑103仍具有流動性,因此無法完全克服虹吸現象。因此光學增益相當低,為1.60,如表1所示。

比較例2

在比較例2中的黏著劑103材料全為光可硬化。在第一光學膜101的下表面101b上涂布黏著劑103且加熱黏著劑103以干燥黏著劑103的溶劑??刂起ぶ鴦?03的厚度在1~1.5微米,通過滾輪壓印將第二光學膜102的棱鏡104黏合于黏著劑103。黏著劑103的光可硬化材料和第二光學膜102的棱鏡104可通過uv光照制程進行交聯硬化反應以形成化學黏合。由于黏著劑103全由光可硬化材料制成,在干燥和熱硬化后的黏著劑103具有流動性,因此虹吸現象最為嚴重。因此,雖然黏著力增加至238克/25毫米,但光學增益相當低,僅約1.55,如表1所示。

在一個實施例中,上述制造方法可對應地修飾以適用于另一種光學元件,其包含:一第一光學膜,具有一第一表面;一黏著劑,配置在該第一光學膜的該第一表面上,其中該黏著劑包含一熱可硬化部分和一光可硬化部分;以及一第二光學膜,包含一熱可硬化材料,其中該第二光學膜的該熱可硬化材料黏合于該黏著劑的該熱可硬化部分,當該黏著劑的該熱可硬化部分正黏合于該第二光學膜的該熱可硬化材料時,該黏著劑的該熱可硬化部分正在硬化且該黏著劑的該光可硬化部分已經硬化。因此,在此不詳細描述。

雖然本發明以前述較佳實施例揭露如上,然其并非用以限定本發明,任何熟習相像技藝者,在不脫離本發明的精神和范圍內,當可作些許更動與潤飾。雖然在上述描述說明中并無完全揭露這些可能的更動與替代,而接著本說明書所附的權利要求實質上已經涵蓋所有這些態樣。

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