1.一種菲涅爾器件的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：
1)圖像3D建模；
2)將建模后的3D圖，按照菲涅爾的變化規(guī)律進行量化處理；
3)通過等高投影或等寬投影進行像素微結(jié)構(gòu)模擬；
4)像素化拼接；
5)通過光刻工藝將整個圖像光刻完成；
6)通過轉(zhuǎn)移工藝將模板轉(zhuǎn)移到應(yīng)用材料上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種菲涅爾器件的制作方法，其特征在于，所述步驟2)中，量化后將圖像分解為位置變量、位置變量、取向角度變量和坡度變量。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種菲涅爾器件的制作方法，其特征在于，將每一個具有取向角和坡度的像素微結(jié)構(gòu)進行像素化拼接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種菲涅爾器件的制作方法，其特征在于，所述步驟3)中，所述等高投影為微結(jié)構(gòu)在模擬后通過有傾斜角度的條紋疏密圖來表示；其中：所述微結(jié)構(gòu)的坡度用條紋疏密來表示；所述微結(jié)構(gòu)的角度為取向角，用條紋的傾斜角度來表示。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種菲涅爾器件的制作方法，其特征在于，所述步驟3)中，所述等寬投影為微結(jié)構(gòu)在模擬后通過有傾斜角度的灰度圖來表示；其中：所述微結(jié)構(gòu)的坡度用灰度來表示；所述微結(jié)構(gòu)的角度為取向角，用灰度傾斜角度來表示。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種菲涅爾器件的制作方法，其特征在于，所述步驟4)中，采用空間光調(diào)制器將像素灰度圖或像素條紋疏密圖，按序在記錄材料上光刻，并控制二位移動平臺相應(yīng)移位，直至整個圖像光刻完成。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種菲涅爾器件的制作方法，其特征在于，所述步驟5)中，經(jīng)顯影處理完成任意形狀菲涅爾器件的模板制作，再經(jīng)過后續(xù)工序，最終轉(zhuǎn)移到應(yīng)用材料上。
8.一種菲涅爾器件的制作裝置，其特征在于，包括：
空間光調(diào)制器，其用于顯示圖像數(shù)據(jù)；
光源，其發(fā)出的光照明所述空間光調(diào)制器；
精縮光學(xué)系統(tǒng)，其將所述空間光調(diào)制器上的圖像微縮到記錄材料表面，形成結(jié)構(gòu)光場，該光場與感光材料發(fā)生光化學(xué)作用；
二維移動平臺，其提供光學(xué)系統(tǒng)和記錄材料的相對移動；
控制系統(tǒng)，其用于圖像顯示、曝光、工件臺移動協(xié)調(diào)工作。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種菲涅爾器件的制作裝置，其特征在于，所述空間光調(diào)制器為透射式的LCD、反射式的DMD或反射式的LCOS。