本發(fā)明涉及一種鍍膜玻璃，具體涉及一種高紅外反射全固態(tài)電致變色玻璃及其制備方法。
背景技術(shù)：
鍍膜玻璃具有節(jié)能減排及裝飾幕墻的雙重功效，推出市場后，深受人們喜愛，Low-E玻璃也叫做低輻射鍍膜玻璃，傳統(tǒng)的LOW-E玻璃，裝上墻后可見光及紅外的透過率及反射率均固定，無法再改變，被稱之為被動節(jié)能；而目前電致變色玻璃，雖然能主動節(jié)能，但其對紅外的反射不論是著色成還是褪色態(tài)都不明顯。
技術(shù)實現(xiàn)要素：
本發(fā)明的一種高紅外反射全固態(tài)電致變色玻璃，采用主動節(jié)能與被動節(jié)能相復(fù)合，產(chǎn)品全波段透過率可調(diào)，具有高紅外反射效果。
本發(fā)明另一目的是提供一種高紅外反射全固態(tài)電致變色玻璃的制備方法。
本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的：
一種高紅外反射全固態(tài)電致變色玻璃，包括第一玻璃基板和第二玻璃基板，所述第一玻璃基板和第二玻璃基板間設(shè)有中空腔，所述第一玻璃基板包括第一基板和依次設(shè)于所述第一基板和中空腔間的第一ITO層、WO3層、LiTaO3層、NiO層、Ag層、AZO層和第二ITO層。
優(yōu)選的，所述中空腔厚度為12mm，內(nèi)充氬氣或空氣。
優(yōu)選的，所述第一ITO層膜厚120～135nm，方阻<15歐。
優(yōu)選的，所述WO3層膜厚500～600nm。
優(yōu)選的，所述LiTaO3層膜厚500～600nm。
優(yōu)選的，所述NiO層膜厚50～100nm。
優(yōu)選的，所述Ag層膜厚8～12nm。
優(yōu)選的，所述AZO層膜厚300～400nm。
優(yōu)選的，所述第一基板和第二玻璃基板均為厚度4～8mm的浮法玻璃。
一種制備高紅外反射全固態(tài)電致變色玻璃的方法，包括以下步驟：
1)、磁控濺射第一ITO層，用交流電源、Ar氣作為保護(hù)氣體，磁控濺射氧化銦錫靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，用Ar氣流量800SCCM；
2)、磁控濺射WO3層，用交流電源、Ar氣、O2氣作為保護(hù)氣體，磁控濺射鎢靶，氬氧流量比為400～425SCCM:600～630SCCM；
3)、磁控濺射LiTaO3層，用交流電源、Ar氣、O2氣作為保護(hù)氣體，磁控濺射鉭酸鋰靶，氬氧流量比為400～425SCCM:20～30SCCM；
4)、磁控濺射NiO層，用交流電源、Ar氣、O2氣作為保護(hù)氣體，磁控濺射鎢鎳靶W：Ni＝8：92(wt％)，氬氧流量比為380～400SCCM:600～625SCCM；
5)、磁控濺射Ag層，直流電源濺射，用Ar氣作為保護(hù)氣體，氣體流量500～550SCCM；
6)、制備AZO層，鋁摻雜的氧化鋅層；
7)、磁控濺射第二ITO層，用交流電源、Ar氣作為保護(hù)氣體，磁控濺射氧化銦錫靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，用Ar氣流量800SCCM；
8)、合片，由第一基板、第一ITO層、WO3層、LiTaO3層、NiO層、Ag層、AZO層和第二ITO層組成第一玻璃基板，再由第一玻璃基板和第二玻璃基板隔出出中空腔進(jìn)行合片，制備得高紅外反射全固態(tài)電致變色玻璃。
與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下優(yōu)點：
1、本發(fā)明的高紅外反射全固態(tài)電致變色玻璃，氧化銦錫膜層具有透明導(dǎo)電功能，且抗化學(xué)性能穩(wěn)定，可有效對紅外進(jìn)行反射同時，可起到保護(hù)功能膜層的作用，具有LOW-E玻璃高紅外反射的被動節(jié)能效果；
2、本發(fā)明的高紅外反射全固態(tài)電致變色玻璃，具有電致變色的主動節(jié)能效果，對紅外線反射率達(dá)到80％以上，同時設(shè)計中空腔結(jié)構(gòu)，有效降低產(chǎn)品的傳熱導(dǎo)系數(shù)，同時還可防止Ag層被氧化；
3、本發(fā)明的高紅外反射全固態(tài)電致變色玻璃，可與智能家居互聯(lián)，通過控制電路實現(xiàn)智能控制；
4、本發(fā)明的高紅外反射全固態(tài)電致變色玻璃制備方法，功能膜層依次沉積在玻璃基片上，膜層具有耐候性和耐腐蝕性能優(yōu)秀、輻射率低、表面電阻小、均勻性好、結(jié)合力強(qiáng)的優(yōu)點。
【附圖說明】
圖1是本發(fā)明結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
如附圖1所示的一種高紅外反射全固態(tài)電致變色玻璃，包括第一玻璃基板1和第二玻璃基板2，所述第一玻璃基板1和第二玻璃基板2間設(shè)有中空腔3，所述第一玻璃基板1包括第一基板11和依次設(shè)于所述第一基板11和中空腔3間的第一ITO層12、WO3層13、LiTaO3層14、NiO層15、Ag層16、AZO層17和第二ITO層18。本發(fā)明的玻璃單元由兩塊不同的玻璃基板及電解質(zhì)層復(fù)合而成，每邊的玻璃基板均由多個膜層構(gòu)成，其中第一玻璃基板上復(fù)合有第一ITO層、WO3層、LiTaO3層、NiO層、Ag層、AZO層和第二ITO層等功能膜層，第一玻璃基板和第二玻璃基板間設(shè)置中空腔，實現(xiàn)被動節(jié)能的效果同時，可有效降低產(chǎn)品的傳熱導(dǎo)系數(shù)，同時還可防止Ag層被氧化。
所述中空腔3厚度為12mm，內(nèi)充氬氣或空氣。在合片加工時，中空腔厚度優(yōu)選為12mm，且內(nèi)充氬氣或空氣，封閉的中空腔為負(fù)壓狀態(tài)，可進(jìn)一步降低產(chǎn)品的傳熱導(dǎo)系數(shù)，防止Ag層被氧化。
所述第一ITO層膜厚120～135nm，方阻<15歐。交流電源磁控濺射氧化銦錫靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，制備第一ITO層膜，用Ar氣作為濺射氣體，氣體流量800SCCM，膜厚120～135nm，優(yōu)選為125nm，1m＝109nm。
所述WO3層膜厚500～600nm。交流電源磁控濺射鎢靶，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量控制在400～425SCCM:600～630SCCM，膜厚500-600nm，優(yōu)選為550nm。
所述LiTaO3層14膜厚500～600nm。采用交流電源磁控濺射鉭酸鋰靶，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量控制在400～425SCCM:20～30SCCM，膜厚500-600nm，優(yōu)選為550nm。
所述NiO層膜厚50～100nm。采用交流電源磁控濺射鎢鎳靶W：Ni＝8:92，用Ar氣、O2作為濺射氣體，氣體流量控制在380～400SCCM:600～625SCCM，膜厚50-100nm，優(yōu)選為60nm。
所述Ag層膜厚8～12nm。直流電源濺射，用Ar作為濺射氣體氣體流量500～550SCCM，膜厚8～12nm，優(yōu)選為12nm。
所述AZO層膜厚300～400nm。采用鋁摻雜的氧化鋅層，作為保護(hù)層，可進(jìn)一步降低輻射率，優(yōu)選為300nm。
所述第一基板11和第二基板12均為厚度4～8mm的浮法玻璃。優(yōu)選的第一基板和第二基板均選擇6mm的浮法玻璃。
一種制備高紅外反射全固態(tài)電致變色玻璃的方法，包括以下步驟：
1、磁控濺射第一ITO層12，用交流電源、Ar氣作為保護(hù)氣體，磁控濺射氧化銦錫靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，用Ar氣流量800SCCM；
2、磁控濺射WO3層13，用交流電源、Ar氣、O2氣作為保護(hù)氣體，磁控濺射鎢靶，氬氧流量比為400～425SCCM:600～630SCCM；
3、磁控濺射LiTaO3層14，用交流電源、Ar氣、O2氣作為保護(hù)氣體，磁控濺射鉭酸鋰靶，氬氧流量比為400～425SCCM:20～30SCCM；
4、磁控濺射NiO層15，用交流電源、Ar氣、O2氣作為保護(hù)氣體，磁控濺射鎢鎳靶W：Ni＝8：92(wt％)，氬氧流量比為380～400SCCM:600～625SCCM；
5、磁控濺射Ag層16，直流電源濺射，用Ar氣作為保護(hù)氣體，氣體流量500～550SCCM；
6、制備AZO層17，鋁摻雜的氧化鋅層；
7、磁控濺射第二ITO層18，用交流電源、Ar氣作為保護(hù)氣體，磁控濺射氧化銦錫靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，用Ar氣流量800SCCM；
8、合片，由第一基板11、第一ITO層12、WO3層13、LiTaO3層14、NiO層15、Ag層16、AZO層17和第二ITO層18組成第一玻璃基板1，再由第一玻璃基板1和第二玻璃基板2隔出出中空腔3進(jìn)行合片，制備得高紅外反射全固態(tài)電致變色玻璃。功能膜層依次沉積在第一玻璃基板上，膜層具有耐候性和耐腐蝕性能優(yōu)秀、輻射率低、表面電阻小、均勻性好、結(jié)合力強(qiáng)的優(yōu)點，增加中空腔有效降低產(chǎn)品的傳熱導(dǎo)系數(shù)，同時還可防止Ag層被氧化。