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一種新型中性衰減濾光片制備方法與流程

文檔序號:12120523閱讀:464來源:國知局
一種新型中性衰減濾光片制備方法與流程

本發明涉及光學薄膜技術領域,具體涉及一種新型中性衰減濾光片制備方法。



背景技術:

中性衰減濾光片也叫中性密度鏡,其作用是在保證光譜中性的前提下衰減光線。這種濾光片對光的衰減作用是非選擇性的,也就是說,衰減濾光片對各種不同波長的光線的衰減能力是相同的、均勻的,只對所有的光線起到衰減的作用,而對光譜的成分不會產生任何影響,因此可以真實再現景物的反差。

使用中性衰減濾光片的主要目的是為了減少光線的透過率。在攝影中如果光線太亮就很難選擇較慢的快門速度拍攝,這時使用中性衰減濾光片可以減少進入鏡頭的光線,就可以較慢的快門下拍攝照片了。例如,拍攝強光環境下的風景照,又或者在正常光線下使用延時拍攝照片,或者慢速快門拍攝河流、瀑布等流體以表現出虛化的水流等特殊效果,都需要中性衰減濾光片。

目前中性衰減濾光片的制備都是采用石英晶體膜厚控制儀來控制膜層厚度,鍍制單層金屬鎳鉻合金或者鎳鉻鐵合金。如圖1所示,這種制備工藝在生產透過率達到0.01%的深截止中性衰減濾光片的時候,鍍制出來的濾光片存在截止深度無法準確控制、光譜曲線傾斜存在嚴重的偏色等問題。



技術實現要素:

針對現有技術中存在的問題,本發明的目的在于提供一種HUD用新型分光薄膜,其有效解決了現有技術中截止深度無法準確控制、光譜曲線傾斜存在嚴重的偏色等問題。

為實現上述目的,本發明采用以下技術方案:

一種新型中性衰減濾光片制備方法,所述制備方法為:首先,在玻璃基板上鍍制金屬鉻,直至當波長為550nm的光的透過率達到1%以后,停止鍍鉻;然后再鍍制的金屬Ni,當波長為450nm和650nm的光的光譜透過率相同,并且波長為550nm的光的光譜透過率為0.1%以后,停止鍍Ni;最后鍍制金屬NiCr,當波長為550nm的光的光譜透過率達到0.01%以后,停止鍍膜。

本發明具有以下有益技術效果:

通過本申請的方法制備的中性衰減濾光片在400-1000nm范圍內光譜曲線的偏差小于0.01%;其光譜數值準確,實際生產得到的數據和理論設計數據偏差小于0.01%。

附圖說明

圖1為傳統的中性衰減濾光片的光譜曲線;

圖2為本申請的中性衰減濾光片的光譜曲線。

具體實施方式

下面,參考附圖,對本發明進行更全面的說明,附圖中示出了本發明的示例性實施例。然而,本發明可以體現為多種不同形式,并不應理解為局限于這里敘述的示例性實施例。而是,提供這些實施例,從而使本發明全面和完整,并將本發明的范圍完全地傳達給本領域的普通技術人員。

如圖2所示,本發明提供了一種新型中性衰減濾光片制備方法,該制備方法為:首先,在玻璃基板上鍍制金屬鉻,直至當波長為550nm的光的透過率達到1%以后,停止鍍鉻;然后再鍍制的金屬Ni,當波長為450nm和650nm的光的光譜透過率相同,并且波長為550nm的光的光譜透過率為0.1%以后,停止鍍Ni;最后鍍制金屬NiCr,當波長為550nm的光的光譜透過率達到0.01%以后,停止鍍膜。

本發明制備的深截止中性衰減濾光片的結構如下:

Glass|1%Cr 0.1%Ni 0.01%NiCr|Air

其中1%,0.1%,0.01%分別為Cr、Ni、NiCr鍍層的透過率。

本申請的中性衰減濾光片制備過程中,采用北京同生科技有限公司開發的Filmonitor BS2030寬光譜監控系統實時監測鍍膜過程中的光譜曲線。

上面所述只是為了說明本發明,應該理解為本申請并不局限于以上實施例,符合本發明思想的各種變通形式均在本發明的保護范圍之內。

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