1.一種紅外截止濾光片，其特征在于，包括由白玻璃(101)和鍍制在所述白玻璃(101)的一個面上的紅外截止膜層(102)所組成的基板(1)，鍍制在所述白玻璃(101)的另一個面上的旋涂層(2)和鍍制在所述旋涂層(2)上的減反射膜層(3)；
所述旋涂層(2)包括均由有機物構成的底層(201)和吸收層(202)。
2.根據權利要求1所述的紅外截止濾光片，其特征在于，所述紅外截止膜層(102)和所述減反射膜層(3)均是由高折射率材料層和低折射率材料層交替沉積鍍制而成。
3.根據權利要求2所述的紅外截止濾光片，其特征在于，所述高折射率材料層可由TiO2、Ti3O5、Ta2O5、H4中的一種構成或者幾種組成。
4.根據權利要求2或3所述的紅外截止濾光片，其特征在于，所述低折射率材料層可由SiO2、MgF2中的一種構成或者兩種組成。
5.根據權利要求4所述的紅外截止濾光片，其特征在于，所述紅外截止膜層(102)的鍍制層數為43-50層。
6.根據權利要求5所述的紅外截止濾光片，其特征在于，所述紅外截止膜層(102)的鍍制厚度為5μm-7μm。
7.根據權利要求4所述的紅外截止濾光片，其特征在于，所述減反射膜層(3)的鍍制層數為8-10層。
8.根據權利要求7所述的紅外截止濾光片，其特征在于，所述減反射膜層(3)的鍍制厚度為0.4μm-0.7μm。
9.制備如權利要求1-8之一所述的紅外截止濾光片的方法，其特征在于，包括以下步驟：
(a)采用超聲波清洗工藝清洗白玻璃(101)；
(b)在白玻璃(101)的一個面上鍍制紅外截止膜層(102)；
(c)采用等離子清洗工藝清洗基板(1)；
(d)采用超聲波清洗工藝清洗基板(1)；
(e)在基板(1)的未鍍制紅外截止膜層(102)的一面上鍍制旋涂層(2)；
(f)在旋涂層(2)上蒸鍍減反射膜層(3)。
10.根據權利要求9所述的制備紅外截止濾光片的方法，其特征在于，所述(b)步驟中，采用電子槍蒸發、離子源輔助的真空鍍膜方法沉積鍍制紅外截止膜層(102)。
11.根據權利要求9所述的制備紅外截止濾光片的方法，其特征在于，所述(c)步驟中，等離子清洗工藝的功率為300-450W，作用時間為100-600s。
12.根據權利要求9所述的制備紅外截止濾光片的方法，其特征在于，所述(e)步驟包括以下步驟：
(e1)在基板(1)的未鍍制紅外截止膜層(102)的一面上滴入少許結合劑，高速旋轉，利用離心力將結合劑均勻地涂布在基板的表面上，同時將多余結合劑甩出，從而形成底層(201)；
(e2)烘烤涂布好底層(201)的基板(1)；
(e3)在底層(201)上滴入紅外吸收膠水，低速旋轉，利用離心力將紅外吸收膠水均勻地涂布底層(201)之上，同時將多余的紅外吸收膠水甩出，從而形成吸收層(202)；
(e4)烘烤涂布好吸收層(202)的基板(1)；
(e5)采用超聲波清洗工藝清洗烘烤后的基板(1)。
13.根據權利要求12所述的制備紅外截止濾光片的方法，其特征在于，所述(e1)步驟中，旋轉速度為3000-5500rpm。
14.根據權利要求12所述的制備紅外截止濾光片的方法，其特征在于，所述(e2)步驟中，采用無塵烘箱烘烤，烘烤溫度為80-200℃，烘烤時為2-10min。
15.根據權利要求12所述的制備紅外截止濾光片的方法，其特征在于，所述(e3)步驟中，旋轉速度為200-1000rpm，旋轉時間為8-15s。
16.根據權利要求12所述的制備紅外截止濾光片的方法，其特征在于，所述(e4)步驟中，采用無塵烘箱烘烤，烘烤溫度為80-200℃，烘烤時間為60-120min。