本發明屬于半導體加工技術領域，具體地講，涉及一種曝光設備。

背景技術：

液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)由于具有畫面穩定、圖像逼真、消除輻射、節省空間以及節省能耗等優點，現已占據了平面顯示領域的主導地位。TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶體管液晶顯示器)是目前主流的液晶顯示器，而薄膜晶體管陣列基板(TFT-Thin Film Transistor)以及彩膜基板是其顯示面板的主要構成部件。陣列基板以及彩膜基板的制備效率往往關系著整個顯示裝置的生產節拍。

在陣列基板以及彩膜基板的制備過程中，光刻工藝是非常重要的。目前的光刻工藝通常包括：涂敷光刻膠、前烘、曝光、顯影以及后烘。其中，涂敷光刻膠是在前工序成膜后的基板上涂敷光刻膠；前烘是預熱光刻膠，以及去除光刻膠的水分，增加光刻膠與基板之間的附著力；曝光是采用曝光光線通過掩膜板(或稱光罩)照射在光刻膠上，將光刻膠感光；顯影是通過顯影液將感光部分的光刻膠去除掉，從而形成所需要的圖案；后烘是將圖案中未感光的光刻膠固化，同時增加與基板之間的附著力。

現有技術中的曝光設備主要包括用于提供平行曝光光線的光源、掩膜板以及曝光機臺等。在曝光過程中，涂覆有光刻膠的基板放置在曝光機臺上，光源提供的平行曝光光線經過掩膜板后垂直照射在基板上，使其形成與掩膜板一致的圖案。但是在現有的曝光設備中，在一個生產節拍周期內只能使用一塊掩膜板對一塊基板進行曝光；同時，光源提供的曝光光線僅僅只有很少的一部分被利用，其他大部分光線都是沒有得到充分利用而損失掉。因此，現有技術中的曝光設備不但曝光效率低下，而且造成了能源的浪費。

技術實現要素：

為了解決上述現有技術存在的問題，本發明的目的在于提供一種在提高曝光效率的同時，還能避免能源浪費的曝光設備。

根據本發明的一方面，提供了一種曝光設備，其包括：多個平面曝光光罩和一個光源，所述光源與所述平面曝光光罩的平面中心的連線垂直于所述平面曝光光罩所在平面，且所述光源到各個平面曝光光罩的平面中心的距離相等。

進一步地，所述多個平面曝光光罩彼此對應相連接，以合圍形成一容置空間，所述光源設置于所述容置空間內。

進一步地，所述多個平面曝光光罩為至少一種多邊形平面曝光光罩。

進一步地，所述多邊形平面曝光光罩的形狀為正多邊形。

進一步地，所述多個平面曝光光罩被制作成具有磁性，使所述多個平面曝光光罩在連接時通過磁性相互吸合。

進一步地，彼此連接的兩個平面曝光光罩之間通過結合件相連，所述結合件為卡榫結構、粘扣帶結構或磁性體。

進一步地，所述曝光設備的外觀形狀選自正四面體、正六面體、正八面體、正十二面體、正二十面體及巴克球體中的一種。

進一步地，所述光源為球面光源，且所述光源提供給各個平面曝光光罩的光量相同。

本發明的有益效果：本發明的曝光設備能夠在一個生產節拍周期內使用多塊平面曝光光罩對多塊基板進行曝光，同時能夠全部利用光源提供的曝光光線，從而可以提高曝光效率，同時避免能源的浪費。

附圖說明

通過結合附圖進行的以下描述，本發明的實施例的上述和其它方面、特點和優點將變得更加清楚，附圖中：

圖1是根據本發明的實施例的曝光設備的立體示意圖；

圖2是根據本發明的實施例的曝光設備的立體分解示意圖；

圖3是根據本發明的另一實施例的曝光設備的立體示意圖。

具體實施方式

以下，將參照附圖來詳細描述本發明的實施例。然而，可以以許多不同的形式來實施本發明，并且本發明不應該被解釋為限制于這里闡述的具體實施例。相反，提供這些實施例是為了解釋本發明的原理及其實際應用，從而使本領域的其他技術人員能夠理解本發明的各種實施例和適合于特定預期應用的各種修改。在附圖中，為了清楚器件，夸大了層和區域的厚度。

為了在一個生產節拍周期內使用多塊掩膜板(或稱曝光光罩)對多塊基板進行曝光；同時，能夠全部利用光源提供的曝光光線，本發明提供了一種曝光設備，該曝光設備包括：多個平面曝光光罩和一個光源，所述光源與所述平面曝光光罩的平面中心的連線垂直于所述平面曝光光罩所在平面，且所述光源到各個平面曝光光罩的平面中心的距離相等。以下將對上述的本發明提供的曝光設備進行詳細說明。

圖1是根據本發明的實施例的曝光設備的立體示意圖。

參照圖1，根據本發明的實施例的曝光設備1包括：平面曝光光罩100和光源200。在本實施例中，優選地，曝光設備1的外觀形狀為正六面體。在此基礎上，平面曝光光罩100的形狀為正方形，并且平面曝光光罩100的數量為六個。

此外，進一步限定地，在本實施例中，光源200的數量為一個。光源200與所述平面曝光光罩100的平面中心的連線垂直于所述平面曝光光罩100所在平面，并且光源200到各個平面曝光光罩100的平面中心的距離相等。這樣，在利用這六個平面曝光光罩100分別對各自對應的基板進行曝光時，可使光源200輻射到每個基板上的光量相同。

優選地，光源200為球面光源，且光源200提供給各個平面曝光光罩100的光量相同。

繼續參照圖1，在本實施例中，六個平面曝光光罩100彼此對應相連接，以合圍形成一容置空間，光源200設置于該容置空間內。當然，作為本發明的另一實施方式，六個平面曝光光罩100可以彼此不連接；當這六個平面曝光光罩100不連接時，可各自被固定，且六個平面曝光光罩100彼此不連接而合圍形成一正方體，光源200被設置于合圍形成的正方體內。

圖2是根據本發明的實施例的曝光設備的立體分解示意圖。

參照圖1和圖2，彼此連接的兩個平面曝光光罩100之間通過結合件110彼此相連接，其中該結合件110設置于每個平面曝光光罩100的側面。

在本實施例中，該結合件110的結構為卡榫結構，即一公卡榫及一母卡榫的組合，通過使用該卡榫結構，使六個平面曝光光罩100相互組合成如圖1所示的多面體曝光設備1。作為本發明的其他實施方式，該結合件110可以選用粘扣帶結構，或者使用具有磁性材料的結構，以將六個平面曝光光罩100相互組合成如圖1所示的多面體曝光設備1。

此外，在本發明的其他實施方式中，可以在制作各個平面曝光光罩100時，可以摻入磁性材料來制作各個平面曝光光罩100，這樣在組合各個平面曝光光罩100時，彼此連接的兩個平面曝光光罩100之間無需再設置結合件110，可以利用平面曝光光罩100本身具有的磁性，使六個平面曝光光罩100相互組合成如圖1所示的多面體曝光設備1。

此外，以上描述了外觀形狀為正方體的多面體曝光設備1，但本發明并不限制于此，例如多面體曝光設備1的外觀形狀還可以是正四面體、正八面體、正十二面體、正二十面體或者其他合適的正多面體形狀，對應地，每個平面曝光光罩100的形狀可以是正三角形或正五邊形等。

另外，在上述實施例的多面體曝光設備1中，每個平面曝光光罩100的形狀都相同，但本發明并不限制于此，例如可以由具有不同形狀的多個平面曝光光罩100構成多面體曝光設備1，具體在下面描述。

圖3是根據本發明的另一實施例的曝光設備的立體示意圖。

參照圖3，例如，可以選擇二十個正六邊形的平面曝光光罩100A和十二個正五邊形的平面曝光光罩100B相互組合成一正三十二面體的巴克球體(Bucky Ball)，而光源(未示出)設置于外觀形狀呈巴克球體的曝光設備1A中。多個平面曝光光罩100A和多個平面曝光光罩100B彼此之間的連接方式可以參照上面的描述，在此不再贅述。

當然，除了利用正六邊形的平面曝光光罩和正五邊形的平面曝光光罩組合成外觀形狀呈巴克球體的曝光設備之外，還可以采用正三角形的平面曝光光罩和正四邊形的平面曝光光罩組合成另外一個多面體曝光設備(未示出)。

綜上所述，根據本發明的各實施例的曝光設備，能夠在一個生產節拍周期內使用多塊平面曝光光罩對多塊基板進行曝光，同時能夠全部利用光源提供的曝光光線，從而可以提高曝光效率，同時避免能源的浪費。

雖然已經參照特定實施例示出并描述了本發明，但是本領域的技術人員將理解：在不脫離由權利要求及其等同物限定的本發明的精神和范圍的情況下，可在此進行形式和細節上的各種變化。