技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
襯底處理裝置(EX)包括：投影光學(xué)系統(tǒng)(PL)，使從照明區(qū)域(IR)產(chǎn)生的反射光束(L2)向襯底投射，從而在襯底形成光罩圖案的像；光分離部(10)，使朝向照明區(qū)域的照明光和從照明區(qū)域產(chǎn)生的成像光束中的一方通過而使另一方反射；和照明光學(xué)系統(tǒng)(IL)，形成一次光源像，并將來自一次光源像的照明光照射于照明區(qū)域，并且在中心線與圓筒面之間形成與一次光源像光學(xué)共軛的第1共軛面。

技術(shù)研發(fā)人員：熊澤雅人
受保護(hù)的技術(shù)使用者：株式會社尼康
技術(shù)研發(fā)日：2013.03.26
技術(shù)公布日：2017.10.03