本發明涉及一種將襯底夾持至夾持系統的方法、一種用于光刻設備中并配置成在襯底支撐件上支撐襯底的襯底保持器、以及一種襯底支撐件。

背景技術：

1、光刻設備是一種構造為將所期望的圖案施加到襯底上的機器。光刻設備能夠例如用于集成電路（ic）的制造中。光刻設備可例如將圖案形成裝置（例如，掩模）的圖案（也經常稱為“設計布局”或“設計”）投影到設置在襯底（例如，晶片）上的輻射敏感材料（抗蝕劑）層上。

2、隨著半導體制造過程不斷進步，幾十年來，電路元件的尺寸已經不斷地減小，同時每一個器件的功能元件（諸如晶體管）的量已經在穩定地增加，這遵循著通常稱為“摩爾定律”的趨勢。為了跟上摩爾定律，半導體行業正在追尋能夠創建越來越小的特征的技術。為了將圖案投影到襯底上，光刻設備可以使用電磁輻射。這種輻射的波長決定了在襯底上圖案化的特征的最小尺寸。當前使用的典型的波長是365nm（i線）、248nm、193nm和13.5nm。使用極紫外（euv）輻射（其波長在4nm至20nm的范圍內，例如6.7nm或13.5nm）的光刻設備可用于在襯底上形成比使用例如波長為193nm的輻射的光刻設備更小的特征。

3、在光刻設備中，襯底被保持在襯底保持器上。期望的是，襯底盡可能地平坦以最小化由于與完美平坦度的任何偏差而可能帶來的成像誤差。一個困難之處在于，當襯底最初被放置到襯底保持器上時，襯底可能是不平坦的。一旦處于襯底保持器上，襯底中便具有平面內應力，并且支撐襯底的襯底保持器的突節彈性變形。襯底中的這些平面內剪切應力導致襯底中的平面內變形，所述變形自身導致重疊誤差。

技術實現思路

1、本發明的目的是提供一種方法、一種襯底保持器和一種包括襯底保持器的襯底支撐件，其中采取措施以促進放置于該襯底保持器上的襯底松弛。

2、在本發明的實施例中，提供了一種將襯底夾持至夾持系統的方法，所述方法包括以下步驟：提供襯底保持器，所述襯底保持器包括：主體，具有第一主體表面和第二主體表面，其中所述第一主體表面和第二主體表面在所述主體的相反側上；和多個第一突節，從所述第一主體表面突出，其中每個第一突節具有配置成支撐所述襯底的遠端表面；提供用于支撐所述襯底保持器的支撐表面；提供多個第二突節，所述多個第二突節用于通過所述支撐表面與多個第二突節的遠端表面接觸而將所述襯底保持器支撐在所述支撐表面上；生成第一力以將所述襯底保持器吸引至所述支撐表面；將所述襯底放置在所述襯底保持器上，以使得所述襯底接觸所述多個第一突節；生成第二力以將所述襯底吸引至所述襯底保持器；和在釋放步驟中控制所述第一力和第二力中的至少一個，以使得所述主體在第二突節之間變形，從而在第一子集的多個第一突節的遠端表面和襯底之間產生間隙，并使得所述襯底被支撐在第二子集的所述多個第一突節的遠端表面上。

3、在本發明的實施例中，提供了一種襯底保持器，用于光刻設備并配置成將襯底支撐在襯底支撐件上，所述襯底保持器包括：主體，具有第一主體表面和第二主體表面，其中所述第一主體表面和第二主體表面在所述主體的相反側上；多個第一突節，從所述第一主體表面突出，其中每個第一突節具有配置成支撐所述襯底的遠端表面；和多個第二突節，從所述第二主體表面突出，其中每個第二突節具有用于將所述襯底保持器支撐在所述襯底支撐件上的遠端表面，其中第一子集的所述多個第一突節的遠端表面距離所述第一主體表面第一距離，第二子集的所述多個第一突節的遠端表面距離所述第一主體表面第二距離，所述第一距離大于所述第二距離。

4、在本發明的實施例中，提供了一種襯底支撐件，包括：襯底保持器，包括：主體，具有第一主體表面和第二主體表面，其中所述第一主體表面和第二主體表面在所述主體的相反側上；和多個第一突節，從所述第一主體表面突出，其中每個第一突節具有配置成支撐所述襯底的遠端表面；和支撐表面，用于通過接觸從所述支撐表面突出的多個第二突節的遠端表面接觸支撐所述襯底保持器；其中第一子集的所述多個第一突節的遠端表面距離所述第一主體表面第一距離，第二子集的所述多個第一突節的遠端表面距離所述第一主體表面第二距離，所述第一距離大于所述第二距離。

5、在本發明的實施例中，提供了一種襯底保持器，用于光刻設備并配置成將襯底支撐在襯底支撐件上，所述襯底保持器包括：主體，具有第一主體表面和第二主體表面，其中所述第一主體表面和第二主體表面在所述主體的相反側上；多個第一突節，從所述第一主體表面突出，其中每個第一突節具有配置成支撐所述襯底的遠端表面；多個電極，可以向所述電極施加電壓以便將所述襯底保持器固定至所述襯底支撐件；其中所述多個電極配置成使得：依賴于所施加的電壓，在第一子集的所述多個第一突節下方的襯底保持器的主體的多個部分和所述襯底支撐件之間的力能夠獨立于在第二子集的所述多個第一突節下方的襯底保持器的主體的多個部分和所述襯底支撐件之間的力進行控制。

技術特征：

1.一種襯底保持器，用于光刻設備并配置成將襯底支撐在襯底支撐件上，所述襯底保持器包括：

2.一種襯底保持器，用于光刻設備并配置成將襯底支撐在襯底支撐件上，所述襯底保持器包括：

3.一種襯底保持器，用于光刻設備并配置成將襯底支撐在襯底支撐件上，所述襯底保持器包括：

4.一種襯底保持器，用于光刻設備并配置成將襯底支撐在襯底支撐件上，所述襯底保持器包括：

5.一種襯底保持器，用于光刻設備并配置成將襯底支撐在襯底支撐件上，所述襯底保持器包括：

6.一種襯底保持器，用于光刻設備并配置成將襯底支撐在襯底支撐件上，所述襯底保持器包括：

7.一種襯底保持器，用于光刻設備并配置成將襯底支撐在襯底支撐件上，所述襯底保持器包括：

8.一種襯底保持器，用于光刻設備并配置成將襯底支撐在襯底支撐件上，所述襯底保持器包括：

9.一種夾持系統，所述夾持系統用于夾持襯底，包括：

10.一種光刻設備，所述光刻設備包括夾持系統，所述夾持系統包括根據權利要求1-8中任一項所述的襯底保持器，所述襯底保持器被配置為保持襯底。

技術總結
一種襯底保持器用于光刻設備中并配置成將襯底支撐在襯底支撐件上。所述襯底保持器包括：主體，具有第一主體表面和第二主體表面，其中所述第一主體表面和第二主體表面在所述主體的相反側上；多個第一突節，從所述第一主體表面突出，其中每個第一突節具有配置成支撐所述襯底的遠端表面；和多個第二突節，從所述第二主體表面突出，其中每個第二突節具有用于將所述襯底保持器支撐在所述襯底支撐件上的遠端表面，其中第一子集的所述多個第一突節的遠端表面距離所述第一主體表面第一距離，第二子集的所述多個第一突節的遠端表面距離所述第一主體表面第二距離，所述第一距離大于所述第二距離。

技術研發人員：A·A·索圖特,T·波耶茲
受保護的技術使用者：ASML荷蘭有限公司
技術研發日：
技術公布日：2025/3/10