光學膜及其制造方法
【專利摘要】本發明的課題在于提供一種表面硬度高、耐擦傷性優異、霧度低的光學膜。另外,本發明的課題在于提供其制造方法。本發明的光學膜的特征在于,是在含有環烯烴系樹脂的樹脂層上具有硬涂層的光學膜,上述樹脂層在相對于上述環烯烴系樹脂為0.1~5.0質量%的范圍內含有重均分子量Mw在100~10000的范圍內的低分子量化合物,并且上述硬涂層含有紫外線固化樹脂和二氧化硅粒子。
【專利說明】
光學膜及其制造方法
技術領域
[0001 ]本發明涉及表面硬度高、耐擦傷性優異、霧度低的光學膜及其制造方法。
【背景技術】
[0002] 近年來,對顯示裝置強烈要求大型化、薄膜化、撓性化等,包含偏振片的各部件的 高功能化不斷發展。
[0003] 組合于搭載有機電致發光元件(以下,也稱為有機EL元件)的圖像顯示裝置的偏振 片,一般具有在2個保護膜間配置有起偏器的構成,為了對偏振片附加防反射功能,有機EL 元件側使用賦予了相位差的保護膜。另外,液晶顯示裝置(LCD)具有液晶單元和夾持該液晶 單元的一對偏振片。對于這些顯示裝置中使用的偏振片中的特別是視覺辨認側的偏振片, 為了防止表面帶傷,要求具有高耐擦傷性。
[0004] 作為基材膜,以往一直廣泛使用乙酸纖維素膜。但是,該膜具有具備吸濕性、透濕 性的缺點。環烯烴系樹脂由于該缺點少,耐水性、耐熱性、透明性、尺寸穩定性等良好,因此 作為用于保護膜的優異的熱塑性樹脂受到關注。然而,使用環烯烴系樹脂作為光學膜時,存 在表面硬度不充分而容易帶傷的問題。
[0005] 作為其對策,正在研究提高視覺辨認側的偏振片所使用的光學膜的表面硬度。作 為為了提高光學膜的表面硬度而在基材膜上層疊硬涂層的技術,例如,專利文獻1中公開了 通過使環烯烴膜上的硬涂層含有微粒來提高抗粘連性、耐擦傷性的技術。另外,專利文獻2 中公開了在涂布硬涂層前經由與滿足特定的條件的溶劑接觸的工序而制造環烯烴系高分 子膜的制造方法。
[0006] 然而,這些技術在通過提高在由環烯烴系樹脂構成的基材上設置有硬涂層的光學 膜的表面硬度而改善耐擦傷性方面都不充分。
[0007] 現有技術文獻
[0008] 專利文獻
[0009] 專利文獻1:日本特開2013 -186236號公報
[0010] 專利文獻2:日本特開2014 - 70211號公報
【發明內容】
[0011] 本發明是鑒于上述問題·狀況而進行的,其所要解決的課題在于提供表面硬度 高、耐擦傷性優異、霧度低的光學膜。另外,本發明的課題在于提供其制造方法。
[0012] 本發明人為了解決上述課題,在對上述問題的原因等進行研究的過程中,通過發 現使硬涂層含有紫外線固化樹脂和二氧化硅粒子,并且,使基材膜的環烯烴系樹脂含有特 定量的低分子化合物,能夠提高光學膜的表面硬度而大幅提高耐擦傷性,從而完成了本發 明。
[0013] g卩,本發明的上述課題通過以下的手段解決。
[0014] 1.-種光學膜,其特征在于,是在含有環烯烴系樹脂的樹脂層上具有硬涂層的光 學膜,上述樹脂層在相對于上述環烯烴系樹脂為0.1~5.0質量%的范圍內含有重均分子量 Mw在100~10000的范圍內的低分子量化合物,并且上述硬涂層含有紫外線固化樹脂和二氧 化娃粒子。
[0015] 2.根據第1項所述的光學膜,其特征在于,上述樹脂層中含有的上述低分子量化合 物為紫外線吸收劑。
[0016] 3.根據第1項所述的光學膜,其特征在于,上述硬涂層中含有的上述二氧化硅粒子 相對于上述紫外線固化樹脂的質量比的值(二氧化硅粒子/紫外線固化樹脂)在10/90~50/ 50的范圍內。
[0017] 4.根據第1項所述的光學膜,其特征在于,上述二氧化硅粒子的平均一次粒徑為 200nm以下。
[0018] 5.根據第1項所述的光學膜,其特征在于,上述硬涂層的厚度在2~15μπι的范圍內。
[0019] 6.根據第1項~第5項中任一項所述的光學膜,其特征在于,在23°C · 55%RH的環 境下,光波長550nm的面內方向的延遲值(R〇(550))滿足下述式(1)。
[0020] 式(l):l〇〇nm 彡 R〇(550)彡 170nm
[0021] 7. -種光學膜的制造方法,其特征在于,是制造在含有環烯烴系樹脂的樹脂層上 具有硬涂層的光學膜的制造方法,上述樹脂層在相對于上述環烯烴系樹脂為0.1~5.0質 量%的范圍內含有重均分子量Mw在100~10000的范圍內的低分子量化合物,上述硬涂層含 有紫外線固化樹脂和二氧化硅粒子,并且,經由將涂布液進行涂布的工序而形成硬涂層,上 述涂布液是使用醇、酯、醚或者酮中的至少2種溶劑作為含有上述紫外線固化樹脂和上述二 氧化硅粒子的涂布液的溶劑而制備的涂布液。
[0022] 8. -種光學膜的制造方法,其特征在于,是制造在含有環烯烴系樹脂的樹脂層上 具有硬涂層的光學膜的制造方法,上述樹脂層在相對于上述環烯烴系樹脂為0.1~5.0質 量%的范圍內含有重均分子量Mw在100~10000的范圍內的低分子量化合物,上述硬涂層含 有紫外線固化樹脂和二氧化硅粒子,并且,經由將溶解有含有上述環烯烴系樹脂的樹脂的 溶液流延在基體上的工序來制膜,形成上述樹脂層。
[0023] 9.根據第8項所述的光學膜的制造方法,其特征在于,在上述制膜后經由將卷繞的 膜料卷(原反)開卷并在傾斜方向拉伸的工序而形成上述樹脂層。
[0024] 利用本發明的上述方式,能夠提供表面硬度高、耐擦傷性優異、霧度低的光學膜。 另外,能夠提供其制造方法。
[0025]雖然本發明的效果的表現機理和作用機理尚不明確,但推測如下。
[0026]通過使基材膜的環烯烴系樹脂含有特定量的低分子化合物而能夠大幅增加表面 硬度,考慮是因為通過在環烯烴系樹脂中添加低分子量化合物,從而使該添加劑能夠相容 性良好地填上環烯烴系樹脂的自由體積,樹脂層的密度增加。并且,推斷通過使硬涂層含有 紫外線固化樹脂和二氧化硅粒子,能夠實現表面硬度高、耐擦傷性優異的光學膜。
【附圖說明】
[0027]圖1是光學膜的構成的一個例子
[0028]圖2A是能夠傾斜拉伸的拉幅機的一個例子
[0029]圖2B是能夠傾斜拉伸的拉幅機的另一個例子
[0030] 圖3是液晶顯示裝置的構成的一個例子
[0031] 符號說明
[0032] 1 光學膜
[0033] 2 樹脂層
[0034] 3 硬涂層
[0035] 4 膜料卷
[0036] 5 拉伸膜
[0037] 6 傾斜拉伸拉幅機
[0038] 7-1 外側的膜把持機構的軌跡
[0039] 7-2 內側的膜把持機構的軌跡
[0040] 8-1 外側的膜把持開始點
[0041] 8-2 內側的膜把持開始點
[0042] 9-1 外側的膜把持結束點
[0043] 9-2 內側的膜把持結束點
[0044] 10 - 1外側傾斜拉伸開始點
[0045] 10-2內側傾斜拉伸開始點
[0046] 11 - 1外側傾斜拉伸結束點
[0047] 11-2內側傾斜拉伸結束點
[0048] 11 一3外側橫拉伸區域終點
[0049] 12 - 1拉幅機入口側的導輥
[0050] 12 - 2拉幅機出口側的導輥
[00511 13 膜的拉伸方向
[0052] 14 一 1傾斜拉伸前的膜的搬運方向
[0053] 14 一 2傾斜拉伸后的膜的搬運方向
[0054] 15 左右把持具彼此的搬運速度不同的部分
[0055] W0 傾斜拉伸前的膜寬度方向長度
[0056] W 傾斜拉伸后的膜寬度方向長度
[0057] 30 液晶單元
[0058] 50 第一偏振片
[0059] 51 第一起偏器
[0060] 53 光學膜(F1)
[0061 ] 55 光學膜(F2)
[0062] 70 第二偏振片
[0063] 71 第二起偏器
[0064] 73 光學膜(F3)
[0065] 75 光學膜(F4)
[0066] 90 背光燈
[0067] 100 液晶顯示裝置
【具體實施方式】
[0068] 本發明的光學膜的特征在于,是在含有環烯烴系樹脂的樹脂層上具有硬涂層的光 學膜,上述樹脂層在相對于上述環烯烴系樹脂為0.1~5.0質量%的范圍內含有重均分子量 Mw在100~10000的范圍內的低分子量化合物,并且上述硬涂層含有紫外線固化樹脂和二氧 化硅粒子。該特征是權利要求1~權利要求9的權利要求涉及的發明所共有的技術特征。
[0069] 作為本發明的實施方式,從本發明的效果體現的觀點考慮,上述樹脂層中含有的 上述低分子量化合物優選為紫外線吸收劑。另外,從兼得高的表面硬度和低的霧度方面考 慮,優選硬涂層中含有的上述二氧化硅粒子相對于上述紫外線固化樹脂的質量比的值(二 氧化硅粒子/紫外線固化樹脂)在10/90~50/50的范圍內。另外,從兼得霧度和耐擦傷性的 觀點考慮,優選上述二氧化硅粒子的平均一次粒徑為200nm以下。
[0070] 并且,從使偏振片薄膜化的趨勢考慮,優選上述硬涂層的厚度在2~15μπι的范圍 內。
[0071] 另外,為了用作有機電致發光元件的防反射用途的保護膜,優選23°C · 55%RH的 環境下,光波長550nm的面內方向的延遲值(R〇(550))滿足上述式(1)。
[0072] 而且,作為制造本發明的光學膜的光學膜的制造方法,優選為制造在含有環烯烴 系樹脂的樹脂層上具有硬涂層的光學膜的制造方法,上述樹脂層在相對于上述環烯烴系樹 脂為0.1~5.0質量%的范圍內含有重均分子量Mw在100~10000的范圍內的低分子量化合 物,上述硬涂層含有紫外線固化樹脂和二氧化硅粒子,并且,經由將涂布液進行涂布的工序 而形成硬涂層,所述涂布液是使用醇、酯、醚或者酮中的至少2種溶劑作為含有上述紫外線 固化樹脂和上述二氧化硅粒子的涂布液的溶劑而制備的。
[0073] 另外,優選為經由將溶解有含有環烯烴系樹脂的樹脂的溶液流延在基體上的工序 來制膜,形成上述樹脂層的制造方法。并且,優選為制膜后經由將卷繞的膜料卷開卷并在傾 斜方向拉伸的工序而形成樹脂層的制造方法。
[0074] 以下,對本發明和其構成要素以及用于實施本發明的方式、形式進行詳細的說明。 應予說明,本申請中,"~"以包含其前后記載的數值作為下限值和上限值的意思使用。 [0075]《光學膜的概要》
[0076] 本發明的光學膜的特征在于,是在含有環烯烴系樹脂的樹脂層上具有硬涂層的光 學膜,上述樹脂層在相對于上述環烯烴系樹脂為0.1~5.0質量%的范圍內含有重均分子量 Mw在100~10000的范圍內的低分子量化合物,并且上述硬涂層含有紫外線固化樹脂和二氧 化娃粒子。
[0077] 圖1是本發明的光學膜的一個例子。本發明的光學膜1以樹脂層2作為基材膜,在樹 脂層2上具有硬涂層3。
[0078]光學膜1的厚度優選在10~100μπι的范圍內。更優選在15~50μπι的范圍內。另外,硬 涂層的厚度優選在2~15μπι的范圍內,更優選在2~8μπι的范圍內。
[0079]本發明人發現通過使環烯烴系樹脂含有低分子量化合物而使環烯烴膜的表面硬 度增加的現象。這樣的現象在纖維素酯系樹脂中看不到,因此是環烯烴系樹脂的特征。這 樣,表面硬度增加的現象尚不明確,但因推斷是這些添加劑相容性良好地填上樹脂的自由 體積而使基材密度增加。因此推察改善具有硬涂層的本發明的光學膜的耐擦傷性。
[0080] 《低分子量化合物》
[0081] 本發明的光學膜是在含有環烯烴系樹脂的樹脂層上具有硬涂層的光學膜,上述樹 脂層在相對于上述環烯烴系樹脂為0.1~5.0質量%的范圍內含有重均分子量Mw在100~ 10000的范圍內的低分子量化合物。
[0082] 如果環烯烴系樹脂中添加的低分子量化合物的重均分子量Mw小于100,則無法提 高表面硬度。另外,重均分子量Mw超過10000時,霧度變高。優選低分子量化合物的重均分子 量Mw在300~2500的范圍內。應予說明,本發明中,低分子量化合物不是聚合物時,重均分子 量表示低分子量化合物的分子量。
[0083] 通過相對于上述環烯烴系樹脂添加0.1質量%以上的這些低分子量化合物,能夠 使環烯烴系樹脂的表面硬度增加。即便添加量超過5.0質量%,表面硬度也降低,而且霧度 也上升,因而不優選。優選在相對于環烯烴系樹脂為0.5~3.0質量%的范圍內添加低分子 量化合物。
[0084]重均分子量Mw在100~10000的范圍內的低分子量化合物沒有特別限制,優選從紫 外線吸收劑、聚酯系化合物以及具有呋喃糖結構或吡喃糖結構的化合物中選擇。優選低分 子量化合物為紫外線吸收劑。
[0085]〈紫外線吸收劑〉
[0086]作為本發明中優選使用的紫外線吸收劑的具體例,例如可舉出氧基二苯甲酮系化 合物、苯并三唑系化合物、水楊酸酯系化合物、二苯甲酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、 三嗪系化合物以及鎳絡合鹽系化合物等,不特別限定于這些,也可使用其以外的紫外線吸 收劑。其中優選苯并三唑系化合物。
[0087]作為苯并三唑系紫外線吸收劑,可以使用下述通式(1)表示的化合物。
[0088]通式(1)
[0090] 式中,辦、1?2、1?3、1?4以及1?5可以相同也可以不同,表示氫原子、鹵素原子、硝基、羥基、 烷基、烯基、芳基、烷氧基、醜氧基、芳氧基、燒硫基、芳硫基、單或^烷基氣基、醜氣基或者5 ~6元的雜環基,R4和抱可以閉環而形成5~6元的碳環。
[0091] 以下舉出通式(1)表示的苯并三唑系化合物的紫外線吸收劑的具體例,但本發明 不限定于這些。
[0092] 2 -(2' -羥基一5' -甲基苯基)苯并三唑、2 -(2' -羥基一3' ,5' -二叔丁基苯 基)苯并三唑、2 -(2' -羥基一3' -叔丁基一5' -甲基苯基)苯并三唑、2 -(2' -羥基一3', 57 一二叔丁基苯基)一5一氣苯并二唑、2 - (27 一羥基一3' -(3〃,4〃,5〃,6〃一四氛鄰苯二甲 酰亞胺甲基)一5'-甲基苯基)苯并三唑、2,2-亞甲基雙(4一(1,1,3,3-四甲基丁基)一 6-(2H-苯并三唑一2-基)苯酚)、2 -(2' -羥基一3' -叔丁基一5' -甲基苯基)一5-氯 苯并三唑,市售品中,可舉出BASF Japan公司制的Tinuvin 928、Tinuvin 109以及Tinuvin 171 等。
[0093] 另外,作為屬于本發明的紫外線吸收劑之一的二苯甲酮系紫外線吸收劑,可以使 用下述通式(2)表示的化合物。
[0094]通式(2)
[0096]式中,Y表不氣原子、鹵素原子或者烷基、烯基、烷氧基以及苯基,這些烷基、烯基以 及苯基可以具有取代基。A表不氣原子、烷基、烯基、苯基、環烷基、烷基幾基、烷基橫醜基或 者一 OKMOrrf-D基,D表示烷基、烯基或者可以具有取代基的苯基。m和η表示1或者2。
[0097]上述中,作為烷基,例如表示碳原子數24以下的直鏈或者支鏈的脂肪族基,作為烷 氧基,例如為碳原子數18以下的烷氧基,作為烯基,例如為碳原子數16以下的烯基,例如表 示烯丙基、2- 丁烯基等。另外,作為對于烷基、烯基、苯基的取代成分,可舉出鹵素原子,例 如氯、溴、氟原子等、羥基、苯基(該苯基可以取代有烷基或者鹵素原子等)等。
[0098]以下示出通式(2)表示的二苯甲酮系化合物的具體例,本發明不限定于這些。
[0099] 2,4一二羥基二苯甲酮、2,2' -二羥基一4一甲氧基二苯甲酮、2 -羥基一4一甲氧 基一 5 -磺基二苯甲酮、雙(2-甲氧基一 4 一羥基一 5-苯甲酰基苯基甲烷)
[0100]本發明中,特別優選為分子內具有3個以上的芳香族環(例如,苯環等)或者環烷基 環(例如,環己烷環等)的紫外線吸收劑。
[0101 ]作為三嗪系紫外線吸收劑,沒有特別限制,例如,可舉出2,4一二苯基一6-(2-輕 基一4一甲氧基苯基)一 1,3,5 -三嗪、2,4一二苯基一6 -(2 -羥基一4 一乙氧基苯基)一1, 3,5 -三嗪、2,4一二苯基一(2 -羥基一4一丙氧基苯基)一1,3,5 -三嗪、2,4一二苯基一 (2 -羥基一4一丁氧基苯基)一1,3,5 -三嗪、2,4一二苯基一6-(2 -羥基一4一丁氧基苯 基)一1,3,5 -三嗪、2,4一二苯基一6 -(2 -羥基一4一己氧基苯基)一1,3,5 -三嗪、2,4一 二苯基一6 -(2 -羥基一4一辛氧基苯基)一 1,3,5 -三嗪、2,4一二苯基一6-(2 -羥基一 4一十二烷基氧基苯基)一1,3,5 -三嗪、2,4一二苯基一6 -(2 -羥基一4一芐氧基苯基)一 1,3,5 -三嗪、〔2-(4,6-二苯基一1,3,5 -三嗪一2-基)一5-(己基)氧基苯酚〕 (Tinuvinl577FF,BASF Japan公司制)、〔2-[4,6- 雙(2,4一二甲基苯基)一1,3,5 - 三嗪一 2 -基]-5-(辛氧基)苯酚KCYASORB UV-1164,Cytec Industries制)、Tinuvin405(BASF Japan公司制)等。
[0102] 〈聚酯系化合物〉
[0103] 作為本發明中使用的聚酯系化合物,優選為由至少1種苯單羧酸與至少1種的碳原 子數2~12的亞烷基二醇的縮聚得到的聚酯系化合物。更優選為鄰苯二甲酸、己二酸、至少1 種的苯單羧酸以及至少1種的碳原子數2~12的亞烷基二醇的縮聚而得到的聚酯系化合物。
[0104] 作為聚酯系化合物中的苯單羧酸成分,例如,有苯甲酸、對叔丁基苯甲酸、鄰甲基 苯甲酸、間甲基苯甲酸、對甲基苯甲酸、二甲基苯甲酸、乙基苯甲酸、正丙基苯甲酸、氨基苯 甲酸、乙酰氧基苯甲酸等,它們分別可以使用1種或者使用2種以上的混合物。最優選為苯甲 酸。
[0105] 作為碳原子數2~12的亞烷基二醇成分,有乙二醇、1,2-丙二醇、1,3 -丙二醇、三 羥甲基乙烷、1,2- 丁二醇、1,3- 丁二醇、1,2-丙二醇、2-甲基一 1,3-丙二醇、1,4一丁二 醇、1,5-戊二醇、2,2-二甲基一 1,3 -丙二醇(新戊二醇)、2,2-二乙基一 1,3 -丙二醇(3, 3 -二輕甲基戊燒)、2-正丁基一2 -乙基一 1,3丙二醇(3,3 -二輕甲基庚燒)、3-甲基一 1, 5 -戊二醇1,6 -己二醇、2,2,4 -三甲基一1,3 -戊二醇、2-乙基一1,3 -己二醇、2-甲 基一 1,8-辛二醇、1,9一壬二醇、1,10-癸二醇、1,12-十二烷二醇等,這些二醇使用1種或 者2種以上的混合物。特別優選1,2-丙二醇。
[0106] 這些聚酯系化合物,優選具有己二酸殘基和鄰苯二甲酸殘基作為最終的化合物的 結構。制造這樣聚酯系化合物時,可以以二羧酸的酸酐或者酯化物的形式反應。這樣的聚酯 系化合物可以參考日本特開2008 - 69225號公報、日本特開2008 - 88292號公報以及日本特 開2008 -115221號公報等來合成。
[0107] 〈具有呋喃糖結構或吡喃糖結構的化合物〉
[0108] 作為本發明的具有呋喃糖結構或吡喃糖結構的化合物,包括具有至少1個呋喃糖 結構或吡喃糖結構、且1~12個該呋喃糖結構或吡喃糖結構鍵合而成的化合物中的羥基的 全部或者一部分酯化而得的糖酯。優選為將該羥基的全部酯化而得的糖酯。
[0109] 作為優選的"具有至少1個呋喃糖結構或吡喃糖結構、且1~12個該呋喃糖結構或 吡喃糖結構鍵合而成的化合物"的例子,可以舉出例如如下的化合物,本發明不限定于這 止匕 -、〇
[0110] 可舉出葡萄糖、半乳糖、甘露糖、果糖、木糖、阿拉伯糖、乳糖、蔗糖、纖維二糖、纖維 三糖、麥芽三糖、棉子糖等,特別優選具有呋喃糖結構和吡喃糖結構這兩者的糖。作為例子, 可舉出蔗糖。
[0111] 《環烯烴系樹脂》
[0112] 本發明的光學膜具有含有環烯烴系樹脂的樹脂層。作為本發明的環烯烴系樹脂, 可舉出具有如下的結構的環烯烴單體的(共)聚合物。
[0113] 通式⑶
[0115] (式中,R1~R4各自獨立地為被氫原子、烴基、鹵素原子、羥基、酯基、羧基、烷氧基、 氰基、酰胺基、酰亞胺基、甲硅烷基、或者極性基團(即,鹵素原子、羥基、酯基、烷氧基、氰基、 酰胺基、酰亞胺基、或者甲硅烷基)取代的烴基。其中,R 1~R4可以2個以上相互鍵合而形成不 飽和鍵、單環或者多環,該單環或者多環可以具有雙鍵,也可以形成芳香環。可以由R 1與R2或 者R3與R4形成烷叉基。P、m為0以上的整數。)
[0116] 上述通式(3)中,R1和R3表示氫原子或者碳原子數1~10的烴基,更優選表示1~4的 烴基,特別優選表示1~2的烴基。R 2和R4為氫原子或者1價的有機基團,R2和R4中的至少1個 表示氫原子或者烴基以外的具有極性的極性基團。m為0~3的整數,p為0~3的整數,更優選 為m+p = 0~4,進一步優選為0~2,特別優選為m= 1,p = 0。從得到的環稀經系樹脂的玻璃化 轉變溫度高且機械強度也優異的方面考慮,優選m = 1、p = 0的特定單體。
[0117] 作為上述特定單體的極性基團,可舉出羧基、羥基、烷氧羰基、芳氧羰基、氨基、酰 胺基、氰基等,這些極性基團可以介由亞甲基等連接基團鍵合。另外,也可舉出羰基、醚基、 甲硅烷基醚基、硫醚基、亞氨基等具有極性的2價的有機基團成為連接基團而鍵合的烴基等 作為極性基團。其中,優選羧基、羥基、烷氧羰基或者芳氧羰基,特別優選烷氧羰基或者芳氧 幾基。
[0118] 并且,從得到的環烯烴系樹脂具有高的玻璃化轉變溫度和低的吸濕性以及與各種 材料的優異的密合性方面考慮,優選R2和R 4中的至少1個為式一(CH2) nC00R表示的極性基團 的單體。上述的特定的極性基團所述的式中,R為碳原子數1~12的經基,進一步優選為1~4 的經基,特別優選為1~2的經基,優選為烷基。
[0119] 作為共聚性單體的具體例,可以舉出環丁烯、環戊烯、環庚烯、環辛烯、二環戊二 烯、降冰片烯等環烯烴。
[0120]作為環烯烴的碳原子數,優選為4~20,進一步優選為5~12。
[0121] 本發明中,環烯烴系樹脂可以單獨使用1種或者并用2種以上。
[0122] 本發明的環烯烴系樹脂的優選分子量以固有粘度〔n〕inh計為0.2~5dL/g,進一步 優選為0.3~3dL/g,特別優選為0.4~1.5dL/g,用凝膠滲透色譜(GPC)測定的聚苯乙烯換算 的數均分子量(Μη)優選為8000~100000,進一步優選為10000~80000,特別優選為12000~ 50000,重均分子量(Mw)優選為20000~300000,進一步優選為30000~250000,特別優選為 40000~200000的范圍。
[0123] 通過固有粘度〔n〕inh、數均分子量以及重均分子量在上述范圍,環烯烴系樹脂的耐 熱性、耐水性、耐藥品性、機械特性和作為環烯烴膜的成型加工性良好。
[0124] 作為本發明的環烯烴系樹脂的玻璃化轉變溫度(Tg),通常為110°C以上,優選為 110~350°C,進一步優選為120~250°C,特別優選為120~220°(:<^8為110°C以上時,不會因 在高溫條件下使用或者經過涂布、印刷等二次加工而發生變形。另一方面,如果Tg為350°C 以下,則成型加工變得容易,另外,不會因成型加工時的熱而使樹脂劣化。
[0125] 光學膜具有含有環烯烴系樹脂的樹脂層作為基材膜。優選樹脂層中的50質量%以 上為環烯烴系樹脂,更優選在80~99質量%的范圍內。
[0126] 在不損害本發明的效果的范圍內,環烯烴系樹脂中也可以含有例如日本特開平 9 一 221577號公報、日本特開平10 - 287732號公報中記載的特定的烴類樹脂,或者,公知的 熱塑性樹脂、熱塑性彈性體、橡膠質聚合物、橡膠粒子等添加劑。
[0127] 以上說明的環烯烴系樹脂可以優選使用市售品,作為市售品的例子,由JSR株式會 社以ARTON G、ART0N F、ART0N R以及ARTON RX這樣的商品名發售,另外由日本ΖΕΟΝ株式會 社以ZE0N0R ZF14、ZF16、ZE0NEX 250或者ΖΕ0ΝΕΧ 280這樣的商品名出售,可以使用這些市 售品。
[0128] 〈微粒〉
[0129] 為了對作為基材膜的樹脂層賦予表面的滑性等,在不損害本發明的效果的范圍 內,可以含有微粒(消光劑)。微粒可以由無機化合物構成,也可以由樹脂構成。
[0130] 無機化合物的例子,可舉出二氧化硅、二氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯、碳酸鈣、滑石、粘 土、煅燒高嶺土、煅燒硅酸鈣、水和硅酸鈣、硅酸鋁、硅酸鎂以及磷酸鈣等。
[0131] 樹脂的例子中包括有機硅樹脂、氟樹脂以及丙烯酸樹脂。其中優選有機硅樹脂,特 別優選具有三維的網狀結構的有機硅樹脂,例如,可舉出以T0SPEARL 103、T0SPEARL 105、 TOSPEARL 108、T0SPEARL 120、T0SPEARL 145、T0SPEARL 3120以及TOSPEARL 240(以上東芝 有機娃株式會社制)的商品名出售的市售品。
[0132] 其中,從能夠降低膜的濁度方面考慮,優選二氧化硅的微粒。作為二氧化硅的微粒 的例子,可舉出AEROSIL R972、AER0SIL R972V、AER0SIL R974、AER0SIL R812、AER0SIL 200、AER0SIL 200V、AER0SIL 300、AER0SIL R202、AER0SIL 0X50、AER0SIL TT600(以上日本 AEROSIL株式會社制),從保持膜的霧度較低并降低摩擦系數的效果大的方面考慮,優選為 AEROSIL 200V、AER0SIL R972V。
[0133] 《硬涂層》
[0134] 本發明的光學膜在含有環烯烴系樹脂的樹脂層上具有硬涂層,并且上述硬涂層含 有紫外線固化樹脂和二氧化硅粒子。通過在具有高的表面硬度的樹脂層上具有硬涂層,能 夠提高光學膜的耐沖擊性、操作容易性等。
[0135] 〈紫外線固化樹脂〉
[0136] 作為紫外線固化樹脂,優選使用含有具有乙烯性不飽和雙鍵的單體的成分。通過 紫外線照射,能夠形成機械膜強度(耐擦傷性、鉛筆硬度)優異的硬涂層。
[0137] 例如,可舉出有機硅系、三聚氰胺系、環氧系、丙烯酸酯系、多官能(甲基)丙烯酸系 化合物等有機系硬涂材料;二氧化硅等無機系硬涂材料等。其中,從粘接力良好、生產性優 異的觀點考慮,優選使用(甲基)丙烯酸酯系和多官能(甲基)丙烯酸系化合物的硬涂形成材 料。這里,(甲基)丙烯酸表示丙烯酸和甲基丙烯酸。
[0138] (甲基)丙烯酸酯可以舉出分子內具有1個聚合性不飽和基團的(甲基)丙烯酸酯、 分子內具有2個聚合性不飽和基團的(甲基)丙烯酸酯、分子內具有3個以上聚合性不飽和基 團的(甲基)丙烯酸酯、分子內含有3個以上聚合性不飽和基團的(甲基)丙烯酸酯低聚物。例 如,作為多官能丙烯酸酯,可以使用季戊四醇多官能丙烯酸酯、二季戊四醇多官能丙烯酸 酯、季戊四醇多官能甲基丙烯酸酯以及二季戊四醇多官能甲基丙烯酸酯等。(甲基)丙烯酸 酯可以單獨使用,也可以使用2種以上。
[0139] 另外,在本發明的硬涂層中,在不損害本發明的效果的范圍,還可以根據需要配合 各種添加劑。例如,可以使用抗氧化劑、紫外線穩定劑、紫外線吸收劑、表面活性劑、流平劑、 抗靜電劑等。
[0140] 流平劑特別是在涂覆硬涂層時,有效降低表面凹凸。作為流平劑,例如,優選作為 有機硅系流平劑的二甲基聚硅氧烷一聚氧化烯共聚物。
[0141] 作為上述紫外線穩定劑,例如,適當使用對紫外線的穩定性高的受阻胺系紫外線 穩定劑。通過硬涂層含有紫外線穩定劑,由紫外線產生的自由基、活性氧等被滅活,能夠提 尚紫外線穩定性、耐久性等。
[0142] 作為上述紫外線吸收劑,例如,可以舉出水楊酸系紫外線吸收劑、二苯甲酮系紫外 線吸收劑、苯并三唑系紫外線吸收劑、氰基丙烯酸酯系紫外線吸收劑、三嗪系紫外線吸收 劑、苯并#惡嗪酮系紫外線吸收劑等,可以使用選自它們中的1種或者2種以上。其中,從分散 性方面考慮,優選三嗪系紫外線吸收劑、苯并0惡嗪酮系紫外線吸收劑。另外,作為上述紫外 線吸收劑,優選使用分子鏈具有紫外線吸收基團的聚合物。通過使用上述分子鏈具有紫外 線吸收基團的聚合物,能夠防止由紫外線吸收劑的滲出等導致的紫外線吸收功能的劣化。 作為該紫外線吸收基團,可舉出苯并三唑基、二苯甲酮基、氰基丙烯酸酯基、三嗪基、水楊酸 酯基、苯亞甲基丙二酸酯基等。其中,特別優選苯并三唑基、二苯甲酮基、三嗪基。
[0143] 〈二氧化硅粒子〉
[0144] 本發明的光學膜的硬涂層含有二氧化硅粒子。硬涂層中含有的二氧化硅粒子相對 于紫外線固化樹脂的質量比的值(二氧化硅粒子/紫外線固化樹脂)優選在10/90~50/50的 范圍內。從提高硬涂層的硬度方面考慮,優選該比的值為10/90以上,通過為50/50以下,不 會使霧度、耐擦傷性劣化,因而優選。
[0145] 從兼得霧度和表面硬度方面考慮,優選二氧化硅粒子的平均一次粒徑為200nm以 下。優選為5~100nm,更優選為10~50nm的范圍內。
[0146]另外,二氧化硅粒子的粒子表面未處理,表面也硬度上升,但優選有機成分覆蓋表 面的一部分、且表面具有利用該有機成分導入的反應性的聚合性不飽和基團的二氧化硅粒 子。
[0147] (被含有聚合性不飽和基團的化合物覆蓋的反應性二氧化硅粒子)
[0148] 作為本實施方式中優選使用的平均一次粒徑5~200nm的二氧化硅粒子,可舉出至 少表面的一部分被有機成分覆蓋、表面具有利用該有機成分導入的反應性的聚合性不飽和 基團的二氧化硅粒子。
[0149] 作為未被表面修飾的二氧化硅粒子,可以使用公知的二氧化硅粒子。另外,其形狀 可以是球狀,也可以是不定形,并不局限于通常的膠體二氧化硅,也可以是中空粒子、多孔 粒子、核/殼型粒子等,但優選膠體二氧化娃。
[0150] 二氧化硅粒子的分散介質優選水或者有機溶劑。作為有機溶劑,可以舉出甲醇、異 丙醇、乙二醇、丁醇、乙二醇單丙醚等醇類;甲基乙基酮、甲基異丁基酮等酮類;甲苯、二甲苯 等芳香族烴類;二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺類;乙酸乙酯、乙酸 丁酯、γ-丁內酯等酯類;四氫呋喃、1,4一二V?惡烷等醚類等有機溶劑,其中,優選醇類和酮 類。這些有機溶劑可以單獨使用或者混合2種以上使用作為分散介質。
[0151] 作為市售品,例如,作為膠體二氧化硅,可以舉出日產化學工業株式會社制ΙΡΑ - ST、IPA-ST - L、IPA-ST - ZL、MEK - ST - L、MEK - ST-MS#。
[0152] 反應性二氧化硅粒子用具有反應性的聚合性不飽和基團的有機化合物對上述那 樣的膠體二氧化硅進行表面處理而得到。即,這里,覆蓋二氧化硅粒子的表面的有機成分是 指表面處理所使用的來自具有反應性的聚合性不飽和基團的有機化合物的有機成分。
[0153] 作為為了用有機成分覆蓋二氧化硅粒子的表面而用于表面處理的有機化合物,是 具有聚合性不飽和基團的有機化合物。作為聚合性不飽和基團,優選為羥基、羧基、氨基、環 氧基、異氰酸酯基、(甲基)丙烯酰基、乙烯基中的任意2種以上,特別優選為羥基、羧基、異氰 酸酯基中的任一者和(甲基)丙烯酰基。
[0154] 應予說明,本發明中,(甲基)丙烯酸酯表示甲基丙烯酸酯或者丙烯酸酯。
[0155] 并且,作為具有聚合性不飽和基團的有機化合物的具體例,例如,可舉出3-甲基 丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯 酰氧基丙基二乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三 甲氧基硅烷、乙烯基二氣硅烷、乙烯基二甲氧基硅烷、乙烯基二乙氧基硅烷等偶聯劑;丙稀 酸甲酯、丙烯酸一 2-乙基己酯、丙烯酸甲氧基乙酯、丙烯酸丁氧基乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯 酸甲氧基丁酯、丙烯酸苯酯等丙烯酸酯類,甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸 丙酯、甲基丙烯酸甲氧基乙酯、甲基丙烯酸乙氧基甲酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸月桂 酯等甲基丙烯酸酯類,丙烯酸一2 - (N,N-二乙基氨基)乙酯、甲基丙烯酸一2 - (N,N-二甲 基氨基)乙酯、丙稀酸一2- (N,N-二芐基氨基)甲酯、丙稀酸一2-(N,N-二乙基氨基)丙酯 等不飽和取代酸的取代氨基醇酯類;丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺等不飽和羧酸酰胺;乙二醇二 丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙 烯酸酯、三乙二醇二丙烯酸酯等化合物;二丙二醇二丙烯酸酯,乙二醇二丙烯酸酯、丙二醇 二甲基丙烯酸酯、二乙二醇二甲基丙烯酸酯等多官能性化合物;和/或,支鏈中具有2個以上 的巰基的多硫醇化合物(例如三羥甲基丙烷三巰基乙酸酯、三羥甲基丙烷三巰基丙醇鹽、季 戊四醇三巰基乙二醇等)。
[0156] 通過使用這樣具有聚合性不飽和基團的反應性二氧化硅粒子,產生粘結劑樹脂與 二氧化硅粒子的交聯、二氧化硅粒子彼此的交聯,得到硬度的提高、防止粒子的脫落這樣的 效果。另外,通過使用被修飾的二氧化硅粒子,也能夠實現耐藥品性的提高。
[0157] 從抑制二氧化硅粒子的凝聚,并且向二氧化硅粒子表面導入大量反應性官能團而 提硬涂層的硬度方面考慮,優選上述有機成分覆蓋粒子表面的幾乎整體。從這樣的觀點考 慮,覆蓋二氧化娃粒子的上述有機成分優選在反應性二氧化娃粒子中含有1.00 X l(T3g/m2 以上。
[0158] 該覆蓋的有機成分的比例,通常,以干燥粉體在空氣中完全燃燒時的質量減少的 恒量值的形式,例如,通過空氣中從室溫到通常800°C為止的熱質量分析而求出。應予說明, 每單位面積的有機化合物量可以通過以下的方法求出。首先,通過差熱質量分析(DTG),測 定將有機成分質量除以無機成分質量而得的值(有機成分質量/無機成分質量)。接下來,由 無機成分質量與使用的二氧化硅的比重計算無機成分整體的體積。另外,假設覆蓋前的二 氧化硅粒子為真球狀,由覆蓋前的二氧化硅粒子的平均粒徑計算覆蓋前的每一個二氧化硅 的體積和表面積。接下來,將無機成分整體的體積除以覆蓋前的每一個二氧化硅粒子的體 積,由此求出反應性二氧化硅粒子的個數。進而,通過將有機成分質量除以反應性二氧化硅 粒子的個數,求出每一個反應性二氧化硅粒子的有機成分量。最后,將每一個反應性二氧化 硅粒子的有機成分質量除以覆蓋前的每一個二氧化硅粒子的表面積,由此能夠求出每單位 面積的有機成分量。
[0159] 作為制備至少表面的一部分覆蓋有有機成分、表面具有利用該有機成分導入的聚 合性不飽和基團的反應性二氧化硅粒子的方法,根據要向該二氧化硅粒子導入的聚合性不 飽和基團的種類等,可以適當地使用以往公知的方法。具體而言,例如,可以利用后述的實 施例中記載的方法等制備反應性二氧化硅粒子。
[0160] 應予說明,作為反應性二氧化硅粒子,可以使用不含有分散介質的粉末狀,可以省 略分散工序,從生產率高方面考慮,優選采用將微粒制成溶劑分散溶膠的形式。
[0161] 作為上述反應性二氧化硅粒子的市售品,可以舉出日產化學工業株式會社制: MIBK - SD、MIBK - SDMS、MIBK - SDL、IPA-ST、IPA-SDMS等。
[0162] 應予說明,平均一次粒徑可以利用激光衍射?散射法等進行測定。例如,可以使用 利用粒度分布計Microtrac(日機裝株式會社制)等測得的d55。二氧化娃粒子進行了表面修 飾時,將包含表面修飾的粒子的粒徑作為本發明中的粒徑。
[0163] 《樹脂層的制造方法》
[0164] 作為基材膜,樹脂層可以用任意的方法制造,即便是分子量比較大的樹脂也容易 制膜,另外,從容易將添加劑均勻添加到樹脂層中等方面考慮,優選經由將溶解了含有環烯 烴系樹脂的樹脂的溶液流延在基體上的工序來制膜,形成上述樹脂層。即,優選用溶液流延 法制造。
[0165] 另外,為了用作有機電致發光元件的防反射用途的保護膜,優選在上述制膜后經 由將卷繞的膜料卷開卷、并在傾斜方向拉伸的工序而形成上述樹脂層。
[0166] 樹脂層可以經由1)使上述的各成分溶解在溶劑中而制備膠漿(dope)液的工序,2) 將膠漿液流延到環形基體上的工序,3)將流延的膠漿干燥后,剝離得到膜狀物(料卷)的工 序,4)對膜狀物進行干燥和拉伸的工序制造。
[0167] 應予說明,以下的記載中,僅本發明的樹脂層的膜稱為樹脂膜。
[0168] 作為上述1)的工序使用的溶劑,例如,可舉出氯仿、二氯甲烷等氯系溶劑;甲苯、二 甲苯、苯、以及它們的混合溶劑等芳香族系溶劑;甲醇、乙醇、異丙醇、正丁醇、2- 丁醇等醇 系溶劑;甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑、乙二醇單甲醚、二甲基甲酰胺、二甲基亞砜、 二口惡烷、環己酮、四氫呋喃、丙酮、甲基乙基酮(MEK)、乙酸乙酯、二乙基醚等。
[0169] 溶液流延法中,對于膠漿中的環烯烴系樹脂的濃度,濃度高的膠漿因能夠降低流 延到基體后的干燥負荷而優選,環烯烴系樹脂的濃度過高時,過濾時的負荷增加,過濾精度 變差。作為兼得這兩方面的濃度,優選在10~35質量%的范圍內,進一步優選在15~25質 量%的范圍內。流延(澆鑄)工序中的基體優選對表面進行鏡面精加工的基體,優選使用不 銹鋼帶或者用鑄件對表面進行鍍覆精加工的鼓。
[0170] 澆鑄的寬度可以在1~4m的范圍內。流延工序的基體的表面溫度設定為一50°C至 溶劑沸騰但不發泡的溫度以下。溫度高的基體,料片(web)的干燥速度快,因而優選。另外, 如果在該溫度范圍內,則沒有料片發泡或平面性劣化的擔心。
[0171] 作為優選的基體溫度,在0~100 °C的范圍內適當地決定,進一步優選5~30 °C的范 圍內。或者,通過冷卻使料片凝膠化而以含有大量殘留溶劑的狀態從鼓上剝離也是優選的 方法。控制基體的溫度的方法沒有特別限制,有吹熱風或者冷風的方法;使基體的背面側接 觸溫水的方法。使用溫水的一方高效地進行熱的傳遞,因此基體的溫度達到一定的時間短, 因而優選。
[0172] 使用熱風時,考慮由溶劑的蒸發潛熱所致的料片的溫度降低,有時使用溶劑的沸 點以上的熱風,同時使用防止發泡且高于目標溫度的溫度的風。
[0173] 特別優選在從流延到剝離的期間變更基體的溫度和干燥風的溫度,高效地進行干 燥。
[0174] 為了使樹脂膜顯示良好的平面性,從基體剝離料片時的殘留溶劑量優選在10~ 150質量%的范圍內,進一步優選在20~40質量%或者60~130質量%的范圍內,特別優選 在20~30質量%或者70~120質量%的范圍內。
[0175] 殘留溶劑量由下述式定義。
[0176] 殘留溶劑量(質量% ) = {(Μ-N)/N} X 100
[0177] 應予說明,Μ是在制造中或者制造后的任意的時刻米取料片或者膜而得的試料的 質量,Ν是將Μ在115 °C加熱1小時后的質量。
[0178] 另外,樹脂膜的干燥工序中,將料片從基體剝離并進一步干燥,優選殘留溶劑量為 1質量%以下,進一步優選為0.1質量%以下,特別優選在0~0.01質量%的范圍內。
[0179] 膜干燥工序中一般采用滾筒干燥方式(上下配置的多個滾筒交替通過料片進行干 燥的方式)、邊以拉幅機方式邊搬運料片邊干燥的方式。
[0180] 拉伸工序中,最大拉伸方向(拉伸率為最大的方向)的拉伸率可以優選5~80%,更 優選12~60%的范圍內。例如,在相互正交的2軸向拉伸時,在搬運方向(MD方向)可以為0~ 60%,在寬度方向(TD方向)可以5~70%。拉伸率(% )由下述式定義。
[0181 ]拉伸率(% ) = {(拉伸后的膜的(拉伸方向)長度一拉伸前的膜的(拉伸方向)長 度)/拉伸前的膜的(拉伸方向)長度)}Χ 100
[0182] 拉伸溫度可以為120~180°C,優選為140~180°C,更優選在145~165°C的范圍內。
[0183] 拉伸開始時的膜狀物(也稱為膜料卷)的殘留溶劑,從抑制霧度的上升的觀點考 慮,優選小于5質量%,更優選4質量%以下,進一步優選2質量%以下。為了將拉伸開始時的 殘留溶劑保持在小于5質量%,優選將流延的膠漿從基體剝離并搬運的過程中設置上述干 燥工序而使溶劑蒸發。
[0184] 拉伸膜狀物的方法,沒有特別限定,可以是多個輥存在圓周速度差,其間利用輥圓 周速度差在MD方向拉伸的方法;利用拉幅機將膜狀物的兩端用夾具或銷固定,在TD方向擴 大夾具或銷的間隔進行拉伸的方法等。其中,TD方向的拉伸優選利用拉幅機進行,可以是銷 拉幅機,也可以是夾具拉幅機。
[0185] 另外,也可以在制膜后經由將卷繞的膜料卷開卷,使用可傾斜拉伸的拉幅機在傾 斜方向拉伸的工序來形成樹脂層。
[0186] 可傾斜拉伸的拉幅機是將膜料卷在由烘箱得到的加熱環境下,在相對于其行進方 向(膜寬度方向的中點的移動方向)的傾斜方向擴寬的裝置。該拉幅機具備烘箱、在用于搬 運膜的把持具移動的左右的一對導軌和在該導軌上移動的多個把持具。將從膜卷抽出并依 次供給到拉幅機的入口部的膜的兩端用把持具把持,向烘箱內導入膜,在拉幅機的出口部 從把持具釋放膜。從把持具釋放的膜卷繞于卷芯。一對導軌分別具有環狀連續軌道,在拉幅 機的出口部釋放膜的把持的把持具在外側移動而依次返回入口部。
[0187] 圖2A和圖2B是可傾斜拉伸的拉幅機的一個例子。如圖2A所代表的那樣,利用拉伸 裝置入口側的導輥12 - 1控制方向的膜料卷4在外側的膜保持開始點8 - 1、內側的膜保持開 始點8 - 2的位置利用把持具進行把持。
[0188] 左右一對把持具彼此是勻速,用傾斜拉伸裝置6在外側的膜把持具的軌跡7-1、內 側的膜把持具的軌跡7 - 2表示的傾斜方向進行搬運、拉伸,利用外側的膜把持結束點9一 1、 內側的膜把持結束點9 一 2解放把持,通過拉伸裝置出口側的導輥12 - 2控制搬運,形成傾斜 拉伸膜5。拉伸時的膜的加熱溫度、把持具的移動速度以及總拉伸倍率可以采用與上述的范 圍相同的范圍。圖中,膜料卷相對于膜的輸送方向14 一 1以膜的拉伸方向14 一 2的角度14 (抽 出角度ΘΚ繰出L角度))被傾斜拉伸。
[0189] 本發明的實施方式的制造方法中使用的傾斜拉伸拉幅機中,特別是像圖2A、圖2B 那樣,在拉幅機內部中,對限制把持具的軌跡的導軌往往要求大的彎曲率。出于避免由急劇 的彎曲所致的把持具彼此的干擾或者局部應力集中的目的,彎曲部優選把持具的軌跡為描 繪圓弧的方式。
[0190] 圖2A表示的傾斜拉伸拉幅機中,在膜料卷的拉幅機入口的行進方向14 一 1與在拉 伸后的膜的拉幅機出口側的行進方向不同。抽出角度Θi是在拉幅機入口的行進方向14一 1 與拉伸后的膜的拉伸方向14 一 2所成的角度。
[0191] 圖2B表示的傾斜拉伸拉幅機中,膜料卷在拉幅機入口的行進方向14一 1轉換為與 拉幅機內以抽出角度Θ i在拉幅機入口的行進方向的不同方向進行搬運。其后進一步轉換搬 運方向,最終拉伸后的膜取得在拉幅機出口側的行進方向一致的軌跡。在本發明中,為了如 上述那樣制造優選具有10~80°的取向角Θ的膜,抽出角度0i設定為1〇° <0i<6〇°,優選設 定以15° < Θi <50°。通過使抽出角度Θi為上述范圍,得到的膜的寬度方向的光學特性的偏 差變得良好(變小)。
[0192] 對于其他工序,可以與公知的溶液流延法;例如日本特開2012 - 48 214號的段落 0109~0140相同。
[0193] 〈具有硬涂層的光學膜的制造方法〉
[0194] 具有硬涂層的光學膜可以經由1)準備上述的樹脂膜的工序;和2)在該樹脂膜上涂 布硬涂用涂布液(活性能量射線固化物層用涂布液)后,進行干燥和固化而得到作為活性能 量射線固化物層的硬涂層的工序來制造。
[0195] 上述1)的準備樹脂膜的工序如上所述。上述2)的工序中,從減少干燥不均方面考 慮,優選涂布使用醇、酯、醚或者酮中的至少2種溶劑作為含有上述紫外線固化樹脂和上述 二氧化硅粒子的涂布液的溶劑而制備的涂布液。
[0196] 作為上述2)的工序使用的溶劑,例如,可舉出氯仿、二氯甲烷等氯系溶劑;甲苯、二 甲苯、苯、以及它們的混合溶劑等芳香族系溶劑;甲醇、乙醇、異丙醇(IPA)、正丁醇、2- 丁醇 等醇系溶劑;甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丁基溶纖劑、乙二醇單甲醚、丙二醇單甲醚(PGME)、 二甲基甲酰胺、二甲基亞砜、二0惡烷、環己酮、四氫呋喃、丙酮、甲基乙基酮(MEK)、乙酸乙 酯、二乙基醚等。
[0197] 將使用醇、酯、醚或者酮中的至少2種溶劑進行溶解的溶液流延在基體上時,優選1 種為酮類,酮類中,從UV固化樹脂的溶解性的觀點考慮,優選甲基乙基酮(MEK)。另外,優選 另1種為醚類,醚類中,從高沸點、干燥慢、不均抑制效果的觀點考慮,優選丙二醇單甲醚 (PGME)〇
[0198] 上述2)的活性能量射線固化層用涂布液的涂布,例如可以利用浸漬法、模涂法、線 棒法、噴霧法等任意方法進行。涂布后的干燥可以用公知的方法進行。
[0199] 上述2)的活性能量射線固化層用涂布液的涂膜的固化可以通過照射活性能量射 線進行。照射活性能量射線(優選紫外線)的光源的例子,可舉出低壓汞燈、中壓汞燈、高壓 汞燈、超高壓汞燈、碳弧燈、金屬鹵化物燈、氙燈等。照射光量可以為20~lOOOOmJ/cm 2左右, 優選為50~2000mJ/cm2。照射時間優選0.5秒~5分鐘,從作業效率等的觀點考慮,更優選3 秒~2分鐘。
[0200] 作為硬涂層的干層厚,優選層厚在2~15μηι的范圍內,更優選在3~8μηι的范圍內。 [0201 ]〈起偏器〉
[0202]起偏器是僅通過一定方向的偏振面的光的元件,現在已知的代表性的起偏器是聚 乙烯醇系偏振膜。聚乙烯醇系偏振膜有使碘染色于聚乙烯醇系膜上的聚乙烯醇系偏振膜, 使二色性染料染色于聚乙烯醇系膜上而得的聚乙烯醇系偏振膜。
[0203]聚乙烯醇系偏振膜可以是將聚乙烯醇系膜進行單軸拉伸后,用碘或者二色性染料 進行染色而得的膜(優選進一步用硼化合物實施了耐久性處理的膜);也可以是將聚乙烯醇 系膜用碘或者二色性染料染色后,進行單軸拉伸的膜(優選進一步用硼化合物實施了耐久 性處理的膜)。起偏器的吸收軸與膜的拉伸方向平行。
[0204] 例如,使用日本特開2003 - 248123號公報、日本特開2003 - 342322號公報等中記 載的乙烯單位的含量1~4摩爾%、聚合度2000~4000、皂化度99.0~99.99摩爾%的乙烯改 性聚乙烯醇等。其中,優選使用熱水切斷溫度為66~73°C的乙烯改性聚乙烯醇膜。
[0205] 起偏器的厚度優選為5~30μηι,從使偏振片輕薄化等方面考慮,更優選為10~20μ m〇
[0206] 〈偏振片〉
[0207] 本發明中使用本發明的光學膜作為保護膜,也可以介由起偏器與其他基材膜貼合 來使用,但優選作為介由起偏器貼合相位差膜的偏振片使用。而且,也優選通過本發明的光 學膜與具有相位差的起偏器貼合而作為偏振片。
[0208]本發明的偏振片優選用于有機EL顯示裝置、液晶顯示裝置。本發明的光學膜在23 。(:· 55%RH的環境下,光波長550nm的面內方向的延遲值(R〇(550))優選滿足下述式(1)。
[0209] 式(l):l〇〇nm 彡 R〇(550)彡 170nm
[0210] 通過R〇(550)滿足式(1),相位差膜作為λ/4相位差膜發揮功能。通過使用以起偏器 的吸收軸與λ/4相位差膜的慢軸所成的角為45°的方式貼合而成的圓偏振片,能夠賦予抑制 外光的反射的功能。通過將其用于有機電致發光顯示裝置,防止由電極所致的反射光,能夠 制作優異的有機EL顯示裝置。
[0211] 在波長550nm測定的面內的相位差值R〇(550)優選在120~160nm的范圍內,Ro (550)進一步優選為130~150nm。
[0212] 另外,用于液晶顯示裝置時,使用本發明的光學膜作為偏振片保護膜,優選使用將 其介由起偏器與其他相位差膜貼合而成的偏振片。相位差膜的延遲值,不論組合的液晶單 元的種類如何,例如在23°C · 55%RH的條件下,在波長550nm測定的面內方向的延遲值Ro (550)都優選為20~100nm,厚度方向的延遲值Rth(550)都優選為70~300nm。延遲值為上述 范圍時,適合作為例如VA型液晶單元等的相位差膜。
[0213]面內方向的延遲值Ro和厚度方向的延遲值Rth分別由以下的式子定義。
[0214] 式(I) :Ro = (nx-ny) Xd(nm)
[0215] 式(II) :Rth = {(nx+ny)/2-nz} Xd(nm)
[0216](式(I)和(II)中,
[0217] nx表示在膜的面內方向折射率最大的慢軸向x的折射率;
[0218] ny表示在膜的面內方向與上述慢軸向X正交的方向y的折射率;
[0219] nz表示膜的厚度方向z的折射率;
[0220] d(nm)表示膜的厚度)
[0221] 延遲值Ro和Rth例如可以通過以下的方法求出。
[0222] 1)將光學膜在23°C · 55%RH下調濕。用阿貝折射儀等測定調濕后的光學膜的平均 折射率。
[0223] 2)對調濕后的光學膜,用K0BRA-21DH,王子計測機器株式會社測定與該膜表面的 法線平行地入射測定波長550nm的光時的Ro。
[0224] 3)利用K0BRA - 21ADH,測定以光學膜的面內的慢軸作為傾斜軸(旋轉軸),從與該 膜的表面的法線成Θ的角度(入射角(Θ))入射測定波長550nm的光時的延遲值R( Θ)。延遲值R ⑷的測定可以在Θ為〇~50°的范圍以10°為單位進行6點。面內慢軸是指膜面內的折射率最 大的軸,可以利用K0BRA-21ADH進行確認。
[0225] 4)由測定的Ro和R(Θ)、上述的平均折射率和膜厚,利用K0BRA-21ADH計算nx、ny以 及nz,計算在測定波長550nm的Rth。延遲值的測定可以在23°C · 55%RH條件下進行。
[0226] 延遲值可以通過改變拉伸倍率等進行調整。
[0227] 偏振片可以經由將起偏器與本發明的光學膜介由粘合劑貼合的工序;將貼合的層 疊物裁斷成規定的大小的工序得到。貼合所使用的粘合劑可以是完全皂化型聚乙烯醇水溶 液(水糊),也可以使用活性能量射線固化性粘合劑進行。使用水糊時,從提高粘合性方面考 慮,優選使用電暈放電處理裝置對環烯烴膜進行電暈處理。
[0228] 《液晶顯示裝置》
[0229 ]液晶顯示裝置包含液晶單元和夾持該液晶單元的一對偏振片。
[0230]圖3是表示液晶顯示裝置的基本的構成的一個例子的示意圖。如圖3所示,液晶顯 不裝置100包含液晶單兀30、夾持該液晶單兀30的第一偏振片50與第二偏振片70、以及背光 燈90。
[0231] 液晶單元30的顯示模式可以是例如 示模式,為了得到高的對比度,優選為VA(MVA、PVA)模式。
[0232] 第一偏振片50包含第一起偏器51、在第一起偏器51的與液晶單元相反的一側的面 配置的光學膜53(F1)和在第一起偏器51的液晶單元側的面配置的光學膜55(F2)。
[0233] 第二偏振片70包含第二起偏器71、在第二起偏器71的與液晶單元側的面配置的光 學膜73(F3)、和在第二起偏器71的與液晶單元相反的一側的面配置的光學膜75(F4)。光學 膜55(F2)和73(F3)中的一方根據需要可以省略。
[0234] 而且,光學膜53(F1)與75(F4)中的至少一方,優選光學膜53(F1)可以是本發明的 光學膜。光學膜53(F1)具有基材膜53A和作為硬涂層的活性能量射線固化物層53B,并且基 材膜53A與第一起偏器51相接。光學膜53(F1)為本發明的光學膜的液晶顯示裝置因為表面 的耐擦傷性高,所以不易使顯示畫面帶傷。
[0235] 《有機電致發光顯示裝置》
[0236] 有機電致發光顯示裝置中可以具備本發明的光學膜。
[0237] 對于可用于有機電致發光顯示裝置的有機EL元件的概要,例如,可以舉出日本特 開2013 -157634號公報、日本特開2013 -168552號公報、日本特開2013 -177361號公報、日 本特開2013 -187211號公報、日本特開2013 -191644號公報、日本特開2013 -191804號公 報、日本特開2013 - 225678號公報、日本特開2013 - 235994號公報、日本特開2013 - 243234 號公報、日本特開2013 - 243236號公報、日本特開2013 - 242366號公報、日本特開2013 - 243371號公報、日本特開2013 - 245179號公報、日本特開2014 - 003249號公報、日本特開 2014 - 003299號公報、日本特開2014 - 013910號公報、日本特開2014 - 017493號公報、日本 特開2014 - 017494號公報等中記載的構成。
[0238]本發明的光學膜不但能夠優選用作液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置,還能夠優選 用作具備觸摸面板的圖像顯示裝置、等離子顯示器等圖像顯示裝置等的保護膜。
[0239] [實施例]
[0240] 以下,舉出實施例對本發明進行具體說明,本發明不限定于這些。應予說明,實施 例中使用"份"或者"%"的表示,只要沒有特別說明就表示"質量份"或者"質量%"。
[0241] 〔實施例1〕
[0242] 將以下的實施例中使用的化合物與其縮寫一并示出。
[0243] 低分子量化合物
[0244] L1:4 一羥基苯乙烯
[0245] L3:下述PEl的n = 10、m=l的化合物
[0246] L4:下述PE2的n = 45的化合物
[0247] L5:乙二醇
[0248] L6:甲基丙烯酸甲酯/丙烯酰嗎啉(摩爾比8/2)的共聚物
[0249] 紫外線吸收劑
[0250] UVl:Tinuvin928(BASF Japan株式會社制)
[0251 ] UV2:Tinuvinl〇9(BASF Japan株式會社制)
[0252] UV3:Tinuvinl71 (BASF Japan株式會社制)
[0253] UV4:Tinuvin405(BASF Japan株式會社制)
[0254] 具有呋喃糖結構或吡喃糖結構的化合物
[0255] FP1:蔗糖苯甲酸酯
[0256] FP2:乙酰蔗糖
[0257] FP3:二乙酸蔗糖酯(六丁酸酯)
[0258] 應予說明,上述FP1~3是將羥基全部酯化的糖酯。
[0259] 聚酯系化合物
[0261]樹脂(環烯烴系樹脂)
[0262] C0P1:環烯烴系樹脂(ARTON G7810JSR株式會社制)
[0263] C0P2:環烯烴系樹脂(ARTON RX4500JSR株式會社制)
[0264] C0P3:環烯烴系樹脂(ARTON R5000JSR株式會社制)
[0265] 二氧化硅粒子
[0266] A:下述制造例A中制備的反應性無機微粒A(平均一次粒徑13nm的二氧化娃粒子) [0267] B:下述制造例B中制備的反應性無機微粒B(平均一次粒徑46nm的二氧化娃粒子) [0268] C:下述制造例C中制備的反應性無機微粒C(平均一次粒徑87nm的二氧化娃粒子)
[0269] D:平均粒徑12nm的二氧化硅粒子(日產化學工業株式會社制,SNOWTEX N)
[0270] 〔二氧化硅粒子的制備〕
[0271] (制造例A:反應性無機微粒A的制備)
[0272] (1)表面吸附離子除去
[0273] 將水分散膠體二氧化硅(日產化學工業株式會社制,SNOWTEX N,平均粒徑12nm, PH9.0~10.0)使用陽離子交換樹脂(三菱化學株式會社制,Diaion SKlB)500g進行3小時離 子交換。接下來,使用陰離子交換樹脂(三菱化學株式會社制,SA20A)300g進行3小時離子交 換。其后,使用離子交換水清洗,由此得到固體成分濃度20質量%的二氧化硅微粒水分散 體。Na2〇含量為5ppm。
[0274] (2)表面處理(單體的導入)
[0275] 向進行了上述(1)的處理的無機微粒的水分散體20g中加入300ml的異丙醇、4.0g 的3,6,9一三氧雜癸酸以及4.0g的甲基丙烯酸,攪拌1小時。將得到的混合液一邊在60°C加 熱6小時一邊攪拌,由此得到無機微粒中了導入甲基丙烯酰基的無機微粒分散體。將得到的 無機微粒分散體使用旋轉蒸發器餾去蒸留水、異丙醇、甲基丙烯酸,為了防止干固而加入作 為溶劑1的甲基乙基酮,得到固體成分40質量%的二氧化硅分散甲基乙基酮溶液。殘留的 水、異丙醇為0.1質量%以下。得到的反應性無機微粒A利用粒度分析計(日機裝株式會社制 Microtrac)進行測定,平均一次粒徑為d55 = 13nm。
[0276] (制造例B:反應性無機微粒B的制備)
[0277] (1)表面吸附離子除去
[0278] 使用水分散膠體二氧化硅(日產化學工業株式會社制,SNOWTEX 0L,平均一次粒徑 44nm,pH2.0~4.0),與制造例1同樣地得到除去了表面吸附離子的無機微粒的水分散液。
[0279] (2)表面處理(單體的導入)
[0280] 在制造例A中,將甲基丙烯酸變更為二季戊四醇五丙烯酸酯(Sartomer株式會社 制,SR399),用與制造例A相同的方法進行表面處理,得到經表面處理的固體成分40質量% 的甲基異丁基酮分散液B。
[0281 ]得到的反應性無機微粒B利用上述粒度分析計測定的結果為d55 = 46nm的平均一次 粒徑。
[0282] (制造例C:反應性無機微粒C的制備)
[0283] 將水分散膠體二氧化硅(日產化學工業株式會社制,SNOWTEX ZL,平均粒徑85nm, PH9.0~10.0)使用旋轉蒸發器,從水溶劑置換為甲基異丁基酮,得到二氧化硅微粒20質 量%的分散液。向該甲基異丁基酮分散液100質量份中添加20質量份3-甲基丙烯酰氧基丙 基甲基二甲氧基硅烷,在50°C加熱處理1小時。使用蒸發器餾去甲基異丁基酮和3 -甲基丙 烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷,為了防止干固而加入甲基乙基酮,由此得到經表面處理 的固體成分40質量%的甲基異丁基酮分散液C。
[0284]得到的反應性無機微粒C利用上述粒度分析計測定的結果為d55 = 87nm的平均一次 粒徑。
[0285]〔硬涂層涂布液〕
[0286](硬涂層涂布液1 (HC1))的制備)
[0287]制備下述組成的硬涂層涂布液1。將紫外線固化型樹脂、表面活性劑和丙二醇單甲 醚混合后,攪拌該混合液30分鐘,制備硬涂層涂布液1。
[0288]紫外線固化型樹脂(A-DPH,新中村化學制)60質量份
[0289]表面活性劑(Surflon S - 651,AGC SEIMI CHEMICAL公司制)0.1 質量份
[0290]二氧化硅粒子A(甲基乙基酮40質量%分散品)100質量份
[0291] 丙二醇單甲醚(PGME:溶劑2) 40質量份
[0292] 《光學膜1的制作》
[0293] 〔主膠漿的制備〕
[0294] 制備下述組成的主膠漿。首先在加壓溶解罐中添加二氯甲烷和乙醇。邊攪拌邊向 加入了二氯甲烷和乙醇的混合溶液的加壓溶解罐投入環烯烴系樹脂。對其進行加熱,攪拌 而完全溶解。對其使用安積濾紙株式會社制的安積濾紙No. 244進行過濾,制備主膠漿。
[0295] (主膠漿)
[0296] C0P1 1〇〇 質量份
[0297] 二氯甲烷200質量份
[0298] 乙醇 10質量份
[0299] 將以上的成分投入密閉容器中,邊攪拌邊溶解而制備主膠漿。接著,使用環形帶流 延裝置,將膠漿以溫度31°C、1800mm寬度均勻流延在不銹鋼帶基體上。不銹鋼帶的溫度控制 在 28°C。
[0300] 在不銹鋼帶基體上使溶劑蒸發直到流延(澆鑄)的膜中的殘留溶劑量為30%。接 著,以剝離張力128N/m從不銹鋼帶基體上剝離。剝離的膜料卷在拉伸開始時的殘留溶劑為5 質量%。接著,邊用多個滾筒搬運干燥區域邊結束干燥,用激光刀將用拉幅機夾具夾持的端 部分割,其后進行卷繞,制作厚度30μπι的樹脂膜1。
[0301] 在上述得到的樹脂膜1的單面,使用微型凹版涂布將硬涂層涂布液1以干膜厚5μπι 的方式進行涂布、干燥。
[0302]接著,使用高壓汞燈,在大氣下向該涂膜以光量270mJ/cm2進行紫外線照射而固 化,制作在樹脂膜1形成有硬涂層的光學膜1。
[0303]《光學膜2的制作》
[0304]在光學膜1的制作中如下改變主膠漿,除此以外,與光學膜1的制作同樣地制作樹 脂膜2和光學膜2。
[0305](主膠漿)
[0307]其他與光學膜1的制作同樣地制作樹脂膜2和光學膜2。
[0308]《光學膜3~39的制作》
[0309]在光學膜2的制作中,如表1和表2所示改變主膠漿中含有的環烯烴系樹脂(表1、2 中簡記為樹脂)的種類、添加劑的種類及其量、以及硬涂層中的二氧化硅粒子與紫外線固化 樹脂(UV樹脂)的比率、二氧化硅粒子的種類、硬涂層涂布液中使用的溶劑、硬涂層的厚度, 與光學膜2的制作同樣地制作樹脂膜3~39和光學膜3~39。應予說明,以硬涂層涂布液中使 用的溶劑為100質量份的方式進行制備。
[0310]《光學膜的評價》
[0311] 對制作的光學膜1~39進行鉛筆硬度、耐擦傷性、霧度以及干燥不均的評價。
[0312] 〈鉛筆硬度〉
[0313]根據JIS K 5600的標準(劃痕硬度(鉛筆法))實施。使鉛筆呈45度的角度,施加 750g的負載,進行各硬涂膜試料表面的劃痕試驗。"H"以上,則為能夠供于實用。
[0314] 〈耐擦傷性〉
[0315] 通過按以下的條件進行摩擦試驗來評價耐擦傷性。在23°C · 55%RH的環境下用帶 有500g/cm2的負載的鋼絲絨(日本鋼絲絨株式會社制,#0000)在硬涂層表面往復10次,通過 目視觀察有無傷的產生,進行以下的排序來評價。?以上則為能夠供于實用。
[0316] ◎:小于1道的傷
[0317] 〇:2道以上且小于4道的傷
[0318] Λ: 5道以上且小于8道的傷
[0319] Χ:8道以上的傷
[0320] 〈霧度〉
[0321] 根據JIS Κ 7165實施。使用D65光源來以霧度計(商品名NDH2000,日本電色工業株 式會社制)測定樣品,進行以下的排序來評價。?以上則為能夠供于實用。
[0322] ◎:小于0.2%
[0323] 〇:0.2%以上且小于0.5%
[0324] Λ:0.5% 以上且小于 1.0%
[0325] X :1.0%以上
[0326] 〈干燥不均〉
[0327] 觀察光學膜的表面如下評價不均。將帶粘合劑的黑PET膜貼到光學膜的背面,在熒 光燈下通過目視觀察評價來進行評價。對其結果如下進行排序來評價。?以上則為能夠供 于實用。
[0328] ◎:仔細觀察也看不到不均
[0329] 〇:如果仔細觀察就能看到部分不均
[0330] Λ :有弱的不均 [0331 ] X :看到不均
[0332] 將以上的結果示于表1和表2。
[0333]應予說明,表中,ΙΡΑ表示異丙醇,乙酸酯表示乙酸乙酯。另外,分子量一欄表示低 分子量化合物的重均分子量,低分子量化合物不是聚合物時,記載化合物的分子量。
[0334][表1]
[0338]由表1和表2可知本發明的光學膜的表面硬度高、耐擦傷性優異、霧度低。另外,可 知經由涂布使用2種溶劑制備的涂布液的工序而形成硬涂層時,干燥干燥不均良好。
[0339] 〔實施例2〕
[0340] 《光學膜101的制作》
[0341] 光學膜12的制作中,剝離膜料卷后,將剝離的膜料卷在160°C的條件下在寬度方向 進行40%單軸拉伸。其他于與偏振片保護膜12的制作同樣地制作樹脂膜101和光學膜101。
[0342] 《光學膜102的制作》
[0343] 光學膜12的制作中,剝離膜料卷后,將剝離的膜料卷在160°C的條件下使用圖2A所 示的拉幅機以拉伸的方向相對于長邊方向為45度的方向進行60%傾斜拉伸。其他與偏振片 保護膜12的制作同樣地制作樹脂膜102和光學膜102。
[0344] 《光學膜12、101、102的評價》
[0345] (延遲值的測定)
[0346] 對制作的光學膜101、102和實施例1中制作的光學膜12,使用橢偏儀(M -150,日本 分光株式會社制)分別測定波長550nm的面內方向的延遲值Ro和厚度方向的延遲值Rth。各 自的測定在寬度方向進行10點,求出平均值。
[0347] 另外,將與實施例1同樣地制作的光學膜101、102以及12按與實施例1相同的方法 和相同的評價基準,進行鉛筆硬度、耐擦傷性、霧度以及干燥不均的評價。
[0348] 將結果示于表3。
[0349] [表 3]
[0351]由表3可知本發明的光學膜的表面硬度高、耐擦傷性優異、霧度低。另外,可知光學 膜101、102作為相位差膜在液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置中是有用的。
[0352] 產業上的可利用性
[0353] 本發明的光學膜具有表面硬度高、耐擦傷性優異、霧度低的特征,能夠優選用于偏 振片、液晶顯示裝置。
【主權項】
1. 一種光學膜,其特征在于,是在含有環烯烴系樹脂的樹脂層上具有硬涂層的光學膜, 所述樹脂層在相對于所述環烯烴系樹脂為0.1~5.0質量%的范圍內含有重均分子量Mw在 100~10000的范圍內的低分子量化合物,并且所述硬涂層含有紫外線固化樹脂和二氧化硅 粒子。2. 根據權利要求1所述的光學膜,其特征在于,所述樹脂層中含有的所述低分子量化合 物為紫外線吸收劑。3. 根據權利要求1所述的光學膜,其特征在于,所述硬涂層中含有的所述二氧化硅粒子 相對于所述紫外線固化樹脂的質量比的值、即二氧化硅粒子/紫外線固化樹脂在10/90~ 50/50的范圍內。4. 根據權利要求1所述的光學膜,其特征在于,所述二氧化硅粒子的平均一次粒徑為 200nm以下。5. 根據權利要求1所述的光學膜,其特征在于,所述硬涂層的厚度在2~15μπι的范圍內。6. 根據權利要求1~5中任一項所述的光學膜,其特征在于,在23°C · 55%RH的環境下, 光波長550nm的面內方向的延遲值R〇(550)滿足下述式(1), 式(l):100nm彡R〇(550)彡170nm。7. -種光學膜的制造方法,其特征在于,是制造在含有環烯烴系樹脂的樹脂層上具有 硬涂層的光學膜的制造方法,所述樹脂層在相對于所述環烯烴系樹脂為0.1~5.0質量%的 范圍內含有重均分子量Mw在100~10000的范圍內的低分子量化合物,所述硬涂層含有紫外 線固化樹脂和二氧化硅粒子,并且,經由將涂布液進行涂布的工序而形成硬涂層,所述涂布 液是使用醇、酯、醚或者酮中的至少2種溶劑作為含有所述紫外線固化樹脂和所述二氧化硅 粒子的涂布液的溶劑而制備的。8. -種光學膜的制造方法,其特征在于,是制造在含有環烯烴系樹脂的樹脂層上具有 硬涂層的光學膜的制造方法,所述樹脂層在相對于所述環烯烴系樹脂為0.1~5.0質量%的 范圍內含有重均分子量Mw在100~10000的范圍內的低分子量化合物,所述硬涂層含有紫外 線固化樹脂和二氧化硅粒子,并且,經由將溶解有含有所述環烯烴系樹脂的樹脂的溶液流 延在基體上的工序來制膜,形成所述樹脂層。9. 根據權利要求8所述的光學膜的制造方法,其特征在于,在所述制膜后經由將卷繞的 膜料卷開卷并在傾斜方向拉伸的工序而形成所述樹脂層。
【文檔編號】C09D7/12GK106094061SQ201610281633
【公開日】2016年11月9日
【申請日】2016年4月29日 公開號201610281633.3, CN 106094061 A, CN 106094061A, CN 201610281633, CN-A-106094061, CN106094061 A, CN106094061A, CN201610281633, CN201610281633.3
【發明人】西村浩
【申請人】柯尼卡美能達株式會社