專利名稱：拼板式背光模組的制作方法
技術領域：
本發明涉及液晶顯示屏技術領域，特別涉及拼板式背光模組。
背景技術：
目前，平面顯示器應用的液晶模塊多采用TFT-IXD技術。TFT-IXD為非主動式發光顯示，通常由白光背光模組(Backlight Module)提供均勻的系統亮度，再透過TFT-IXD液晶面板的彩色濾光膜(Color Filter)獲得豐富的色彩顯示。現行背光模塊主要分為直下式背光和側入式背光。側入式的缺點受制程工藝限制，導光板難以大尺寸應用；現行大尺寸導光板厚， 原材耗費量大，質量重；薄型大尺寸導光板工藝良率低，成本昂貴。直下式的缺點受LED點光源的混光空間限制，難以薄型化；需要使用大量光學膜片，才能解決混光問題。拼接式的難點需要大量擴散板等光學膜片才能解決拼接線斑(Mura)問題。

發明內容
本發明的目的在于提供一種組成大尺寸薄型化液晶顯示屏的拼板式背光模組。本發明一種拼板式背光模組，其與液晶模塊組成大尺寸薄型化液晶顯示屏，其依次包括背板、反射片、導光模塊、光源、混光空間、擴散板及光學膜片，導光模板和擴散板之間設有兩個以上支撐定位柱，導光模塊、支撐定位柱、擴散板和光學膜片固定在背板上，光學膜片貼附在擴散板上，所述的導光模塊是由兩個以上導光板拼接組成，光源設在導光板外側或兩個導光板之間。所述的導光板包括立面、一個反射面、一個出光面,反射面與出光面平行,立面與反射面、出光面垂直；立面包括一個以上入光面和側面，所述光源設在入光面側旁。所述的兩塊以上的導光板通過立面拼接而成，拼接方式為立面直接拼接或立面之間設有間隙拼接。所述的導光板和支撐定位柱的材質包括PMMA、PC、PS、MS或透光率>80%的有機高分子材料，導光板的厚度為O. 5 6mm。所述的光源包括CCFL、LED或Laser。所述的光學膜片包括擴散片、擴散膜、增亮片、增亮膜。所述的擴散板包括入光面和出光面，入光面上設有反射點，反射點對應導光板拼接的線斑分布，并以對應拼接的斑線為中心線向兩側縮小擴散分布；出光面為平面、或設有凸起。所述的反射點對應導光板拼接的線斑分布方式包括以拼接線斑為中心線由近至遠，反射點尺寸固定間距增大、反射點尺寸減小間距固定、或反射點尺寸減小間距增大。本發明采用以上技術方案，通過兩個以上較小尺寸的導光板拼接并搭配側入式光源，組合成大尺寸平面導光模塊；通過在擴散板的入光面上設有對應導光板拼接線斑分布的反射點，出光面上設有凸起，進行光源混光以實現背光模塊的薄型化設計。


下面結合附圖，對本發明的具體實施方式
作詳細說明
圖I是本發明拼板式背光模組的結構示意圖2是本發明拼板式背光模組的導光板結構圖3是本發明拼板式背光模組的導光模塊導光板拼接方式示意圖之一；
圖4是本發明拼板式背光模組的導光模塊導光板拼接方式示意圖之二；
圖5是本發明拼板式背光模組的擴散板結構示意圖6是本發明擴散板入光面反射點對應導光板拼接的線斑分布示意圖。
具體實施例方式如圖I或2所示，本發明一種拼板式背光模組，其與液晶模塊I組成大尺寸薄型化液晶顯不屏，其依次包括背板2、反射片3、導光模塊4、光源5、混光空間6、擴散板7及光學膜片8，導光模塊4和擴散板7之間設有兩個以上支撐定位柱9，導光模塊4、支撐定位柱9、 擴散板7和光學膜片8固定在背板2上，光學膜片8貼附在擴散板7上，所述的導光模塊4 是由兩個以上導光板40拼接組成，光源5設在導光板40外側或兩個導光板40之間。如圖2所示,所述的導光板40包括立面41、一個反射面42、一個出光面43，反射面42與出光面43平行，立面41與反射面42、出光面43垂直；立面41包括一個以上入光面411和側面412，所述光源5設在入光面411側旁。如圖3或4所示，所述的兩塊以上的導光板40通過立面41拼接而成，拼接方式為立面41直接拼接或立面41之間設有間隙拼接。所述的導光板40和支撐定位柱9的材質包括PMMA、PC、PS、MS或透光率>80%的有機高分子材料，導光板40的厚度為O. 5 6mm。所述的光源5包括CCFL、LED或Laser。所述的光學膜片8包括擴散片、擴散膜、增亮片、增亮膜。如圖5或6所示，所述的擴散板7包括入光面71和出光面72，入光面上設有反射點73，反射點73對應導光板拼接的線斑74分布，并以對應拼接的斑線74為中心線向兩側縮小擴散分布；出光面72為平面、或設有凸起75。如圖6所示，所述的反射點73對應導光板40拼接的線斑74分布方式包括以拼接線斑74為中心線由近至遠，反射點73尺寸固定間距增大、反射點尺寸減小間距固定、或反射點尺寸減小間距增大。下面進一步詳細說明
I、通過較小尺寸導光板40的立面有序拼接，再搭配側入式光源5，組合成大尺寸平面導光模塊4。I)導光板(LGP) 40
導光板40的材質包括PMMA、PC、PS、MS或其它透光率>80%的有機高分子材料，厚度為
O.5 6mm。導光板40的結構包含入光面411、反射面42、出光面43和側面412、即非入光面；導光板40包含至少一個入光面411，與光源5搭配；
導光板40包含一個反射面42，反射面42上設有光學反射網點；
導光板40包含一個出光面43，出光面43為相對于反射面42的平面；
導光板40的出光面43和反射面42的幾何形狀完全相同，可以是規則的多邊形或不規則的異形；
導光板40包含零個、一個或復數個側面412，側面412可以搭配反射率>80%的反射片， 也可以不搭配反射片；
入光面411和側面412均與出光面43垂直，出光面43與反射面42平行。2)導光模塊(LGM) 4
導光模塊4是導光板40有序拼接的組合體；
導光板40之間通過側面412進行拼接；
導光板40可以是直接拼接，也可以是間距拼接，其間距范圍受M-BLU的混光空間限
制；
導光模塊4的光學反射網點設計分為兩種形式，一是公版設計，即每塊導光板40的網點設計與光學效果都相同，其構成的導光模塊4未必具有最佳的光學效果，但簡化了制造和組裝的工藝；二是模塊化設計，即綜合考慮側入式光源5與導光模塊4的整體特性進行光學網點的排布設計，使導光模塊4達到最優化的光學效果。3)光源(Light Source) 5
光源5包括CCFL、LED、Laser或其它形式光源，其中LED可以是High Power LED ； 光源5設置于導光板40的入光面411，為側入式光源；
光源5分布于導光模塊4的周邊、內部或兼有二者。2、平面導光模塊搭配光學膜片得到M-BLU。I) M-BLU的關鍵組件與功能
M-BLU架構包含背板2、反射片3、支撐定位柱9、導光模塊4、光源5、擴散板7和光學膜片8 ；
背板2用于放置和固定光源5、導光模塊4、支撐定位柱9和光學膜片8，在某些特殊的背光模塊機構設計中，可不含背板；
支撐定位柱9為PMMA、PC、PS或其它透光率>80%的有機高分子材質，用于導光板40的定位和光學膜片8的支撐；
光源5、導光模塊4和反射片7構成平面光源模組(Flat Light Source Module, FLSM)；
反射片3置于導光模塊4的反射面下方；
擴散板7用于平面光源間的混光以及對光學膜片8的支撐；
光學膜片8包括各種擴散片(膜)和增亮片(膜)的任意組合形式。2) M-BLU的混光機制
M-BLU的光源是平面光源模組(FLSM)，屬平面光源之間的混光。利用導光板拼接技術和側入式光源的結合，得到平面光源模組，應用于直下式架構中，通過適當的混光空間，得到出光均勻的背光模組；
混光空間6的高度為導光模塊4的出光面至擴散板7的入光面的距離；混光空間6的高度⑶與平面導光模塊4中導光板40之間的間距⑵共同影響M-BLU 的混光效果，Η/P值越大，則混光效果越好；
在滿足混光要求的情況下，P越小，H也可相應減小，即減小M-BLU厚度；
當LGP間距為(T20mm時,拼接處(LGP間)會產生亮帶,形成Mura ；
適當的混光空間高度可以減弱或消除Mura ；
擴散板7和光學膜片8的搭配使用可以減弱或消除Mura，縮小混光空間6高度； 帶有光學反射圖形的擴散板7可以減弱或消除Mura，縮小混光空間6的高度；
帶有特殊擴散結構的擴散板7可以減弱或消除Mura，縮小混光空間的高度；
特殊擴散結構與光學反射圖形均可通過光學仿真軟件(如Lighttools、TracePro)進行設計模擬。3、通過在擴散板7入光面印刷光學反射圖形(Ref-Pattern)，解決M-BLU的Mura 問題，降低混光空間的高度。I)帶有光學反射圖形的擴散板(P-DP)
通過油墨印刷工藝在擴散板7的入光面71涂布光學反射圖形(Ref-Pattern)； Ref-Pattern采用光反射率>70%、透光率為O 30%的油墨材料；Ref_Pattern在擴散板上的涂布厚度<2mm,可以具有一定的凸面曲率；Ref-Pattern可以是任意幾何形狀。擴散板7的出光面72可以是平面或帶有微結構設計的表面，微結構包括Micro Lens、Lenticular Lens、Prism或其它結構形態,出光面72微結構設計可以提升混光效果。2) P-DP的混光機制
FLSM與P-DP之間的空間為混光空間6 ；
P-DP的Ref-Pattern對FLSM的Mura產生的入射光進行反射擴散，減弱Mura影響，被 Ref-Pattern所反射的光線通過FLSM的二次反射,從P-DP入光面無Ref-Pattern的位置射入，并從出光面射出，提升了 M-BLU的平面出光均勻性。3) P-DP 的 Ref-Pattern 設計
P-DP通過調整Ref-Pattern的Size、Pitch以及分布路徑,解決不同形式的Mura。Ref-Pattern的變化規則是沿Mura由亮至暗的方向，Ref-Pattern的密度由大至小變化，即Ref-Pattern沿垂直于LGP直接拼接所產生的亮帶的方向進行一維變化。Ref-Pattern變化的方式包括
T,、固定Size 即Ref-Pattern的Size固定，沿垂直于LGP直接拼接所產生的亮帶
的方向，距離Mura的中心越近，Ref-Pattern之間的Pitch越小，距離Mura的中心越遠， Ref-Pattern 之間的 Pitch 越大；
%、固定Pitch :即Ref-Pattern的Pitch固定，沿垂直于LGP直接拼接所產生的亮
帶的方向，距離Mura的中心越近，Ref-Pattern的Size越大，距離Mura的中心越遠, Ref-Pattern 的 Size 越小；
+§+、Size與Pitch協調變化即當異形LGP拼接產生的亮帶Mura形態較不規則時,沿
垂直于LGP直接拼接處亮帶的方向，Ref-Pattern的Size與Pitch作協調變化。
；|、輻射狀變化即當多塊LGP拼接的交匯處產生亮點或暗點Mura時，沿Mura
(視作圓形光斑)的法線方向，Ref-Pattern呈福射狀變化,包括固定Size、固定Pitch以及 Size與Pitch作協調變化等多種變化方式。4、通過在擴散板7入光面71壓印特殊擴散結構(Dif-Structure)，解決M-BLU的 Mura問題，降低混光空間的高度。I)帶有特殊擴散結構的擴散板(S-DP)
通過壓印或棍壓工藝在擴散板的入光面印制特殊擴散結構(Dif-Structure)；
S-DP為一體成型，材質均一；
S-DP針對光源Mura，在與擴散板7入光面71相對應的局部區域壓印Dif-Structure， 從而改變擴散板局部的透光率，提高局部霧度，掩飾光源Mura ；
Dif-Structure區域的表面結構有別于非Dif-Structure區域,可以是規則幾何形狀, 也可以是無規則形狀，可以具有一定的凹面曲率；
Dif-Structure區域與非Dif-Structure區域可以有連續漸變的過渡區；
擴散板7的出光面72可以是平面或帶有微結構設計的表面，微結構包括Micro Lens、 Lenticular Lens、Prism或其它結構形態，出光面微結構設計可以提升混光效果。2) S-DP的混光機制
FLSM與P-DP之間的空間為混光空間6 ；
FLSM的Mura產生的入射光通過S-DP的Dif-Structure區域時，先被入光面的 Dif-Structure作一次擴散,再被出光面的微結構作二次擴散,從而減弱Mura對應區域的光強，并對非Dif-Structure區域的光線進行補強，從而提升M-BLU的平面出光均勻性。3) S-DP 的 Dif-Structure 設計
S-DP通過調整Dif-Structure的Size、Pitch以及分布路徑,解決不同形式的Mura。 Dif-Structure的變化規則是沿Mura由亮至暗的方向，Dif-Structure的密度由大至小變化，即Dif-Structure沿垂直于LGP直接拼接所產生的亮帶的方向進行一維變化。Dif-Structure變化的方式包括
%、固定Size :即Dif-Structure的Size固定,沿垂直于LGP直接拼接所產生的亮帶
的方向，距離Mura的中心越近，Dif-Structure之間的Pitch越小,距離Mura的中心越遠， Dif-Structure 之間的 Pitch 越大；
%、固定Pitch :即Dif-Structure的Pitch固定,沿垂直于LGP直接拼接所產生的亮
帶的方向，距離Mura的中心越近，Dif-Structure的Size越大，距離Mura的中心越遠, Dif-Structure 的 Size 越小；
+ §:、Size與Pitch協調變化即當異形LGP拼接產生的亮帶Mura形態較不規則時,沿
垂直于LGP直接拼接處亮帶的方向，Dif-Structure的Size與Pitch作協調變化；
、輻射狀變化即當多塊LGP拼接的交匯處產生亮點或暗點Mura時，沿Mura(視作圓形光斑)的法線方向，Dif-Structure呈福射狀變化,包括固定Size、固定Pitch以及Size 與Pitch作協調變化等多種變化方式；
、漸變過度Dif-Structure區域與非Dif-Structure區域有連續漸變的過渡區。
權利要求
1.一種拼板式背光模組，其與液晶模塊組成大尺寸薄型化液晶顯示屏，其依次包括背板、反射片、導光模塊、光源、混光空間、擴散板及光學膜片，導光模板和擴散板之間設有兩個以上支撐定位柱，導光模塊、支撐定位柱、擴散板和光學膜片固定在背板上，光學膜片貼附在擴散板上，其特征在于所述的導光模塊是由兩個以上導光板拼接組成，光源設在導光板外側或兩個導光板之間。
2.根據權利要求I所述的拼板式背光模組，其特征在于所述的導光板包括立面、一個反射面、一個出光面，反射面與出光面平行，立面與反射面、出光面垂直；立面包括一個以上入光面和側面，所述光源設在入光面側旁。
3.根據權利要求2所述的拼板式背光模組，其特征在于所述的兩塊以上的導光板通過立面拼接而成，拼接方式為立面直接拼接或立面之間設有間隙拼接。
4.根據權利要求I所述的拼板式背光模組，其特征在于所述的導光板和支撐定位柱的材質包括PMMA、PC、PS、MS或透光率>80%的有機高分子材料，導光板的厚度為O. 5飛mm。
5.根據權利要求I所述的拼板式背光模組，其特征在于所述的光源包括CCFL、LED或 Laser0
6.根據權利要求I所述的拼板式背光模組，其特征在于所述的光學膜片包括擴散片、 擴散膜、增亮片、增亮膜。
7.根據權利要求I所述的拼板式背光模組，其特征在于所述的擴散板包括入光面和出光面，入光面上設有反射點，反射點對應導光板拼接的線斑分布，并以對應拼接的斑線為中心線向兩側縮小擴散分布；出光面為平面、或設有凸起。
8.根據權利要求7所述的拼板式背光模組，其特征在于所述的反射點對應導光板拼接的線斑分布方式包括以拼接線斑為中心線由近至遠，反射點尺寸固定間距增大、反射點尺寸減小間距固定、或反射點尺寸減小間距增大。
全文摘要
本發明提供了一種拼板式背光模組，其與液晶模塊組成大尺寸薄型化液晶顯示屏，其依次包括背板、反射片、導光模塊、光源、混光空間、擴散板及光學膜片，導光模板和擴散板之間設有兩個以上支撐定位柱，導光模塊、支撐定位柱、擴散板和光學膜片固定在背板上，光學膜片貼附在擴散板上。所述的導光模塊是由兩個以上導光板拼接組成，光源設在導光板外側或兩個導光板之間。通過兩個以上較小尺寸的導光板拼接并搭配側入式光源，組合成大尺寸平面導光模塊；通過在擴散板的入光面上設有對應導光板拼接線斑分布的反射點，出光面上設有凸起，進行光源混光以實現背光模塊的薄型化設計。
文檔編號F21V5/08GK102588828SQ20121000221
公開日2012年7月18日 申請日期2012年1月5日 優先權日2012年1月5日
發明者林博瑛, 林韡, 鄭俊義 申請人:冠捷顯示科技(廈門)有限公司