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一種基于量子度量非均勻照射的二次光學反射鏡設計方法與流程

文檔序號:12435310閱讀:來源:國知局
技術總結
本發(fā)明公開了一種基于量子度量的二次光學反射鏡的設計方法,滿足非均勻性光子照度需求,包括:將光源與被照射面劃分網(wǎng)格,找到光源與被照射面之間的對應關系,計算得出自由曲面法向量,根據(jù)法向量方向構建自由曲面,并填充成為反射鏡,代入光學模擬軟件,進行模擬計算,如果得到被照射面的光子照度非均勻度不能滿足要求,重復以上步驟,并修改網(wǎng)格參數(shù),直到被照射面的非均勻光子照度滿足要求。

技術研發(fā)人員:魏偉;胡學功
受保護的技術使用者:中國科學院工程熱物理研究所
文檔號碼:201611186851
技術研發(fā)日:2016.12.21
技術公布日:2017.05.31

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