專利名稱：真空涂層設備的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種真空涂層設備，用于在處理室中對帶形材料進行涂層，其中安排有解卷裝置和卷取裝置，在其間受涂層的帶形材料穿過至少一個處于處理室真空下的可真空的處理室，其中在處理室中安排至少一個冷軋輥，在所述冷軋輥的表面上方至少有兩個磁控管噴涂源，所述磁控管噴涂源彼此分開地安排在磁控管腔內。
由DE9735603C1公知由兩個處理室組成的帶形材料的真空涂層設備。在每個處理室中各設有一個輥軋臺，在輥軋臺中裝有引導裝置和冷軋輥。
依加工技術不同，通過磁控管腔壁把每個處理室分成不同的磁控管腔。在這種磁控管腔中至少安排一個磁控管噴涂源，用于對帶形材料涂層。冷軋輥的所有磁控管噴涂源及所屬的磁控管外圍都與可移開的室腔凸緣連接，用此凸緣它們可以從冷軋輥離開。
在對帶形材料涂層時也出現不希望的因此需要不時地除掉的對磁控管腔壁的涂層。所述的磁控管腔是與處理室壁連接的。為了能夠清潔磁控管腔壁，必須把它們逐個地從處理室中拆出。從而保養成本較高。
磁控管腔中的真空主要取決于從屬于各個磁控管腔的真空泵以及磁控管腔壁與冷軋輥之間的氣流阻力。
本發明旨在降低清潔磁控管腔時的保養費用，并且改善磁控管腔壁與處理室之間的氣體分離。
根據本發明，所述的任務由本文開頭所述技術的真空涂層設備解決，這是通過磁控管腔各自一方面以冷軋輥為界另一方面以磁控管腔壁為界，從而磁控管腔借助于氣流阻力部分地包圍冷軋輥，并且磁控管腔在外部完全地由處理室腔包圍，并且每個磁控管腔和處理室真空之間有可以調節的壓差。
從而構成與處理室沒有直接連接的涂層處理所必須的磁控管腔。通過調節磁控管腔與處理室之間的壓差，本發明阻止氣體進入磁控管腔內。
在本發明的一個擴展中提出，每個磁控管都連接真空產生裝置。
換言之，每個磁控管腔要么有一個僅屬于它的真空產生裝置，要么所有的磁控管腔連接一個公共的真空產生裝置。
在本發明的另一個擴展中提出，氣流阻力可以從冷軋輥駛開。
由此磁控管腔可以平行于冷軋輥軸線運動而不損傷冷軋輥的表面，其中在移動總的單元之前擴大氣流阻力與冷軋輥之間的間距。
本發明的一個優選實施例中提出，磁控管腔壁至少間接地固定在一個公共的小車上，所述小車可以平行于冷軋輥軸線駛開。
從而不論是磁控管噴涂源還是磁控管腔壁都可以為清潔及保養從冷軋輥駛開，為此自動地斷開與真空泵的連接。
在本發明的另一個優選實施例提出，在冷軋輥軸線所處水平面上方安排的磁控管腔可以從冷軋輥擺開。
通過這個措施，可以擴大所述的磁控管腔與冷軋輥的間距，并且可以在駛出前降低整個小車。
在本發明的另一個優選實施例中提出，磁控管可以與公共的小車一起下降。
首先把在冷軋輥軸線所處水平面上方安排的磁控管腔從冷軋輥擺開，接著下降整個小車，從而現在可以從冷軋輥駛離了。
在本發明的另一個優選實施例中，在由小車、磁控管噴涂源和磁控管腔組成的單元與輥軋臺之間安排定位裝置。
借助于所述的定位裝置，可以重復產生曾經進行過的，磁控管噴涂源和磁控管腔壁包括氣流阻力與相應冷軋輥的準確對齊，而不必重新花費時間。
在本發明的另一個擴展中提出，補充于磁控管腔并且與磁控管腔分開地，處理室可以抽真空。
在本發明的另一個擴展中，在處理室中的壓力小于磁控管腔中的壓力。
采用分開的處理室真空和可達到的處理室與磁控管腔之間的壓力比，可以保證各個噴涂源較高質量的氣體分開，因為氣體不能夠進入任意的磁控管腔內了。
標號
1處理室2輥軋臺3冷軋輥4磁控管噴涂源5磁控管腔壁6氣流阻力7磁控管腔8小車9額側真空泵接頭10 真空泵11 定位裝置在真空涂層設備的處理室1中安排輥軋臺2，將冷軋輥3安裝在輥軋臺2上。在冷軋輥表面上方，磁控管噴涂源4安排在不同的位置上。為了可以把磁控管噴涂源4和冷軋輥3之間的空間抽真空，該空間由磁控管腔壁5包圍，該磁控管腔壁5向著冷軋輥3用氣流阻力封閉。由此而構成各個磁控管腔7。這些磁控管腔2在其額面端具有接頭9，各用于圖中所未示的真空泵。從而可以分開且獨立地對磁控管腔7抽真空。
在處理室1上同樣地接有真空泵10，通過該真空泵與磁控管腔7無關地對處理室1抽真空。由于在磁控管腔7中放入工藝氣體，磁控管腔7中的壓力高于處理室1中的壓力，從而阻止外來氣體透入磁控管腔7。
所述的磁控管噴涂源4和磁控管腔7都固定在一個公共的小車8上，通過小車可以把它們從冷軋輥3駛離。此外，氣流阻力6允許所有的磁控管7駛離冷軋輥3。把安排在冷軋輥軸線上方的可擺的磁控管腔7從冷軋輥3擺開，然后下降整個小車。通過這些準備措施避免在駛離小車時損壞冷軋輥的表面。磁控管噴涂源4、磁控管腔7包括氣流阻力6的定位必須準確地對冷軋輥軸線進行。為了重復產生在小車8駛離前調節了的位置而不重新花費時間，裝入了定位裝置11。
權利要求
1.一種真空涂層設備，用于在處理室中對帶形材料涂層，其中安排有解卷裝置和卷取裝置，在其間被涂層的帶形材料穿過至少一個處于處理室真空下的可抽真空的處理室，其中在處理室中安排至少一個冷軋輥，在所述冷軋輥的表面上方至少有兩個磁控管噴涂源，所述磁控管噴涂源彼此分開地安排在磁控管腔內，其特征在于，磁控管腔(7)各自一方面以冷軋輥(3)為界另一方面以磁控管腔壁(5)為界，從而磁控管腔(7)借助于氣流阻力(6)部分地包圍冷軋輥(3)，并且磁控管腔壁(5)在外部完全地由處理室真空包圍，并且每個磁控管腔(7)和處理室真空之間有可以調節的壓差。
2.如權利要求1所述的真空涂層設備，其特征在于，每個磁控管(7)都連接真空產生裝置。
3.如權利要求1或2所述的真空涂層設備，其特征在于，氣流阻力(6)可以從冷軋輥(3)駛開。
4.如權利要求1至3之任何一項所述的真空涂層設備，其特征在于，磁控管腔壁(5)至少間接地固定在一個公共的小車(8)上，所述小車可以平行于冷軋輥軸線駛開。
5.如權利要求1至4之任何一項所述的真空涂層設備，其特征在于，在冷軋輥軸線所處水平面上方安排的磁控管腔(7)可以從冷軋輥(3)擺開。
6.如權利要求1至5之任何一項所述的真空涂層設備，其特征在于，可以把磁控管腔(7)與公共的小車(8)一起下降。
7.如權利要求4至6之任何一項所述的真空涂層設備，其特征在于，在由小車(8)、磁控管噴涂源(4)和磁控管腔(7)組成的單元與輥軋臺(2)之間安排定位裝置(11)。
8.如權利要求1至7之任何一項所述的真空涂層設備，其特征在于，除了對磁控管腔(7)抽真空外，處理室(1)獨立于磁控管腔(7)抽真空。
9.如權利要求8所述的真空涂層設備，其特征在于，在處理室(1)中的壓力小于磁控管腔(7)中的壓力。
全文摘要
本發明涉及到一種真空涂層設備，用于在處理室中對帶形材料涂層，其中安排有解卷裝置和卷取裝置，在其間被涂層的帶形材料穿過至少一個處于處理室真空下的可抽真空的處理室，其中在處理室中安排至少一個冷軋輥，在所述冷軋輥的表面上方至少有兩個磁控管噴涂源，所述磁控管噴涂源彼此分開地安排在磁控管腔內，本發明旨在降低清潔磁控管腔時的保養費用，并且改善磁控管腔壁與處理室之間的氣體分離。所述的任務的解決一方面是通過磁控管腔由分開的磁控管腔壁構成，所述磁控管腔壁在其離冷軋輥表面而去的側面包圍各個磁控管噴涂源，其中磁控管腔壁，與磁控管噴涂源一樣，至少間接地固定在一個公共的小車上，所述小車可以平行于冷軋輥軸線駛開，另一方面是通過分開地為處理室和磁控管腔抽真空，在此磁控管腔中的工藝壓力高于處理室中的工藝壓力。
文檔編號C23C14/34GK1408898SQ02144430
公開日2003年4月9日 申請日期2002年9月27日 優先權日2001年9月27日
發明者沃爾夫岡·埃爾比克姆, 漢斯·克里斯蒂安·黑希特, 邁克爾·霍夫曼, 法爾克·米爾德 申請人:馮·阿德納設備有限公司