專利名稱：用于鉬的化學蝕刻溶液的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種化學蝕刻溶液，特別是涉及一種適用于鉬的化學蝕刻溶液。
背景技術(shù)：
化學蝕刻是通過化學反應利用化學溶液的腐蝕作用將不需要的金屬快速溶解除掉的過程。化學蝕刻的基本流程是將初始金屬件進行常規(guī)的清洗和除油使表面清潔，進而在其表面涂覆光刻膠，并按照加工圖樣進行光刻膠的曝光，而后進行顯影和堅膜處理，再利用化學蝕刻溶液腐蝕暴露的金屬，待腐蝕過程結(jié)束后，再將表面的膠用強堿性溶液去掉，最后用水清洗干凈得到蝕刻加工工件產(chǎn)品。
目前已有的化學蝕刻溶液主要是針對不銹鋼、銅、鎳等金屬微細加工的化學蝕刻溶液，而對于鉬的化學蝕刻溶液尚未見報道。由于金屬鉬具有高耐蝕性、耐高溫性、高導電性和高耐磨性，其作為特種功能材料的使用極為廣泛，但由于其高硬度難于機械加工微細結(jié)構(gòu)，而目前涉及微細加工的要求正逐漸增多，為此用于鉬的化學蝕刻溶液的需求也日益緊迫。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種用于鉬的化學蝕刻溶液，它能滿足現(xiàn)有技術(shù)的上述需求。
一種用于鉬的化學蝕刻溶液，其特征在于由硫酸、硝酸和水所組成，它們的體積百分數(shù)范圍為硫酸5％-35％、硝酸5％-25％、水40％-90％；所述的硫酸濃度為95％-98％、硝酸的濃度為65％-68％。
本發(fā)明的蝕刻溶液可在常溫下使用，具有腐蝕速度快，側(cè)蝕小，溶液使用壽命長和加工成本低等優(yōu)點，即使在靜止溶液中也可實現(xiàn)鉬的快速蝕刻。
具體實施例方式
實施例1將50毫升的硫酸(98％(重量百分數(shù)，下同)的溶液，密度1.84)，150毫升的硝酸(67％的溶液，密度1.40)與800毫升的水混合在一起，將所得的蝕刻溶液按現(xiàn)有的蝕刻工藝對鉬電極板(燃料電池的極板部件)進行化學蝕刻。蝕刻溫度為30℃，操作時將0.1mm厚的鉬電極板靜止浸泡在該蝕刻溶液中，大約7分鐘后腐蝕爛穿，其最小線徑為0.12mm，孔徑為0.18mm。該蝕刻溶液的使用壽命可以達到每升溶解60克鋁。
實施例2將350毫升的硫酸(98％的溶液，密度1.84)，200毫升的硝酸(67％的溶液，密度1.40)與450毫升的水混合在一起，將所得的蝕刻溶液按現(xiàn)有的蝕刻工藝對鉬電極板(燃料電池的極板部件)進行化學蝕刻。蝕刻溫度為20℃，操作時將0.8mm厚的鉬電極板靜止浸泡在該溶液中，大約50分鐘后腐蝕爛穿，其最小線徑為0.96mm，孔徑為1.5mm。
實施例3將50毫升的硫酸(98％的溶液，密度1.84)，150毫升的硝酸(67％的溶液，密度1.40)，0.5g EDTA與800毫升的水混合在一起，將所得的蝕刻溶液按現(xiàn)有的蝕刻工藝對鉬電極板(燃料電池的極板部件)進行化學蝕刻。蝕刻溫度為25℃，操作時將0.1mm厚的鉬電極板靜止浸泡在該溶液中，大約7分鐘后腐蝕爛穿，其最小線徑為0.12mm，孔徑為0.18mm。該溶液的使用壽命可以達到每升溶解98克鉬。
本發(fā)明中所用的硫酸為市售的濃硫酸，其濃度為95％-98％；所用的硝酸為市售的濃硝酸，其濃度為65％-68％。
為了延長溶液的使用壽命可以加入少量絡(luò)合劑乙二胺四乙酸二鈉(EDTA)，用量在0.01~1g/L范圍內(nèi)；本化學蝕刻溶液的使用溫度范圍為20~40℃，可以采用在靜止的或流動的化學蝕刻溶液中兩種加工方式，當在使用溫度25℃的靜止溶液中加工時，鉬的化學蝕刻速度為8微米/分鐘。
本蝕刻溶液可以廣泛應用于電子工業(yè)、光學儀表工業(yè)、石化工業(yè)、制藥設(shè)備工業(yè)、核工業(yè)、半導體加工業(yè)、燃料電池和軍事裝備等的重要元器件和結(jié)構(gòu)件的化學蝕刻加工過程中。
權(quán)利要求
1一種用于鉬的化學蝕刻溶液，其特征在于由硫酸、硝酸和水所組成，它們的體積百分數(shù)范圍為硫酸5％-35％、硝酸5％-25％、水40％-90％；所述的硫酸濃度為95％-98％、硝酸的濃度為65％-68％。
2根據(jù)權(quán)利要求1所述的溶液，其特征在于它含有一種添加劑乙二胺四乙酸二鈉，該添加劑的濃度為0.01-1g/L。
全文摘要
一種用于鉬的化學蝕刻溶液，其特征在于由硫酸、硝酸和水所組成，它們的體積百分數(shù)范圍為硫酸5％－35％、硝酸5％－25％、水40％－90％；所述的硫酸濃度為95％－98％、硝酸的濃度為65％－68％。它還可以含有一種添加劑乙二胺四乙酸二鈉，該添加劑的濃度為0.01－1g/L。本發(fā)明的蝕刻溶液可在常溫下使用，具有腐蝕速度快，側(cè)蝕小，使用壽命長和加工成本低等優(yōu)點，即使在靜止溶液中也可實現(xiàn)鉬的快速蝕刻。
文檔編號C23F1/10GK1743509SQ20051004485
公開日2006年3月8日 申請日期2005年9月21日 優(yōu)先權(quán)日2005年9月21日
發(fā)明者徐海波, 王佳, 王偉, 姜應律, 王燕華 申請人:中國海洋大學