專利名稱：多元素濺射靶材結構的制作方法
技術領域：
本實用新型屬薄膜材料制備領域，涉及一種多元素濺射靶材結構。
背景技術：
磁控濺射是薄膜材料制備的重要手段之一，廣泛應用于科研和生 產(chǎn)中，因此磁控濺射用靶材的制備尤為重要。合金靶材即可用于合金 薄膜的制備，也可通過反應濺射制備陶瓷薄膜，應用于諸多領域。通 常情況下，多采用熔煉鑄造技術或粉末冶金技術制備合金靶材，但這 兩種技術不適宜制備組元熔點差異較大、或部分組元易于揮發(fā)及凝固 過程中合金成份發(fā)生較大偏析的合金靶材。實用新型專利
(200520114360.0)設計了一種多元素濺射靶材結構，該結構適于制 備多元素濺射靶材，并在實驗中廣泛使用，但由于靶材使用效率較低， 造成原材料浪費，增加了生產(chǎn)成本。本實用新型通過改變?yōu)R射靶材結 構，在不影響使用的前提下降低了原材料成本，并有利于剩余靶材的 回收。

實用新型內容
本實用新型的目的是為解決背景技術要求實現(xiàn)不受組元熔點差 異和組元揮發(fā)影響，成分分布均勻，成份可調，節(jié)省原材料的磁控濺 射用靶材結構，提供一種多元素濺射靶材結構，其特征在于，耙材濺射環(huán)區(qū)域2是與圓形的金屬背板5同圓心的圓環(huán)，金屬元素濺射靶材 3鑲嵌在靶材濺射環(huán)區(qū)域2內，并通過焊接層4焊接在圓形的金屬背
板5上，賤金屬薄板靶材胎體1通過焊接層4焊接在圓形的金屬背板 5的其余部分。
所述金屬元素濺射耙材3為A貴金屬薄板圓環(huán)6。
所述金屬元素濺射耙材3為各以6 12個B貴金屬薄板扇形面7 和C貴金屬薄板扇形面8等間隔交替鑲嵌在濺射環(huán)區(qū)域2的圓環(huán)內。
本實用新型用于單元素濺射靶材時，將一種貴金屬材料鑲嵌在濺 射環(huán)區(qū)域2內，并通過焊接層4與金屬背板5連接。
對于多元素濺射靶材，根據(jù)薄膜成份及濺射元素性質計算耙材中 主元靶材和次元靶材貴金屬組分比例關系，并按此比例計算各組元在 濺射環(huán)區(qū)域所占比例，再將每個組元面積分割為6 12等份扇形面， 最后加工出各濺射組元的扇形塊，并將各組元材料交替等間隔鑲嵌于 濺射環(huán)區(qū)域2。
本實用新型的有益效果為，各組元在濺射環(huán)區(qū)域呈同心扇形分布， 因此其組元成份比例均勻、穩(wěn)定、易于控制；通過調整靶材濺射環(huán)中 各組元區(qū)域面積的大小，可以方便調整靶材成份；由于只在濺射環(huán)區(qū) 域有價格昂貴的材料，降低了靶材成本；本結構中各組元未合金化， 因此有利于靶材廢料回收。


圖1為本實用新型靶面結構示意圖；圖2為濺射靶材結構焊接示意圖3為單元素濺射靶材結構示意圖； 圖4為多元素濺射靶面結構示意圖中，l為賤金屬薄板靶材胎體，2為濺射環(huán)區(qū)域，3為金屬元素 濺射靶材，4為焊接層，5為金屬背板，6為A貴金屬薄板圓環(huán)，7為 B貴金屬薄板扇形面，8為C貴金屬薄板扇形面具體實施方式
以下結合附圖，說明本實用新型的具體實施方式
。圖l為本實用 新型靶面結構示意圖，靶材濺射環(huán)區(qū)域2是與圓形的金屬背板5同圓 心的圓環(huán)，賤金屬薄板靶材胎體1和濺射環(huán)區(qū)域2組成的圓面全部覆 蓋圓形的金屬背板5。如圖2所示，金屬元素濺射靶材3通過焊接層4 焊接在圓形的金屬背板5上。圖3為單元素濺射靶材結構示意圖，對 于單一貴金屬濺射靶材，可采用圖3所示結構。圖4為多元素濺射耙 面結構示意圖，對于多元素貴金屬濺射靶材，根據(jù)薄膜成份及濺射元 素性質計算靶材中主元靶材和次元靶材組分比例關系，并按此比例關 系計算各組元在濺射區(qū)域所占比例，再把每個組元面積分割為6 12 等份的B貴金屬薄板扇形面7和C貴金屬薄板扇形面8，最后加工出 各濺射組元的扇形塊，并將各組元材料鑲嵌于濺射環(huán)區(qū)域，濺射環(huán)區(qū) 域2以外部分為賤金屬薄板靶材胎體1，通過焊接層4與金屬背板5 連接，用以固定濺射材料各扇形塊。
本實用新型用于磁控濺射薄膜材料制備設備。
權利要求1.一種多元素濺射靶材結構，其特征在于靶材濺射環(huán)區(qū)域(2)是與圓形的金屬背板(5)同圓心的圓環(huán)，金屬元素濺射靶材(3)鑲嵌在靶材濺射環(huán)區(qū)域(2)內，并通過焊接層(4)焊接在圓形的金屬背板(5)上，賤金屬薄板靶材胎體(1)通過焊接層(4)焊接在圓形的金屬背板(5)的其余部分。
2. 根據(jù)權利要求1所述的一種多元素濺射靶材結構，其特征在 于，所述金屬元素濺射靶材(3)為A貴金屬薄板圓環(huán)(6)。
3. 根據(jù)權利要求1所述的一種多元素濺射靶材結構，其特征在 于，所述金屬元素濺射靶材(3)為各以6 12個B貴金屬薄板扇形 面(7)和C貴金屬薄板扇形面(8)等間隔交替鑲嵌在濺射環(huán)區(qū)域(2) 的圓環(huán)內。
專利摘要本實用新型公布一種多元素濺射靶材結構，屬薄膜材料制備領域。金屬元素薄板靶材通過焊接層焊接在圓形的金屬背板上，在靶材的濺射環(huán)區(qū)域內主元靶材和次元靶材各以6～12個扇形面交替等間隔鑲嵌在靶材濺射環(huán)區(qū)域內。特別適用于貴金屬靶材結構。本實用新型各組元在濺射環(huán)區(qū)域呈同心扇形分布，其組元成份比例均勻、穩(wěn)定、易于控制。通過調整靶材濺射環(huán)中各組元區(qū)域面積的大小，可調整靶材成份。只在濺射區(qū)域有價格昂貴的貴金屬材料，降低了靶材成本，各組元未合金化，因此有利于靶材廢料回收。本實用新型用于磁控濺射薄膜材料制備設備。
文檔編號C23C14/14GK201330279SQ20082012458
公開日2009年10月21日 申請日期2008年12月25日 優(yōu)先權日2008年12月25日
發(fā)明者古宏偉, 飛 屈, 堅 楊 申請人:北京有色金屬研究總院