專利名稱：用于真空濺射沉積薄膜的設備的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種用于真空濺射沉積薄膜的設備。
背景技術：
目前，塑材工件的電磁波干擾遮蔽膜是一層金屬薄膜，該金屬薄膜通過真 空濺射物理氣相沉積濺射在塑材工件上，整個過程需要在真空環境中進行。 原有技術中，真空濺射沉積薄膜設備的主濺射區內部的傳送系統為帶有電動 機的自動傳送系統，外部傳送系統為萬向滾輪回送線。需濺射的工件放置在 傳送平臺上，經前負載腔體抽氣后，直接進入濺射區腔體進行濺射沉積薄膜， 傳送平臺被自動送出濺射區腔體進入后負載腔體進行充氣，通過回送線升降 臺送至外部傳送系統，由專人負責將傳送平臺通過萬向滾輪回送線推回到進 料口處，進行下一輪回作業。濺射沉積薄膜設備中有需要濺射的金屬靶極， 靶極上的金屬離子通過物理氣相沉積濺射在塑材工件上。因為現有濺射沉積 薄膜設備的濺射靶極組數量、腔體內的抽氣速率不足等，造成濺射沉積薄膜 的厚度不厚，無法滿足產品的要求；又由于需要專人負責將傳送平臺通過萬 向滾輪回送線推回到進料口處，會導致傳送平臺積壓在外部傳送系統，效率 降低，人工成本高。
發明內容
為了克服現有技術的不足，本實用新型的目的是提供一種作業效率高、 抽氣速度快、濺射薄膜厚度厚的帶有自動回送線的真空濺射沉積薄膜的設備。
為解決以上技術問題，本實用新型采取的技術方案是 一種用于真空濺射 沉積薄膜的設備，包括依次設置的前升降臺、前負載腔體、主濺射區、后負載 腔體、后升降臺、外部回送系統，所述的主濺射區設置有多個濺射區；所述的 外部回送系統為自動回送線，所述的自動回送線包括多個回送單元，該回送單 元包括回送線支架、回送線平臺、回送線傳動軸、回送線傳動輪、回送線馬達， 所述的回送線平臺置于所述的回送線支架上，所述的的回送線傳動軸可轉動地 設置在所述的回送線平臺上，所述的回送線傳動輪固定安裝在所述的回送線傳 動軸上，所述的回送線傳動軸由所述的回送線馬達帶動傳動。
所述的各濺射區均包括一個濺射區腔體，所述的濺射區腔體上部設置有靶極組，所述的靶極組包括多個靶材、多個靶材吊環、多個靶材法蘭口，所述的 靶材位于所述的濺射區腔體內部，所述的靶材吊環與耙材法蘭口位于所述的濺 射區腔體的外部，所述的濺射區腔體下部設置有內部流通冷卻水的多塊遮板、 濺射區傳動輪及傳動鏈條，所述的遮板上具有遮板入水口和遮板出水口，所述 的遮板入水口和遮板出水口延伸至所述的濺射區腔體外部，所述的多個濺射區 的濺射區腔體是依次相連的。
優選地，所述的主濺射區設有至少五個濺射區。
本實用新型具有如下優點提高了抽氣速率及靶極濺射能力，增加了濺射 薄膜厚度；又由于增加了自動回送線，提髙了效率，降低了成本。


附圖1為本實用新型整體結構俯視圖； 附圖2為本實用新型整體結構主視圖 附圖3為四號濺射區俯視附圖4為四號濺射區主視圖； 附圖5為四號濺射區左視圖； 附圖6為五號濺射區俯視圖； 附圖7為五號濺射區主視圖； 附圖8為五號濺射區左視圖； 附圖9為升降臺俯視圖； 附圖IO為升降臺主視圖； 附圖11為回送單元俯視圖； 附圖12為回送單元主視其中1、前升降臺；2、前負載腔體；3、 一號濺射區；4、 二號濺射區； 5、三號濺射區；6、四號濺射區；7、五號濺射區；8、后負載腔體；9、后升 降臺；10、回送單元；11、剪型支架；12、氣壓缸；13、升降臺傳動輪；14、 升降臺軸承；15、升降臺傳動馬達；16、升降臺底座；17、升降平臺；18、 升降臺光電開關；20、傳送平臺；61、四號濺射區腔體；62、靶材；63、靶 材吊環；64、靶材法蘭口； 65、四號濺射區遮板66、四號濺射區撥桿開關； 67、四號濺射區傳動輪；68、四號濺射區軸承；69、四號濺射區遮板入水口； 691、四號濺射區遮板出水口； 71、五號濺射區腔體；72、五號濺射區遮板；73、五號濺射區傳動輪；74、五號濺射區軸承；75、五號濺射區擴散泵浦；
76、五號濺射區泵浦法蘭口； 77、五號濺射區擴散泵主閥；78、五號濺射區 傳動鏈條；79、五號濺射區遮板入水口； 791、五號濺射區遮板出水口； 101、 回送線傳動輪；102、回送線傳動軸；103、回送線軸承；104、回送線支架； 105、回送線平臺；106、回送線馬達；107、回送線光電開關。
具體實施方式
塑材工件的電磁波干擾遮蔽膜是一層金屬薄膜，該金屬薄膜通過金屬離
子真空濺射物理氣相沉積濺射在塑材工件3上，整個過程需要在真空環境中 進行。如附圖1和2所示，真空濺射沉積薄膜的設備包括依次設置的前升降 臺1、前負載腔體2、主濺射區、后負載腔體8、后升降臺9、外部回送系統， 主濺射區包括一號濺射區3、 二號濺射區4、三號濺射區5,為了增加沉積薄 膜的厚度和提高抽氣速率，增加了四號濺射區6和五號濺射區7。如附圖3、 附圖4和附圖5所示，四號濺射區6包括一個四號濺射區腔體61，四號濺射 區腔體61的上部設置有一套靶極組，靶極組包括靶材62、靶材吊環63、靶 材法蘭口 64,靶材由所濺射金屬薄膜的金屬材料制成，靶材62位于四號濺射 區腔體61內部，靶材吊環63與靶材法蘭口 64位于四號濺射區腔體61的外 部；四號濺射區腔體61的下部包括內部通有冷卻水的兩塊四號濺射區遮板65、 四號濺射區撥桿開關66、用于傳送傳送平臺20的四號濺射區傳動輪67和四 號濺射區軸承68，四號濺射區遮板65上具有四號濺射區遮板入水口 69和四 號濺射區遮板出水口 691,四號濺射區遮板入水口 69和四號濺射區遮板出水 口 691延伸至四號濺射區腔體61外部，濺射過程會產生大量的熱量使腔體溫 度升髙，為了防止塑材工件3在高溫下的變形，通過通有冷卻水的遮板65來 進行冷卻。二號濺射區4的也設置有與四號濺射區6相同的部件，該些部件 包括靶極組、腔體、遮板、遮板入水口、遮板出水口、撥桿開關、傳動輪、 軸承，它們的結構和連接關系與四號濺射區6的對應部件相同。如附圖6、附 圖7和附圖8所示，五號濺射區7包括一個五號濺射區腔體71,五號濺射區 腔體71的上部設置有兩套靶極組，五號濺射區腔體71的下部包括兩塊五號 濺射區遮板72、五號濺射區傳動輪73、五號濺射區軸承74、兩個五號濺射區 擴散泵浦75、五號濺射區泵浦法蘭口 76、五號濺射區擴散泵主閥77、五號濺 射區傳動鏈條78,五號濺射區遮板72上具有五號濺射區遮板入水口 79和五號濺射區遮板出水口 791，五號濺射區遮板入水口 79和五號濺射區遮板出水 口 791延伸至五號濺射區腔體71外部。 一號濺射區3、三號濺射區5的也各 設置有與四號濺射區6相同的部件，該些部件包括靶極組、腔體、遮板、遮 板入水口、遮板出水口、傳動輪、軸承、兩個擴散泵浦、泵浦法蘭口、擴散 泵主閥、傳動鏈條，它們的結構和連接關系與五號濺射區7的對應部件相同。 五個濺射區內的各腔體是連通的，泵浦持續的工作進行抽氣。主濺射區的前 面是一個用來粗抽氣的前負載腔體2，主濺射腔體的后面的是一個用來充氣的 后負載腔體8。前負載腔體2的前面是一個前升降臺1,后負載腔體8的后面 是一個后升降臺9，升降臺用來提升和降低傳送平臺20，前升降臺1和后升 降臺9的構造相同，如附圖9和附圖IO所示，升降臺包括剪型支架11、置于 剪型支架11里面的氣壓缸12、用于傳送傳送平臺20的升降臺傳動輪13和升 降臺軸承14、升降臺傳動馬達15、升降臺底座16、升降平臺17、升降臺光 電開關18。濺射區腔體的下面是和升降臺連接著的自動回送線，自動回送線 可根據濺射區的長度來加長和縮短，自動回送線包括五段回送單元10，如附 圖11和附圖12所示，每段回送單元10包括回送線傳動輪101、回送線傳動 軸102、回送線軸承103、回送線支架104、回送線平臺105、回送線馬達106、 回送線光電開關107，回送線平臺105置于回送線支架104上，回送線傳動軸 102可轉動地設置在回送線平臺105上，回送線傳動輪101固定安裝在回送線 傳動軸102上，回送線傳動軸102由回送線馬達106帶動傳動，回送線光電開 關107用來檢測回送線平臺105上是否有傳送平臺20，檢測到傳送平臺20時 啟動回送線馬達106進行傳送平臺20的傳送。
本實施例的工作過程為將多個需濺射的工件放置在傳送平臺20上，傳送 平臺20經前升降臺1傳送至前負載腔體2,在前負載腔體2中進行粗抽氣， 當前負載腔體2的真空度達到要求后把傳送平臺20送入一號濺射區3腔體進 行濺射沉積薄膜，濺射薄膜完成后，按次序進入二號濺射區4、三號濺射區5、 四號濺射區6、五號濺射區7進行濺射薄膜，主濺射區的多個擴散泵浦持續的 工作進行抽氣，使主濺射區腔體內的真空度保持在一定的范圍內，濺射薄膜 完成后傳送平臺20被自動送出濺射腔體進入后負載腔體8，負載腔體8充氣 至大氣壓，充氣結束后通過后升降臺9送至自動回送線，經自動回送線自動 返回至進料口處，取下已經濺射薄膜結束的工件，放上需濺射的工件進行下 一輪的濺射。由于比傳統濺射薄膜的設備增加了四號濺射區6和五號濺射區7，即增加了濺射區腔體、抽氣系統各兩套及靶極組三套，可確保在原有制程條 件下提高抽氣速率及靶極濺射能力，設備改善后濺射薄膜的厚度增加了；又 由于增加了自動回送線，提髙了效率，降低了成本。
權利要求1、一種用于真空濺射沉積薄膜的設備，包括依次設置的前升降臺(1)、前負載腔體(2)、主濺射區、后負載腔體(8)、后升降臺(9)、外部回送系統，其特征在于所述的主濺射區設置有多個濺射區；所述的外部回送系統為自動回送線，所述的自動回送線包括多個回送單元(10)，該回送單元(10)包括回送線支架(104)、回送線平臺(105)、回送線傳動軸(102)、回送線傳動輪(101)、回送線馬達(106)，所述的回送線平臺(105)置于所述的回送線支架(104)上，所述的的回送線傳動軸(102)可轉動地設置在所述的回送線平臺(105)上，所述的回送線傳動輪(101)固定安裝在所述的回送線傳動軸(102)上，所述的回送線傳動軸(102)由所述的回送線馬達(106)帶動傳動。
2、 根據權利要求1所述的用于真空濺射沉積薄膜的設備，其特征在于 所述的各濺射區均包括一個濺射區腔體，所述的濺射區腔體上部設置有靶極 組，所述的靶極組包括多個靶材、多個靶材吊環、多個靶材法蘭口，所述的靶 材位于所述的濺射區腔體內部，所述的靶材吊環與靶材法蘭口位于所述的濺射 區腔體的外部，所述的濺射區腔體下部設置有內部流通冷卻水的多塊遮板、濺 射區傳動輪及傳動鏈條，所述的遮板上具有遮板入水口和遮板出水口，所述的 遮板入水口和遮板出水口延伸至所述的濺射區腔體外部，所述的多個濺射區的 濺射區腔體是依次相連的。
3、 根據權利要求1或2所述的用于真空濺射沉積薄膜的設備，其特征在 于所述的主濺射區設有至少五個濺射區。
專利摘要本實用新型涉及一種用于真空濺射沉積薄膜的設備，包括依次設置的前升降臺、前負載腔體、主濺射區、后負載腔體、后升降臺、外部回送系統，所述的主濺射區設置有多個濺射區；所述的外部回送系統為自動回送線，所述的自動回送線包括多個回送單元，該回送單元包括回送線支架、回送線平臺、回送線傳動軸、回送線傳動輪、回送線馬達，所述的回送線平臺置于所述的回送線支架上，所述的回送線傳動軸可轉動地設置在所述的回送線平臺上，所述的回送線傳動輪固定安裝在所述的回送線傳動軸上，所述的回送線傳動軸由所述的回送線馬達帶動傳動。本實用新型的優點是提高了抽氣速率及靶極濺射能力，增加了濺射薄膜的厚度，提高了效率，降低了成本。
文檔編號C23C14/34GK201317805SQ20082019934
公開日2009年9月30日 申請日期2008年11月26日 優先權日2008年11月26日
發明者曾德洪, 林政乾 申請人:柏霆(蘇州)光電科技有限公司;柏騰科技股份有限公司