專利名稱：一種旋轉(zhuǎn)濺射靶及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及物理氣相沉積磁控濺射薄膜技術(shù)，具體地說是一種旋轉(zhuǎn)濺射靶及其制
作方法。
背景技術(shù)：
旋轉(zhuǎn)圓筒形靶材以其高的圓筒形靶材利用率、放電穩(wěn)定、使用功率高、鍍膜效率高 而受到磁控濺射鍍膜業(yè)界的青睞。起先使用的主要是金屬旋轉(zhuǎn)圓筒形靶材，采用在較高熔 點(diǎn)金屬圓筒上澆鑄圓筒形靶材金屬的方法獲得金屬旋轉(zhuǎn)靶。 發(fā)明專利名稱一種旋轉(zhuǎn)磁控濺射靶，申請(qǐng)?zhí)?00710022277. 4，公開了一種旋轉(zhuǎn) 磁控濺射靶，包括極靴、永磁體及中空?qǐng)A柱圓筒形靶材，永磁體沿中空?qǐng)A柱圓筒形靶材的軸 向嵌于極靴內(nèi)，所述極靴沿圓周方向在朝基體一側(cè)120度范圍內(nèi)均勻設(shè)置三排永磁體，所 述永磁體包括長永久磁條和短永久磁條，其中間位置布置短永久磁條，兩側(cè)位置各為一長 永久磁條，所述中空?qǐng)A柱圓筒形靶材的外周安裝有屏蔽罩，所述屏蔽罩在永磁體面向基體 的一面開有濺射口 ；所述長短磁條的極性相反，極化方向垂直于濺射陰極中心軸線，極靴兩 端的磁環(huán)與長短永久磁條構(gòu)成閉合跑道形磁力線；工作放電時(shí)，朝向基體一側(cè)的120度范 圍內(nèi)構(gòu)成一個(gè)封閉的沿軸向的跑道形放電軌跡對(duì)基體進(jìn)行鍍膜，背向基體的一側(cè)無磁場控 制。 上述專利公開的技術(shù)方案無法實(shí)現(xiàn)中空?qǐng)A柱圓筒形靶材的制作。由于對(duì)膜性能提 高的要求，在許多情況下，只有采用化合物陶瓷靶才可以取得更好的膜性能，更高的鍍膜效 率，更穩(wěn)定、更均勻的膜層，更好的產(chǎn)品品質(zhì)。然而對(duì)于陶瓷鍍膜材料，因其導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能 相對(duì)較差，材料呈脆性，易碎裂，必須用軟金屬將其粘接到金屬陰極襯底上才能進(jìn)行鍍膜。 因?yàn)椴僮魃系碾y度，一般的陶瓷圓筒形靶材只能采用平面背板作為陶瓷圓筒形靶材的襯 底，現(xiàn)有的發(fā)明多采用平面濺射圓筒形靶材結(jié)構(gòu)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)現(xiàn)狀，而提供一種旋轉(zhuǎn)濺射靶及 其制作方法。 本發(fā)明解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案為一種旋轉(zhuǎn)濺射靶的制作方法，包 括底座、豎直放置在底座上金屬內(nèi)筒和套設(shè)在金屬內(nèi)筒外的圓筒形靶材，圓筒形靶材與底 座之間相密封；在金屬內(nèi)筒內(nèi)設(shè)置有將金屬內(nèi)簡加熱到低熔點(diǎn)金屬熔化溫度的第一加熱 器，在圓筒形靶材外套設(shè)有將圓筒形靶材加熱到低熔點(diǎn)金屬熔化溫度的第二加熱器；在金 屬內(nèi)筒和圓筒形靶材達(dá)到低熔點(diǎn)金屬的熔化溫度后，在金屬內(nèi)筒與圓筒形靶材之間填充熔 融狀態(tài)的低熔點(diǎn)金屬，然后冷卻圓筒形靶材。 上述的第一加熱器位于金屬內(nèi)筒的內(nèi)部，第二加熱器套設(shè)在需加熱圓筒形靶材的 外部，使第一加熱器和第二加熱器對(duì)應(yīng)需加熱的位置，通過第一加熱器和第二加熱器加熱 金屬內(nèi)筒和圓筒形靶材直至達(dá)到低熔點(diǎn)金屬的熔點(diǎn)溫度，便于金屬內(nèi)筒、圓筒形靶材和低熔點(diǎn)金屬更好地粘接。在加熱后的圓筒形靶材與金屬內(nèi)筒之間填充熔化的低熔點(diǎn)金屬液 體，然后冷卻旋轉(zhuǎn)濺射靶使低熔點(diǎn)金屬凝固，使金屬內(nèi)筒與圓筒形靶材可靠地粘接。
在具體操作過程中，也可先將第二加熱器遠(yuǎn)離金屬內(nèi)筒，單獨(dú)加熱圓筒形耙材至 合適溫度后，將高溫的圓筒形靶材套上金屬內(nèi)筒。然后在金屬內(nèi)筒與圓筒形靶材之間注入 熔化的低熔點(diǎn)金屬；第一加熱器與圓筒形靶材的位置是相對(duì)的，它可移動(dòng)或固定，其目的是 使金屬內(nèi)筒達(dá)到所需的粘接溫度。 通過上述方法，可沿金屬內(nèi)筒的軸線粘接多段圓筒形靶材。在上述的金屬內(nèi)筒上 粘接一段圓筒形靶材后，在該段圓筒形靶材片的上方排列下一段圓筒形靶材并密封下一段 圓筒形靶材的下端。使第一加熱器和第二加熱器處于下一段圓筒形靶材對(duì)應(yīng)的位置，并加 熱使下一段圓筒形靶材和金屬內(nèi)筒的溫度高于低熔點(diǎn)金屬的熔點(diǎn)溫度，在下一段圓筒形靶 材與金屬內(nèi)筒之間填充熔化的低熔點(diǎn)金屬液體，通過加熱器使金屬內(nèi)筒與圓筒形靶材可靠 地粘接，冷卻后下一段圓筒形靶材即粘接在金屬內(nèi)筒的外表面。 通過上述方法制作的一種旋轉(zhuǎn)濺射靶，包括金屬內(nèi)筒和與其同軸心的圓筒形靶材
以及設(shè)置在金屬內(nèi)筒和圓筒形靶材之間的低熔點(diǎn)金屬粘接層；沿金屬內(nèi)筒的軸線，在金屬
內(nèi)筒外表面粘接有至少一段圓筒形靶材。 為優(yōu)化上述技術(shù)方案，采取的措施還包括 上述的低熔點(diǎn)金屬為熔點(diǎn)低于60(TC的金屬或者熔點(diǎn)低于60(TC的金屬合金；上 述的金屬內(nèi)筒為熔點(diǎn)高于60(TC的金屬或熔點(diǎn)高于60(rC的合金；所述的圓筒形靶材為熔 點(diǎn)高于60(TC的金屬、陶瓷或熔點(diǎn)高于60(TC的合金。 上述的低熔點(diǎn)金屬為銦、錫、鋅中的一種金屬或幾種金屬的合金。 上述的圓筒形靶材為摻雜鋁、鍺、鎵、硼、錫中一種金屬、金屬氧化物或幾種金屬氧
化物的氧化鋅。 上述的圓筒形耙材為摻雜氧化錫的三氧化二銦。 上述的圓筒形靶材為氧化物陶瓷圓筒或非氧化物陶瓷圓筒。 上述的圓筒形靶材可為多個(gè)氧化物陶瓷靶材。 上述的每段的圓筒形靶材由多個(gè)金屬、合金、氧化物陶瓷塊或非氧化物陶瓷塊拼 接組成。 上述的第一加熱器第一加熱器位于金屬內(nèi)筒的內(nèi)部以對(duì)所需的部位加熱；第二加 熱器位于圓筒形靶材的外部，對(duì)應(yīng)需加熱的圓筒形靶材。 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的旋轉(zhuǎn)濺射靶成本低、制作簡單，同時(shí)使得陶瓷圓筒形靶 材可與機(jī)械強(qiáng)度較高、易于密封與導(dǎo)電導(dǎo)熱的金屬襯底圓筒緊密可靠地接合，提高了陶瓷 圓筒形靶材的利用率，具有放電穩(wěn)定、使用功率高、鍍膜效率高等優(yōu)點(diǎn)；用垂直方法對(duì)旋轉(zhuǎn) 靶和襯底圓筒之間用低熔點(diǎn)金屬進(jìn)行粘接，解決了圓筒形靶材粘接的難點(diǎn)問題，操作簡單 方便。采用該方法粘接的旋轉(zhuǎn)濺射靶接合面不易形成氣孔等缺陷，圓筒形靶材工作穩(wěn)定可 靠，為鍍膜質(zhì)量提供了圓筒形靶材穩(wěn)定性的保障；低熔點(diǎn)金屬承擔(dān)導(dǎo)電、導(dǎo)熱、支撐圓筒形 靶材筒的作用，控制圓筒形靶材與圓筒形靶材、圓筒形靶材與金屬內(nèi)筒之間的縫隙，使其不 因加工和使用過程中不均勻熱膨脹而損壞金屬內(nèi)筒。


圖1是本發(fā)明實(shí)施例旋轉(zhuǎn)濺射靶的剖視結(jié)構(gòu)示意圖；
圖2是本發(fā)明實(shí)施例的裝置結(jié)構(gòu)示意圖；
圖3是制作第一段旋轉(zhuǎn)濺射靶的示意圖；
圖4是制作第二段旋轉(zhuǎn)濺射靶的示意圖。
具體實(shí)施例方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施例作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
圖1至圖4所示為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。 其中的附圖標(biāo)記為金屬內(nèi)筒l、圓筒形靶材2、下一段圓筒形靶材2a、低熔點(diǎn)金屬 3、低熔點(diǎn)金屬粘接層3a、底座4、第一加熱器5、第二加熱器6。
實(shí)施例1 本實(shí)施例的旋轉(zhuǎn)濺射靶的制作方法，如圖3所示，包括底座4、豎直放置在底座4上 金屬內(nèi)筒1和套設(shè)在金屬內(nèi)筒1外的圓筒形靶材2，圓筒形靶材2與底座之間相密封；在金 屬內(nèi)筒1內(nèi)設(shè)置有將金屬內(nèi)筒1加熱到低熔點(diǎn)金屬3熔化溫度的第一加熱器5，在圓筒形靶 材2外套設(shè)有將圓筒形靶材2加熱到低熔點(diǎn)金屬3熔化溫度的第二加熱器6 ;使金屬內(nèi)筒1 和圓筒形靶材2達(dá)到低熔點(diǎn)金屬3的熔化溫度后，在金屬內(nèi)筒1與圓筒形靶材2之間填充 熔融狀態(tài)的低熔點(diǎn)金屬3，然后冷卻圓筒形靶材2。 本實(shí)施例是先在底座4上豎直放置金屬內(nèi)筒1 ，將圓筒形的圓筒形靶材2套設(shè)在金 屬內(nèi)筒1的外部，密封圓筒形靶材2與底座之間的縫隙；然后在金屬內(nèi)筒l的內(nèi)部設(shè)置第一 加熱器5，在圓筒形靶材2的外部套設(shè)置第二加熱器6，將第一加熱器5和第二加熱器6對(duì) 應(yīng)需加熱的位置；通過加熱器5和6加熱金屬內(nèi)筒和圓筒形靶材使其溫度達(dá)到粘接溫度，同 時(shí)通過另一加熱器加熱熔化低熔點(diǎn)金屬，在圓筒形靶材2與金屬內(nèi)筒1之間填充熔化的低 熔點(diǎn)金屬3，然后冷卻圓筒形靶材2。 通過上述方法，可沿金屬內(nèi)筒l的軸線粘接多段圓筒形靶材2。如圖4所示，在金
屬內(nèi)筒1上粘接一段圓筒形靶材2后，在該段圓筒形靶材2的上方排列下一段圓筒形靶材
2a并密封下一段圓筒形靶材2a的下端。調(diào)整第一加熱器5和第二加熱器6的位置，加熱金
屬內(nèi)筒1和下一段圓筒形靶材2a。通過另一加熱器加熱熔化低熔點(diǎn)金屬，將熔化的低熔點(diǎn)
金屬液體3注入縫隙，冷卻后將下一段圓筒形靶材2a即粘接在金屬內(nèi)筒1的外表面。 在具體操作過程中，操作步驟也可略微更換，如可以是先將第二加熱器6遠(yuǎn)離金
屬內(nèi)筒1，單獨(dú)加熱圓筒形靶材2至合適溫度后，將高溫的圓筒形靶材2套上金屬內(nèi)筒1 。然
后在金屬內(nèi)筒1與圓筒形靶材2之間注入熔化的低熔點(diǎn)金屬。 本實(shí)施例的旋轉(zhuǎn)濺射靶的制作方法，具體包括以下步驟 ①清潔金屬內(nèi)筒1、去除氧化物，進(jìn)行其他提高粘接力的預(yù)處理； ②將金屬內(nèi)筒1豎直設(shè)置，優(yōu)選為將其軸線與水平面相垂直設(shè)置； ③如圖2所示，在金屬內(nèi)筒1的下部套入圓筒形靶材2，并密封圓筒形靶材2的下
丄山
順； ④在金屬內(nèi)筒1的內(nèi)部和圓筒形靶材2的外部分別安置第一加熱器5和第二加熱 器6，第一加熱器5和第二加熱器6對(duì)應(yīng)需要粘接和預(yù)熱的位置；
⑤通過另一加熱器加熱在容器中的低熔點(diǎn)金屬直至低熔點(diǎn)金屬3熔化； ⑥通過加熱器加熱金屬內(nèi)筒1和圓筒形靶材2直到高于低熔點(diǎn)金屬的熔點(diǎn)溫度，
注入熔化的低熔點(diǎn)金屬3 ; ⑦冷卻旋轉(zhuǎn)濺射靶，使低熔點(diǎn)金屬凝固； ⑧在該段圓筒形靶材2的上方套設(shè)下一段圓筒形靶材2a，并密封下一段圓筒形靶材2a的下端； ⑨使第一加熱器5和第二加熱器6處于需要粘接和預(yù)熱的位置； ⑩在金屬內(nèi)筒1夕卜、第一段圓筒形靶材2與下一段圓筒形靶材2a之間形成密封； (Q)通過加熱器加熱金屬內(nèi)筒1和下一段的圓筒形靶材2a，直至達(dá)到高于低熔點(diǎn)金
屬的熔點(diǎn)溫度，注入熔化的低熔點(diǎn)金屬3 ; 冷卻旋轉(zhuǎn)濺射靶，使低熔點(diǎn)金屬凝固； 如圖3所示，重復(fù)步驟8至12，將旋轉(zhuǎn)濺射靶粘接到所需長度。 本實(shí)施例中的低熔點(diǎn)金屬為銦；圓筒形靶材2為摻雜氧化鋁的氧化鋅。 如圖2所示，底座4為圓環(huán)形，金屬內(nèi)筒1豎直放置在底座4上。底座4用于固定
金屬內(nèi)筒1，同時(shí)第一段的圓筒形靶材2套設(shè)在金屬內(nèi)筒1外后，通過底座4密封圓筒形靶
材2的底端。金屬內(nèi)筒1優(yōu)選為與水平面垂直，也可略微傾斜。 第一加熱器5設(shè)置在金屬內(nèi)筒1的內(nèi)部，可上下升降使第一加熱器處于需要加熱的位置；第二加熱器6套設(shè)置在圓筒形靶材2夕卜，使第二加熱器6處于需要加熱的位置。通過第一加熱器5與第二加熱器6分別加熱金屬內(nèi)筒1和圓筒形靶材2。通過另一加熱器加熱低熔點(diǎn)金屬3。 如圖1所示，通過本實(shí)施例的制作方法制作的旋轉(zhuǎn)濺射靶，包括金屬內(nèi)筒1和與其同軸心的圓筒形靶材2以及設(shè)置在金屬內(nèi)筒1和圓筒形靶材2之間的低熔點(diǎn)金屬粘接層3a。本實(shí)施例中，沿金屬內(nèi)筒l的軸線，在金屬內(nèi)筒1外表面粘接有三段圓筒形靶材2。低熔點(diǎn)金屬粘接層3a承擔(dān)導(dǎo)電、導(dǎo)熱、支撐圓筒形靶材2的作用，控制圓筒形靶材2與金屬內(nèi)筒1之間的縫隙，使其不因加工和使用過程中不均勻熱膨脹而損壞圓筒形靶材2。
實(shí)施例2 本實(shí)施例在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，將低熔點(diǎn)金屬替換成錫。
實(shí)施例3 本實(shí)施例在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，將低熔點(diǎn)金屬替換成鋅。
實(shí)施例4 本實(shí)施例在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，將低熔點(diǎn)金屬替換成以銦、錫、鋅中任意兩種金屬的合金。 實(shí)施例5 本實(shí)施例在實(shí)施例1的基礎(chǔ)上，將低熔點(diǎn)金屬替換成銦、錫和鋅三種金屬的合金。
實(shí)施例6 本實(shí)施例在實(shí)施例1至5的基礎(chǔ)上，將圓筒形耙材2替換成摻雜氧化鍺的氧化鋅靶材。 實(shí)施例7 本實(shí)施例在實(shí)施例1至5的基礎(chǔ)上，將圓筒形耙材2替換成摻雜氧化鎵的氧化鋅靶材。 實(shí)施例8 本實(shí)施例在實(shí)施例1至5的基礎(chǔ)上，靶材。 實(shí)施例9 本實(shí)施例在實(shí)施例1至5的基礎(chǔ)上，靶材。 實(shí)施例10 本實(shí)施例在實(shí)施例1至5的基礎(chǔ)上，
二銦靶材。 實(shí)施例11 本實(shí)施例在實(shí)施例1至5的基礎(chǔ)上，
成的圓筒形靶材2。 實(shí)施例12 本實(shí)施例在實(shí)施例1至5的基礎(chǔ)上，組成的圓筒形靶材2。 本發(fā)明的最佳實(shí)施例已闡明，由本領(lǐng)會(huì)脫離本發(fā)明的范圍。
瞎圓筒形靶材2替換成摻雜氧化硼的氧化鋅
瞎圓筒形靶材2替換成摻雜氧化錫的氧化鋅
瞎圓筒形靶材2替換成摻雜氧化錫的三氧化
瞎圓筒形靶材2替換成由氧化物陶瓷拼接組
瞎圓筒形靶材2替換成由非氧化物陶瓷拼接或普通技術(shù)人員做出的各種變化或改型都不
權(quán)利要求
一種旋轉(zhuǎn)濺射靶，其特征是包括金屬內(nèi)筒(1)和與其同軸心的圓筒形靶材(2)以及設(shè)置在金屬內(nèi)筒(1)和圓筒形靶材(2)之間的低熔點(diǎn)金屬粘接層(3a)；沿金屬內(nèi)筒(1)的軸線，在金屬內(nèi)筒(1)外表面粘接有至少一段圓筒形靶材(2)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的一種旋轉(zhuǎn)濺射靶，其特征是所述的圓筒形靶材(2)為金屬、合金、氧化物陶瓷圓筒或非氧化物陶瓷圓筒。
3. —種旋轉(zhuǎn)濺射靶的制作方法，其特征是包括底座(4)、豎直放置在底座(4)上金屬內(nèi)筒(1)和套設(shè)在金屬內(nèi)筒(1)外的圓筒形靶材(2)，圓筒形靶材(2)與底座之間相密封；在金屬內(nèi)筒(1)內(nèi)設(shè)置有將金屬內(nèi)筒(1)加熱到低熔點(diǎn)金屬(3)熔化溫度的第一加熱器 (5)，在圓筒形靶材(2)外套設(shè)有將圓筒形靶材(2)加熱到低熔點(diǎn)金屬(3)熔化溫度的第 二加熱器(6);使金屬內(nèi)筒(1)和圓筒形靶材(2)達(dá)到低熔點(diǎn)金屬(3)的熔化溫度后，在金 屬內(nèi)筒(1)與圓筒形靶材(2)之間填充熔融狀態(tài)的低熔點(diǎn)金屬(3)，然后冷卻圓筒形靶材 (2)。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種旋轉(zhuǎn)濺射靶的制作方法，其特征是在金屬內(nèi)筒(1)上 粘接一段圓筒形靶材(2)后，在該段圓筒形靶材(2)片的上方排列下一段圓筒形靶材(2a) 并密封下一段圓筒形靶材(2a)的下端，在下一段圓筒形靶材(2a)與金屬內(nèi)筒(1)之間填 充熔融狀態(tài)的低熔點(diǎn)金屬(3)，冷卻后下一段圓筒形靶材(2a)即粘接在金屬內(nèi)筒(1)的外 表面。
5. 根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的一種旋轉(zhuǎn)濺射靶的制作方法，其特征是所述的低熔點(diǎn) 金屬為熔點(diǎn)低于60(TC的金屬或者熔點(diǎn)低于60(TC的金屬合金；所述的金屬內(nèi)筒(1)為熔點(diǎn) 高于60(TC的金屬或熔點(diǎn)高于60(TC的合金；所述的圓筒形靶材(2)為熔點(diǎn)高于60(TC的金 屬、陶瓷或熔點(diǎn)高于60(TC的合金。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種旋轉(zhuǎn)濺射靶的制作方法，其特征是所述的低熔點(diǎn)金屬 為銦、錫、鋅中的一種金屬或幾種金屬的合金。
7. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種旋轉(zhuǎn)濺射靶的制作方法，其特征是所述的圓筒形靶材 (2)為摻雜鋁、鍺、鎵、硼、錫中一種金屬、金屬氧化物或幾種金屬氧化物的氧化鋅。
8. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種旋轉(zhuǎn)濺射靶的制作方法，其特征是所述的圓筒形靶材 (2)為摻雜氧化錫的三氧化二銦。
9. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種旋轉(zhuǎn)濺射靶的制作方法，其特征是所述的圓筒形靶材 (2)為氧化物陶瓷圓筒或非氧化物陶瓷圓筒。
10. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種旋轉(zhuǎn)濺射靶的制作方法，其特征是所述的第一加熱器 (5)位于金屬內(nèi)筒的內(nèi)部以對(duì)所需的部位加熱，第二加熱器(6)位于圓筒形靶材的外部，對(duì) 應(yīng)需加熱的圓筒形靶材(2);第二加熱器也可遠(yuǎn)離金屬內(nèi)筒，單獨(dú)加熱圓筒形靶材至合適溫度后，將高溫的圓筒形靶材套在金屬內(nèi)筒外再進(jìn)行粘接。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種旋轉(zhuǎn)濺射靶及其制作方法。包括底座、豎直放置的金屬內(nèi)筒和套設(shè)在金屬內(nèi)筒外的圓筒形靶材，圓筒形靶材與底座之間相密封；在金屬內(nèi)筒內(nèi)設(shè)置有第一加熱器，在圓筒形靶材外套設(shè)有第二加熱器；在金屬內(nèi)筒和圓筒形靶材達(dá)到低熔點(diǎn)金屬的熔化溫度后，在金屬內(nèi)筒與圓筒形靶材之間填充熔融狀態(tài)的低熔點(diǎn)金屬，然后冷卻圓筒形靶材。本發(fā)明使得陶瓷圓筒形靶材與機(jī)械強(qiáng)度較高、易于密封與導(dǎo)電導(dǎo)熱的金屬襯底圓筒緊密可靠地接合，提高了陶瓷圓筒形靶材的利用率，具有放電穩(wěn)定、使用功率高、鍍膜效率高等優(yōu)點(diǎn)；用垂直方法對(duì)旋轉(zhuǎn)靶和襯底圓筒之間用低熔點(diǎn)金屬進(jìn)行粘接，解決了圓筒形靶材粘接的難點(diǎn)問題，操作簡單方便。
文檔編號(hào)C23C14/35GK101709454SQ20091015514
公開日2010年5月19日 申請(qǐng)日期2009年12月3日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月3日
發(fā)明者王 琦 申請(qǐng)人:王 琦