專利名稱：瓷磚真空離子鍍膜設備的計算機控制系統的制作方法
技術領域：
本實用新型屬于真空離子鍍膜控制技術領域，具 體涉及一種瓷磚真空離子鍍膜設備的計算機控制系統。
背景技術：
市場對建筑陶瓷制品、陶瓷工藝制品表面和氮化 鋁陶瓷基片表面金屬化性能要求愈來愈高，為了使瓷磚等陶瓷制 品產品檔次升級，出現了利用真空鍍膜設備對陶瓷表面進行鍍 膜，而現有的設備是由人工操作，由于鍍膜生產中需要控制的工 藝參數較多，人工操作存在操作誤差大、生產效率低、產品質量 不穩定的缺陷。
發明內容本實用新型的目的在于為了有效地杜絕人工操作 帶來的種種不足，提供一種工作效率高、自動來完成整個生產的 監控和優化的瓷磚真空離子鍍膜設備的計算機控制系統。
本實用新型的技術方案是 一種瓷磚真空離子鍍膜設備的計 算機控制系統，其特征是由上位機和下位機通過通信接口連接組 成；下位機包括可編程控制器PLC、真空計、溫控儀和變頻器。
其中，所述的可編程控制器PLC與真空離子鍍膜設備的弧電 源、真空系統、流量計、偏壓電源通過通信接口連接。
由于采用上述技術方案，上位機與下位機之間是通過通信協 議實現動態數據交換，并通過可編程控制器PLC、真空計、溫控
儀和變頻器實現現場物理參量的采集與控制，實現對工藝全程監
3控管理，為了滿足用戶的需要，可在上位機設計兩種運行狀態， 用于生產的自動監控狀態和用于調試檢修的手動監控狀態，并且
可自由切換；為了方便用戶監控工藝過程，分析、研究工藝參數， 及時調整工藝參數，本系統可在上位機上實時顯示各電源電壓、 電流、高低真空讀數、溫度、氣體流量等參數數值，定時記錄設 備運行狀況；在下位機設備出現故障時本系統上位機上可自動彈 出報警畫面和文字提示，用聲、光同時報警；為了實現對多類樣 品的鍍膜自動化，本系統可設計多種工藝方案，供操作者選擇； 本系統可自行檢測上、下位機、通訊是否正常，當設備出現嚴重 故障時，控制系統可自動關機；可以限定一般用戶的權限，防止 誤操作，減少出錯率；可提供一個系統時鐘^"便用戶查詢；因而 具有生產效率和鍍膜工藝自動化程度高的優點。

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以下結合附圖和具體實施來對本實用新型的技術 方案做進一步說明。附圖是本實用新型的結構框圖。
具體實施方式
參考附圖， 一種瓷磚真空離子鍍膜設備的計 算機控制系統，是由上位機1和下位機通過通信接口連接組成； 下位機包括可編程控制器PLC2、真空計3、溫控儀4和變頻器5; 可編程控制器PLC2與真空離子鍍膜設備的弧電源6、真空系統7、 流量計8、偏壓電源9通過通信接口連接。
本實施例中上位機1選用研華工控機，其操作系統采用通用 性好，功能強的Microsoft Windows 2000XP,工控軟件選用三
4維力控的組態軟件，具有強大的控制功能，內部采用c語言程序，
安裝完設備驅動程序，便能與下位機進行通信，通過網卡便可與其他計算機相聯，組成一個企業的生產管理網絡，應用三維力控的組態軟件開發的自動化控制畫面，可對鍍膜生產進行實時監控，并將重要的數據記錄保存下來，當生產過程發生異常時，可進行聲光報警及文字提示，便于操作人員分析排除故障，恢復生
產；上位機1與真空計、變頻器、溫控儀之間RS-485總線連接，與可編程控制器之間RS-232總線連接；可編程控制器PLC主要完成現場實時數據的采集并對真空鍍膜有關組成設備進行控制，真空計、變頻器、溫控儀實現各種模擬信號的采集、顯示，并獨立實現部分控制功能。
權利要求1、一種瓷磚真空離子鍍膜設備的計算機控制系統，其特征是由上位機(1)和下位機通過通信接口連接組成；下位機包括可編程控制器PLC(2)、真空計(3)、溫控儀(4)和變頻器(5)。
2、 按權利要求1所述的一種瓷磚真空離子鍍膜設備的計算 機控制系統，其特征是可編程控制器PLC (2)與真空離子鍍膜 設備的弧電源(6)、真空系統(7)、流量計(8)、偏壓電源(9) 通過通信接口連接。
專利摘要本實用新型屬于真空離子鍍膜控制技術領域，具體涉及一種瓷磚真空離子鍍膜設備的計算機控制系統。一種瓷磚真空離子鍍膜設備的計算機控制系統，其特征是由上位機和下位機串口連接組成；下位機包括可編程控制器PLC、真空計、溫控儀和變頻器。具有生產效率和鍍膜工藝自動化程度高的優點。
文檔編號C23C14/54GK201406466SQ20092002671
公開日2010年2月17日 申請日期2009年5月26日 優先權日2009年5月26日
發明者欒國棟, 王桂岳, 趙松強 申請人:龍口市比特真空技術有限公司