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一種鋁鉬蝕刻液及其制備方法

文檔序號:3321837閱讀:598來源:國知局
專利名稱:一種鋁鉬蝕刻液及其制備方法
技術領域
本發明涉及一種蝕刻液及其制備方法,尤其涉及一種用于鋁層和鉬層的鋁鉬蝕刻液及其制備方法。
背景技術
鋁鉬蝕刻液,本品為無色透明液體,有酸性氣味,該產品主要用作半導體或 FPD(Flat Panel Display,平板顯示器)面板制程中鋁層和鉬層的蝕刻,目前鋁鉬蝕刻液主要由磷酸、硝酸和醋酸組成;該鋁鉬蝕刻液主要存在以下幾點缺點1)鋁鉬蝕刻液蝕刻角度難以控制,無法滿足不同客戶對蝕刻角度的需求,使用效果不是很好,影響產品的良率;2)鋁鉬蝕刻液對金屬層的蝕刻量難以控制,無法滿足不同客戶對蝕刻角度的需求,容易時刻過量,也會影響到產品的優良率。因此有必要提供鋁鉬蝕刻液及其制備方法, 提高蝕刻產品優良率,滿足不同用戶對蝕刻角度和蝕刻量的要求。

發明內容
本發明所要解決的技術問題是提供一種鋁鉬蝕刻液及其制備方法,能夠提高蝕刻產品優良率,滿足不同用戶對蝕刻角度和蝕刻量的要求。本發明為解決上述技術問題而采用的技術方案是提供一種鋁鉬蝕刻液,包括以下重量百分比的組合物
磷酸60% 80%;硝酸1% 10%;醋酸鈉1% 10%;聚氧乙烯烷基苯基醚0. 1 % 0. 5 % ;水10% 30%。上述的鋁鉬蝕刻液,其中,所述磷酸的濃度為85% 86% (重量百分比)。上述的鋁鉬蝕刻液,其中,所述硝酸的濃度為69% 71% (重量百分比)。上述的鋁鉬蝕刻液,其中,所述醋酸鈉的純度大于99% (重量百分比)。上述的鋁鉬蝕刻液,其中,所述聚氧乙烯烷基苯基醚的濃度大于99% (重量百分 比)。本發明為解決上述技術問題還提供一種鋁鉬蝕刻液的制備方法,包括如下步驟先稱取一定量的磷酸,在攪拌下加入硝酸,充分攪拌均勻;然后加入醋酸鈉,循環攪拌1 2小時;接著加入非離子型表面活性劑聚氧乙烯烷基醚和水,其中,磷酸的重量百分含量 為60% 80(%,硝酸的重量百分含量為1% 10%;醋酸鈉的重量百分含量為1% 10%, 聚氧乙烯烷基苯基醚的重量百分含量為0. 1% 0. 5%,水的重量百分含量為10% 30%; 再循環攪拌11 2小時;
最后將制得的混合物先經0. 5 μ m的過濾器循環過濾,再經0. 2 μ m的過濾器過濾, 以去除混合物中粒徑大于0. 2 μ m的有害粒子,即得鋁鉬蝕刻液。本發明對比現有技術有如下的有益效果本發明提供的鋁鉬蝕刻液及其制備方法,通過在鋁鉬蝕刻液中引入的醋酸鈉起到了緩沖劑的作用,使刻蝕速度得到控制,從而達到控制住刻蝕角度的要求,能滿足不同客戶對刻蝕角度的要求;加入非離子型界面活性劑聚氧乙烯烷基苯基醚,使產品對金屬層的滲透性提高,從而達到控制刻蝕量的要求,能滿足不同客戶對刻蝕量的要求。
具體實施例方式下面通過實施例進一步描述本發明,但不限于所舉的實施例。選用濃度為85重量%的磷酸,電子級,江陰澄星磷化工有限公司生產,其指標如表1
權利要求
1.一種鋁鉬蝕刻液,其特征在于,包括以下重量百分比的組合物磷酸60% 80%;硝酸 10%;醋酸鈉1^-10%;聚氧乙烯烷基苯基醚 0. 1 % 0. 5 % ;水10% 30%。
2.如權利要求1所述的鋁鉬蝕刻液,其特征在于,所述磷酸的濃度為85% 86%(重量百分比)。
3.如權利要求1所述的鋁鉬蝕刻液,其特征在于,所述硝酸的濃度為69% 71%(重量百分比)。
4.如權利要求1所述的鋁鉬蝕刻液,其特征在于,所述醋酸鈉的純度大于99%(重量百分比)。
5.如權利要求1所述的鋁鉬蝕刻液,其特征在于,所述聚氧乙烯烷基醚的濃度大于 99% (重量百分比)。
6.一種如權利要求1所述的鋁鉬蝕刻液的制備方法,其特征在于,包括如下步驟先稱取一定量的磷酸,在攪拌下加入硝酸,充分攪拌均勻;然后加入醋酸鈉,循環攪拌1 2小時;接著加入非離子型表面活性劑聚氧乙烯烷基醚和水,其中,磷酸的重量百分含量為 60% 80%,硝酸的重量百分含量為 10%;醋酸鈉的重量百分含量為 10%,聚氧乙烯烷基苯基醚的重量百分含量為0. 0. 5%,水的重量百分含量為10% 30%;再循環攪拌1 2小時;最后將制得的混合物先經0. 5 μ m的過濾器循環過濾,再經0. 2 μ m的過濾器過濾,以去除混合物中粒徑大于0. 2 μ m的有害粒子,即得鋁鉬蝕刻液。
全文摘要
本發明公開了一種鋁鉬蝕刻液及其制備方法,所述鋁鉬蝕刻液包括以下重量百分比的組合物磷酸60%~80%;硝酸1%~10%;醋酸鈉1%~10%;聚氧乙烯烷基苯基醚0.1%~0.5%;水10%~30%。本發明提供的鋁鉬蝕刻液及其制備方法,通過在鋁鉬蝕刻液中引入的醋酸鈉起到了緩沖劑的作用,使刻蝕速度得到控制,從而達到控制住刻蝕角度的要求,能滿足不同客戶對刻蝕角度的要求;加入非離子型界面活性劑聚氧乙烯烷基苯基醚,使產品對金屬層的滲透性提高,從而達到控制刻蝕量的要求,能滿足不同客戶對刻蝕量的要求。
文檔編號C23F1/20GK102534619SQ20111046173
公開日2012年7月4日 申請日期2011年12月30日 優先權日2011年12月30日
發明者季文慶, 朱龍, 欒成, 殷福華, 邵勇 申請人:江陰江化微電子材料股份有限公司
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