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地板研磨和清潔體的制作方法

文檔序號:3389006閱讀:220來源:國知局
專利名稱:地板研磨和清潔體的制作方法
技術領域
本發(fā)明涉及用于結構化地板的基于機器的處理的地板研磨和清潔體。使用地板研磨和清潔體以對由聚合物制成的具有難以清潔的結構化表面的地板進行清潔。地板研磨和清潔體還可以用于對結構化地板進行研磨以使其再次被涂覆。
背景技術
由聚合物制成的地板用于很多應用領域中,例如,應用于醫(yī)療保健、工業(yè)和商業(yè)、機場、辦公和行政大樓、以及住宅建筑中。除了具有平坦表面的由聚合物制成的地板之外,由聚合物制成的地板可具有獨特(即,宏觀的、產生觸覺的和良好可見的)表面結構,該獨特表面結構使得地板顯得更自然或降低滑倒風險。例如,已知地板具有頁巖(shale)結構、木質結構、錘擊表面或具有圓形突起。這種地板的結構可以包括從約O. 3mm到高達幾毫米 的高度,并因此顯著地不同于具有通常微觀表面粗糙度的基本平衡地板。對具有獨特表面結構的這種地板的徹底清潔或研磨造成至今仍未適宜地解決的大問題。已知的清潔產品和系統(tǒng)(例如,與研磨或清潔墊結合使用的具有刷滾筒的刷式機器或單盤機器、三輥機器或自動清潔機)不能到達紋理化表面的更深區(qū)域,以致于不能實現(xiàn)對整個表面的徹底清潔或處理。具體地,僅能夠不充分地去除來自紋理化表面的更深區(qū)域的污物,因為研磨或清潔工具僅能到達地板的結構化表面的高起區(qū)域。從US 5,458,532可獲知這種類型的具有相應拋光墊的單盤機器。當使用軟刷滾筒時,確實達到地板的表面結構的更深區(qū)域,但是整體清潔效果非常低。為了提高聚合物地板的使用壽命并改進地板的光學外觀,由聚合物制成的地板還涂覆有I3U漆。在該PU涂覆地板的重新磨亮工作期間,在使地板被再次涂覆之前,需要磨掉舊的PU涂層。但是,現(xiàn)有技術中沒有可以用于徹底研磨結構化地板的已知研磨產品。此外,彈性研磨盤總是僅研磨地板的高起部分,而深入部分未被處理。從DE 202 15 389U1,已知具體用于清潔表面的研磨體,其包括基體,基體在一側上至少包括研磨工具,而基體在存在研磨工具的一側上包括高起部分。由此,可以有利地實現(xiàn)使從待研磨或拋光表面去除的物質或研磨體的磨蝕物聚集在由高起部分所產生的凹處中。此外,高起部分具有增加研磨體的磨蝕物的效果。嵌入在附加工具中的介質將以更加選擇性的方式被高起部分分散。但是,不清楚這種清潔體應用于結構化地板的基于機器的處理會怎么樣。從US 2008/0318506A1可獲知由粘合元件制成的載體層和第二層的磨蝕片狀研磨工具。第二層涂覆有磨蝕材料。采用這種布置,在處理表面上軌道的網(wǎng)絡將形成于第二層的元件之間,在研磨期間空氣和灰塵顆粒經(jīng)過該網(wǎng)絡被排出。此外,已知用于清潔壺和盤子的海綿,該海綿包括彈性的略微紋理化表面。這些用于清潔壺和盤子的海綿用于手動清潔盤子。它們沒有定義的去除率,并且原則上不適合于對地板的基于機器的處理。
此外,例如從US 5,185,964,已知具有彈性紋理化表面的拋光海綿,其與用于拋光汽車噴漆表面的液體拋光工具結合使用。拋光海綿自身沒有研磨或清潔效果。因此,本發(fā)明解決提供用于對結構化地板的基于機器的處理的研磨和清潔體的問題。

發(fā)明內容
通過根據(jù)專利權利要求I和6的用于對結構化地板的基于機器的處理的地板研磨和清潔體、根據(jù)權利要求20使用這種地板研磨和清潔體、以及根據(jù)權利要求18對結構化地板的基于機器的處理的方法,來解決上述問題。具體地,通過用于對結構化地板的基于機器的處理的地板研磨和清潔體來解決上 述問題,該地板研磨和清潔體包括基體,其在第一側上具有彈性紋理化表面;處理層,其布置在基體的紋理化表面上;和鉤環(huán)適配層,其布置在基體的與第一側相反的第二側上,其中紋理化表面包括彈性突起結構,其中彈性突起結構的突起設計成能夠處理地板的結構化表面的深處區(qū)域。因為處理層布置在基體的彈性紋理化表面上,所以還能夠由地板研磨和清潔體到達結構化地板的結構的深處區(qū)域,并因此還能夠以基于機器的方式研磨或清潔該深處區(qū)域。彈性紋理還將處理層壓入到地板結構的深處區(qū)域中,以執(zhí)行對這些深處區(qū)域的底部的處理,即清潔或研磨。借助于布置在基體的與第一側相反的第二側上的鉤環(huán)適配層,地板研磨和清潔體可以容易地且安全地連接到相應機器,從而提供從機器至地板研磨和清潔體的良好力傳遞。基體的紋理化表面包括彈性突起結構。由于突起結構,在基體上產生高起部分,在處理層上也產生相應高起部分,以使得處理層被基體按壓到地板的結構化表面的更深區(qū)域中,并且還可以處理結構化表面的更深區(qū)域。由于基體的彈性,各個突起的頂端分別被按壓在地板的表面結構的深入部分的底部上,并且可以在該處進行清潔或研磨。此外,基體的彈性確保相對于地板移動的地板研磨和清潔體中的各個突起執(zhí)行經(jīng)過結構化表面的凹入部分和凸起部分的過山車式移動。相應地,突起總是保持與底板的結構化表面接觸,并因此基本以相同的方式處理地板的全部表面區(qū)域(即,凹入部分、凸起部分、以及凸起部分和凹入部分之間的過渡部分)。此外,通過地板研磨和清潔體的結構化表面,在研磨處理期間空氣被夾帶并引導至研磨表面,以使得研磨表面受到冷卻,這防止地板研磨和清潔體被堵塞并增強研磨結構。此外,從研磨表面去除產生的研磨灰塵。優(yōu)選地,紋理化表面包括彈性突起結構,該彈性突起結構適應于待處理的地板的紋理化表面。通過使突起結構適應于地板的紋理化表面,由單一突起將充分的研磨壓力施加到地板的深處區(qū)域,盡管其他突起放置在地板的高起區(qū)域上并因此被更強烈地壓縮。例如,可考慮到突起結構的突起的彈性、形狀、布置、距離和尺寸而執(zhí)行使突起結構適應于待處理的地板。優(yōu)選地,處理層包括嵌入在樹脂中的磨蝕顆粒。這種磨蝕顆粒例如由砂巖、浮石、石英、剛玉、碳化硅或類似的硬質材料組成。這些磨蝕顆粒引起地板研磨和清潔體的實際研磨或清潔效果。為確保將磨蝕顆粒固定到基體,這些磨蝕顆粒嵌入在樹脂中。通常,磨蝕顆粒包括限定的顆粒尺寸,以使得地板研磨和清潔體的研磨效果可以適應于待研磨的材料和期望的表面粗糙度、以及去除率。在另一優(yōu)選實施例中,處理層包括分別不具有磨蝕顆粒或不具有清潔粉末的樹脂涂層。如果地板將不進行研磨而是清除掉緊密粘附的污物,處理層只需要包括不具有清潔粉末和磨蝕顆粒的樹脂涂層。例如,這種無粉末樹脂涂層可以實現(xiàn)為開放式泡體或絨頭織物狀。由此,通過樹脂涂層實現(xiàn)良好的清潔效果,其中,地板的表面不受影響并因此受到保護。具體地,從而可以容易地去除緊密粘附的蠟層。優(yōu)選地,處理層進行植絨,特別是利用人造或天然纖維進行植絨,或者處理層利用三聚氰胺樹脂泡沫的顆粒進行植絨。利用人造或天然纖維進行植絨、或利用三聚氰胺樹脂泡沫的顆粒進行植絨還增加研磨和清潔體的清潔效果,具體地還到達地板的非常精細的深處結構的底部,而不損壞地板。從而,還可以從底板的深入部分分別去除緊密粘附的污物或舊蠟層,而不影響地板的表面。在優(yōu)選實施例中,基體和處理層由至少一種彈性橡膠狀材料組成,其中,處理層和基體由磨蝕顆粒進行點綴。由此,具體地,可以制造具有相對小突起的地板研磨和清潔體,·其中磨蝕材料是“以橡膠限界的”,即,被嵌入在橡膠狀彈性材料中。具體地,這種地板研磨和清潔體適合于對具有低表面結構(例如錘擊結構)的地板的處理。有利的是以橡膠限界的地板研磨和清潔體包括非常長的使用壽命。除此之外,該地板研磨和清潔體可以容易地通過注入成型來生產,而不需要任意其他必須的涂覆處理。還通過用于對結構化地板的基于機器的處理的地板研磨和清潔體來解決上述問題,該地板研磨和清潔體包括基體,其在第一側上具有彈性紋理化表面;處理層,其布置在基體的紋理化表面上,其中處理層包括嵌入在樹脂中的磨蝕顆粒,其中紋理化表面包括彈性突起結構,其中彈性突起結構的突起設計成能夠處理地板的結構化表面的深處區(qū)域。因為處理層布置在基體的彈性紋理化表面上,所以同樣能夠利用地板研磨和清潔體到達結構化地板的更深區(qū)域,并因此以基于機器的方式對這些更深區(qū)域進行研磨或清潔。彈性紋理將處理層壓入到地板結構的深處區(qū)域中。借助于嵌入在樹脂材料(或類似材料)中的磨蝕顆粒,實現(xiàn)限定的清潔或研磨效果,該效果精確地適應于相應材料和期望的研磨或清潔任務。此外,由于彈性紋理化表面和侵入較低結構中,通過嵌入來確保磨蝕顆粒即使在動態(tài)載荷期間也安全地粘附,從而確保地板研磨和清潔體的良好使用壽命。具體地,這種地板研磨和清潔體適合于包括剛毛盤的大而重的地板處理機。這里,地板研磨和清潔體簡單地放置在地板上,然后地板處理機被放置在地板研磨和清潔體的頂部上。然后,剛毛盤經(jīng)由摩擦配合使得地板研磨和清潔體隨著該剛毛盤一起運動。這里,不需要鉤環(huán)連接。優(yōu)選地,突起包括棱錐體形狀、接頭棱錐體形狀、圓錐體形狀、接頭圓錐體形狀或在截面中是波形。對于棱錐體形狀和圓錐體形狀產生突起的相對尖的高起部分,以使得能夠以更好的方式處理精細結構化的地板。截頭棱錐體形狀和截頭圓錐體形狀產生平坦的頂端,這對于更粗糙結構化的地板是有利的,特別是對于突起地板。此外,這種突起形狀的去除率比尖銳形狀更好。包括在截面圖中觀察為波形的突起包括圓角頂端,然后變成更鈍的突起區(qū)域。因此,突起適合于精細地板以及適合于更粗糙的結構化地板。波形對于制造來說特別簡單。優(yōu)選地,突起包括2mm-50mm的高度,更優(yōu)選為10mm-20mm的高度。這種尺寸產生清潔效果所必須的在突起的柔性和突起的剛性之間的良好比率。
優(yōu)選地,突起包括彼此之間3mm-50mm的距離,更優(yōu)選為10mm-20mm。采用這種距離,使用的地板研磨和清潔體可以最優(yōu)化地適應于特定地板。由此,一方面,確保還可以處理地板的精細深入部分,另一方面,確保還提供對表面的高去除率。優(yōu)選地,突起由彈性泡沫材料組成。這種彈性泡沫材料可以容易地制造成具有期望的硬度并且具有期望的紋理化表面。此外,彈性泡沫材料可以非常好地提供或涂覆有處理層。優(yōu)選地,泡沫材料包括根據(jù)DIN 53577和ISO 3386分別20至60的耐壓性(在40%材料壓縮下的2-6kPa)。因此,一方面,泡沫材料足夠軟以將具有處理層的突起壓入到地板的深入部分中,另一方面,這種耐壓性確保充分的向下力并因此確保良好的去除率。優(yōu)選地,基體包括10mm-60mm的厚度,優(yōu)選為15mm-30mm,更優(yōu)選為20mm-25mm。通 過基體的這種厚度,提供需要的地板研磨和清潔體彈性,這確保利用需要的壓力使處理層能夠深入到結構化表面的更深區(qū)域中,而處理層的其他結構化表面區(qū)域能夠處理地板的更高起的區(qū)域。優(yōu)選地,基體由彈性聚合物材料組成。代替泡沫材料,彈性聚合物材料也可以用于具有輪廓表明的基體。然后,突起可以優(yōu)選地具有彈性波紋部分。優(yōu)選地,鉤環(huán)適配層包括鉤環(huán)絨面織物層。鉤環(huán)絨面織物層非常好地連接鉤環(huán)系統(tǒng)的鉤層,并因此提供從機器到地板研磨和清潔體的良好無偏差的力傳遞。在優(yōu)選實施例中,處理層包括彈性磨蝕顆粒載體,特別是纖維絨頭織物,彈性磨蝕顆粒載體覆蓋突起并且涂覆有磨蝕顆粒。通過使用彈性磨蝕顆粒載體,具體地,如果使用相對軟的泡沫材料用于基體,地板研磨和清潔體的使用壽命增長。在優(yōu)選實施例中,地板研磨和清潔體實現(xiàn)為圓形盤、矩形坯件或出于三角形形式。因此,地板研磨和清潔體可以適應于與其結合使用的每個機器。還通過用于對結構化地板的基于機器的處理的方法來解決上述問題,該方法包括如下步驟a.提供地板清潔機或地板研磨機;b.提供具有基體的地板研磨和清潔體,基體在第一側上具有包括突起結構的彈性紋理化表面,地板研磨和清潔體包括處理層,處理層布置在基體的紋理化表面上,其中彈性紋理化表面包括突起結構,其中彈性突起結構的突起設計成能夠處理地板的結構化表面的深處區(qū)域;c.將地板研磨和清潔體固定到地板清潔機或地板研磨機;以及d.利用地板清潔機或地板研磨機來處理結構化地板,其中地板研磨和清潔體的彈性突起結構的突起深入到結構化地板的深處區(qū)域中以在該處對深處區(qū)域進行處理。同樣地,因為處理層布置在基體的結構化彈性表面上,由地板研磨和清潔體可以到達結構化地板的深處區(qū)域,因此可以利用地板處理機隊地板的整個表面(特別是還有低至底部的結構的凹入部分)進行研磨或機器清潔。因此,具有結構化表面的地板也可以被徹底清潔和完全研磨,這在之前還只對于地板的高起區(qū)域是可行的。優(yōu)選地,將地板研磨和清潔體固定到地板清潔機或地板研磨機的步驟包括僅將地板清潔機或地板研磨機放置在位于地板上的地板研磨和清潔體的頂部的步驟。通過僅將機器放置在地板研磨和清潔體上可以完成將地板研磨和清潔體固定到地板清潔機,因為地板清潔機通常足夠重而通過摩擦配合使得地板研磨和清潔體與該地板清潔機一起移動。地板清潔機的可能存在的剛毛盤通過摩擦配合來支持該固定。這里不需要鉤環(huán)系統(tǒng)。優(yōu)選地,借助于地板處理機或手動研磨機使用用于對結構化地板進行基于機器的處理的上述地板研磨和清潔體。


在下文中,借助于附圖來說明本發(fā)明的優(yōu)選實施例,其中圖I以透視圖示出根據(jù)本發(fā)明的地板研磨和清潔體;圖2示出圖I的根據(jù)本發(fā)明的地板研磨和清潔體的截面圖;圖3示出根據(jù)本發(fā)明的地板研磨和清潔體的另一實施例的截面圖;圖4不出具有植絨的圖I的地板研磨和清潔體的截面圖;圖5示出具有彈性磨蝕顆粒載體的根據(jù)本發(fā)明的地板研磨和清潔體的另一實施例的截面圖;圖6示出具有包括波紋部分的突起的根據(jù)本發(fā)明的地板研磨和清潔體的另一實 施例的截面圖;圖7A至圖7E示出根據(jù)本發(fā)明的地板研磨和清潔體的不同突起形狀;圖8示出在處理第一示例性結構化地板期間根據(jù)本發(fā)明的地板研磨和清潔體的單一突起的截面圖;和圖9示出在處理另一示例性結構化地板期間根據(jù)本發(fā)明的地板研磨和清潔體的單一突起的截面圖。
具體實施例方式在下文中,借助于附圖來描述本發(fā)明的優(yōu)選實施例。單一實施例的特征可以與其他實施例的特征組合,即使沒有明確說明。圖I和圖2不出根據(jù)第一實施例的地板研磨和清潔體。地板研磨和清潔體I包括基體10,基體10在第一側12上具有彈性紋理化表面14。在表面14上,布置處理層20,處理層20在使用期間與地板的表面接觸并產生實際的清潔和研磨效果。在與基體的第一側12相反的第二層16上,在本實施例中,固定鉤環(huán)適配層30。借助于該鉤環(huán)適配層,地板研磨和清潔體I可以被緊密而可拆卸地固定到研磨或清潔機。如圖2示意性所示,紋理化表面14由大量的彈性突起18組成。這些彈性突起18優(yōu)選地由與基體10的剩余部分相同的材料組成,并且實現(xiàn)為與基體10的剩余部分形成整體。但是,這些彈性突起18還可以由其他材料制成。優(yōu)選地,彈性泡沫材料可用作基體10的材料。例如,彈性泡沫材料可以由泡沫狀軟聚氨酯或泡沫狀生橡膠組成。泡沫材料是彈性的,并且分別根據(jù)DIN 53577或ISO 3386包括20-60的耐壓性。這對應于泡沫材料在40%壓縮下的2-6kPa壓力。突起18的形狀可以根據(jù)使用情況而不同。本領域技術人員將涉及地板研磨和清潔體,以使得突起結構適應于地板的表面結構并且可以實現(xiàn)有效、優(yōu)化和完全的地板處理。因此,本領域技術人員將根據(jù)相應的地板結構來選擇突起的形狀、突起的基體的彈性、突起彼此的布置、突起彼此的距離和尺寸等。
在圖I中,突起在橫截面中的形狀是波形。圖7A-圖7E示出其他突起形狀,其中,圖7A示出具有圓錐體形狀的突起18的基體10,圖7B示出具有截頭圓錐體形狀的突起18的基體10,圖7C示出具有棱錐體形狀的突起18的基體10,圖7D示出具有截頭棱錐體形狀的突起18的基體10,圖7E再次示出在橫截面中具有波形突起18的基體10。但是,突起18還可以包括其他形狀和所示形狀和組合形狀。對于具有頁巖結構的聚合物地板的處理,將有利地選擇表現(xiàn)為更尖的突起結構,例如尖頭棱錐體結構或圓錐體結構,而對于對于具有錘擊結構或圓形突起結構的地板的處理,最好使用包括更為圓形的頂端的突起。如果對于地板研磨和清潔體I需要高去除率,應選擇具有平頂端的突起形狀,例如,截頭圓錐體或截頭棱錐體形狀。由此,與尖頭突起形狀相比,涂覆有磨蝕顆粒的突起18與地板的接觸面積更大,因此掩模更強烈。突起18的普遍高度h在從2mm-50mm的范圍內,優(yōu)選為10mm-20mm。另一方面,這種高度提供突起18的必要彈性和柔性,但是該高度選擇為使得同時提供突起18的剛性和穩(wěn)定性,這是清潔和研磨效果所必要的。優(yōu)選地,如圖I所示,突起18在表面14處布置成規(guī)則圖案,其中突起彼此的距離a優(yōu)選在從3mm-50mm的范圍內。選擇的距離a越小,地板 研磨和清潔體I的去除率越高。此外,10mm-20mm的距離a被證實為對于具體研磨和清潔任務效果好。基體10的普遍厚度D在從10mm-60mm的范圍內,優(yōu)選為15mm-30mm,更優(yōu)選地為20mm-25mm。基體10的厚度D、突起18的高度h以及突起18的距離a經(jīng)選擇,以使得在使用地板研磨和清潔體I期間突起18的壓縮在適于將機器朝著地板(或者一般來講位于工件上)的必要下壓的范圍內,這一方面允許有充分高的材料去除,另一方面還允許充分深入到表面結構的深處區(qū)域中。測試表明30% -70%的突起壓縮向結構化聚合物地板提供充分的研磨和清潔結果。因此,地板研磨和清潔體I的紋理化表面14可以使得其自身適應于地板的結構,以使得研磨壓力在整個研磨表面上近似相等,整個研磨表面意味著考慮到表面結構的高起部分、凹入部分和過渡部分。鉤環(huán)適配層30可以由利用適當?shù)恼辰Y劑被膠結到基體10的第二側16的鉤環(huán)絨面織物或鉤環(huán)絨頭織物制成。地板研磨和清潔體I可以經(jīng)由鉤環(huán)適配層30而固定到研磨盤或研磨工具支承物。在圖I所示的實施例中,處理層20由尖銳邊緣磨蝕顆粒22組成,磨蝕顆粒22嵌入在覆蓋突起18的樹脂或其他足夠的粘結劑中。這些磨蝕顆粒22例如由砂巖、浮石、石英、剛玉、碳化硅、金剛石或類似的硬質材料組成。根據(jù)本發(fā)明的地板研磨和清潔體I的研磨和清潔效果可以由磨蝕顆粒的尺寸改變。對于來自聚合物地板的舊PU涂層的研磨,使用顆粒尺寸K120-K150的相應粗糙磨蝕顆粒22,對于幾乎沒有腳印并且強烈地被過度維護的聚合物地板的清潔,使用具有K180-K400顆粒尺寸的相對細磨蝕顆粒22或者甚至更細的顆粒。對于由天然石制成的地板(例如,由大理石制成的地板),金剛石被證實可作為有利的覆蓋工具。當?shù)匕鍖H被清潔或拋光時,根據(jù)本發(fā)明的地板研磨和清潔體I在紋理化和相應突起的表面12上還可以具有不帶磨蝕顆粒的涂層24。該涂層24例如可以是不帶磨蝕顆粒的樹脂涂層。可以以開放式泡體方式或以絨頭織物狀方式實現(xiàn)該涂層24。還可以例如利用聚酯或聚酰胺纖維對表面12進行植絨,以對地板進行清潔或拋光。利用由三聚氰胺樹脂泡沫制成的開放式泡體顆粒進行的植絨還可改進地板研磨和清潔體的清潔效果。從而,突起還到達地板的精細結構的底部。采用這些涂層,還可以非常好地從地板的深入部分分別去除強烈粘附的污物和舊蠟層,而不影響地板的表面。如圖5所示,還可以利用適合的磨蝕顆粒載體26來涂覆基體10的紋理化表面14,轉而利用磨蝕顆粒22來涂覆磨蝕顆粒載體26。本實施例特別用于強烈清潔或研磨任務,對于該任務需要相對粗糙的磨蝕顆粒22。粗糙磨蝕顆粒22可以更好地固定到磨蝕顆粒載體26,而不是固定到基體10本身。此外,磨蝕顆粒載體26提供在研磨表面處具有更好穩(wěn)定性的地板研磨和清潔體I。優(yōu)選地,纖維絨頭織物被用作磨蝕顆粒載體26。圖6示出地板研磨和清潔體1,其中基體10由彈性聚合物材料組成。這里,例如通過具有彈性波紋部分19的空心吹塑成型的聚合物材料來實現(xiàn)突起18。如上所述,這些突起18可以涂覆有不同的處理層20、有或沒有磨蝕顆粒22、植絨24以及分別有和沒有磨蝕顆粒載體26。對于這種地板研磨和清潔體1,考慮到彈性、形狀和在待處理地板的表面結構 上的布置,單一突起18可以是最適合的。此外,這里確保在地板的全部表面區(qū)域上的恒定研磨壓力。此外,基體10和處理層20還可以由彈性橡膠狀材料組成。基體10的橡膠狀材料可以不同于處理層20的材料。但是兩個層也可以由相同的橡膠狀材料制成。優(yōu)選的材料是橡膠狀聚氨酯。具體地,處理層20自身或者處理層20與基體10可以完全由磨蝕顆粒22點綴。因此,磨蝕顆粒22是“以橡膠限界的”,這意味著被直接插入和嵌入在橡膠狀彈性材料中,以致于可以省略涂覆處理。應當注意,根據(jù)本發(fā)明的地板研磨和清潔體I當然也以同樣的方式適合于對結構化平坦聚合物、生橡膠和木地板的處理,特別是毛地板、大理石和細石地板。地板研磨和清潔體I的其他應用是例如在飛機制造中對不平整的結構化表面的研磨。圖3示出根據(jù)本發(fā)明的地板研磨和清潔體I的另一實施例。在此實施例中,第二側16不具有鉤環(huán)適配層30。本實施例因此特別適合于包括一個或多個旋轉盤的地板處理機。因此,地板處理機(特別是地板清潔機)可以簡單地放置在位于地板上的地板研磨和清潔體I的頂部上,以使得地板研磨和清潔體I通過相應旋轉盤的摩擦配合而一起移動。為了改進摩擦,旋轉盤可以設置成在其底部側具有剛毛,剛毛侵入到基體10的第二側16中。在這種情況下不需要經(jīng)由鉤環(huán)系統(tǒng)的固定。根據(jù)本發(fā)明的地板研磨和清潔體I特別適合于與這種地板處理機一起使用,但是地板研磨和清潔體I還可以與其他研磨機(例如手工研磨機)一起使用。在每種情況下,地板研磨和清潔體I的外形適合于研磨機的特定工件支架的形狀。通常的形狀是圓形、矩形或所謂的三角形形式。位于單盤地板處理機一起使用,地板研磨和清潔體I包括圓形形狀以及與機器相對應的370mm-500mm的直徑。圖8和圖9的截面圖示出在處理地板2期間地板研磨和清潔體I的突起18的物理過程。因此,圖8示出可能處于頁巖或木質表面形式的具有非穩(wěn)定的結構化表面3的地板2。結構化表面的結構的高度hs取決于結構,例如在O. 5-3. Omm范圍內。結構化表面3包括凹入部分4、凸起部分5和過渡部分6。如圖8所示,突起18、18'、18 "的頂端19、19'、19 "總是接觸地板2的表面3,而突起18實際上經(jīng)過凸起部分5,突起18'同時處理過渡部分6,突起18"接觸凹入部分4的底部。基體10的彈性和突起形狀使得突起18、18'、18"的頂端17、17'、17"自身能夠適應具體表面結構并借助于處理層20來完全處理表面3。這里,頂端17、17'、17"以某種乘坐過山車形式沿著結構化表面3的輪廓移動。一般地,普通平臺研磨或清潔體將與此相反,即使這些普通平臺研磨或清潔體是以彈性方式實現(xiàn)的,也不能到達凹入部分4的底部并因此僅可以處理凸起部分5的頂部。圖9示出地板2,其中凸起部分5表現(xiàn)為圓形突起,而凹入部分是圓形突起之間的平坦區(qū)域,過渡部分6 —般地是圓形突起的圓錐形狀表面。圓形突起的高度比例如在O. 5-2. Omm的范圍內。如圖所示,突起18的頂端17實際上相對于圓形突起5處理過渡部分6,其中同時,突起18'的頂端17'處理凹入部分4的底部,突起18"的頂端17"處理圓形突起5的上平坦部分。在地板研磨和清潔體I相對于結構化地板2相對移動期間,突起18、18'、18"在以過山車方式經(jīng)過表面3時被不同程度地強烈壓縮并且使處理層20總是與結構化表面3接觸,以使得不僅凸起部分5的頂部還有凹入部分4可以被處理直到它們的底部以及過渡部分6。
附圖標記列表
1地板研磨和清潔體
2結構化地板
3結構化表面
4凹入部分
5凸起部分
6過渡部分 10 基體
12 第一側
14 彈性紋理化表面
16第二側
17突起的頂端
18彈性突起
19波紋部分
20處理層22 磨蝕顆粒
24 沒有磨蝕顆粒的涂層、植絨26 磨蝕顆粒載體30 鉤環(huán)適配層
權利要求
1.一種地板研磨和清潔體(I),其用于對結構化地板(2)的基于機器的處理并且包括 a.基體(10),其在第一側(12)上具有彈性紋理化表面(14); b.處理層(20),其布置在所述基體(10)的所述紋理化表面(14)上;和 c.鉤環(huán)適配層(30),其布置在所述基體(10)的與所述第一側(12)相反的第二側(16)上;其中 d.所述紋理化表面(14)包括彈性突起結構,其中,所述彈性突起結構的突起(18)設計成能夠處理地板(2)的結構化表面(3)的深處區(qū)域(4)。
2.根據(jù)權利要求I所述的地板研磨和清潔體,其中,所述處理層(20)包括嵌入在樹脂中的磨蝕顆粒(22)。
3.根據(jù)權利要求I所述的地板研磨和清潔體,其中,所述處理層(20)包括不具有磨蝕顆粒的樹脂涂層(24)。
4.根據(jù)權利要求I或3所述的地板研磨和清潔體,其中,所述處理層(20)進行植絨,特別是利用人造或天然纖維(24)進行植絨,或者其中,所述處理層(20)利用由三聚氰胺樹脂泡沫制成的顆粒進行植絨。
5.根據(jù)權利要求I所述的地板研磨和清潔體,其中,所述基體(10)和所述處理層(20)由至少一種彈性橡膠狀材料組成,其中,所述處理層(20)和所述基體(10)由磨蝕顆粒進行點綴。
6.一種地板研磨和清潔體(I),其用于對結構化地板(2)的基于機器的處理并且包括 a.基體(10),其在第一側(12)上具有彈性紋理化表面(14); b.處理層(20),其布置在所述基體(10)的所述紋理化表面(14)上;和 c.所述處理層(20)包括嵌入在樹脂中的磨蝕顆粒(22),其中 d.所述紋理化表面(14)包括彈性突起結構,其中,所述彈性突起結構的突起(18)設計成能夠處理地板(2)的結構化表面(3)的深處區(qū)域(4)。
7.根據(jù)權利要求I至6中任一者所述的地板研磨和清潔體,其中,所述突起(18)包括棱錐體形狀、接頭棱錐體形狀、圓錐體形狀、接頭圓錐體形狀或在截面中是波形。
8.根據(jù)權利要求I至7中任一者所述的地板研磨和清潔體,其中,所述突起(18)包括2mm-50mm 的高度(h),優(yōu)選為 10mm-20mm。
9.根據(jù)權利要求I至8中任一者所述的地板研磨和清潔體,其中,所述突起(18)包括彼此之間3mm-50mm的距離(a),優(yōu)選為10mm-20mm。
10.根據(jù)權利要求I至9中任一者所述的地板研磨和清潔體,其中,所述突起(18)適應于待處理的所述地板(2)的結構化表面(3)。
11.根據(jù)權利要求I至4和6至10中任一者所述的地板研磨和清潔體,其中,所述基體(10)由彈性泡沫材料組成。
12.根據(jù)權利要求11所述的地板研磨和清潔體,其中,所述泡沫材料包括根據(jù)DIN53577和ISO 3386分別20至60的耐壓性。
13.根據(jù)權利要求I至12中任一者所述的地板研磨和清潔體,其中,所述基體(10)包括10mm-60mm的厚度,優(yōu)選為15mm-30mm,更優(yōu)選為20mm-25mm。
14.根據(jù)權利要求I至4、6至10和13中任一者所述的地板研磨和清潔體,其中,所述基體(10)由彈性聚合物材料組成。
15.根據(jù)權利要求14所述的地板研磨和清潔體,包括具有彈性波紋部分(19)的突起(18)。
16.根據(jù)權利要求I至15中任一者所述的地板研磨和清潔體,其中,鉤環(huán)適配層(30)包括鉤環(huán)絨面織物層。
17.根據(jù)權利要求I至16中任一者所述的地板研磨和清潔體,其中,所述處理層(20)包括彈性磨蝕顆粒載體(26),特別是纖維絨頭織物,所述彈性磨蝕顆粒載體(26)覆蓋所述突起(18)并且涂覆有磨蝕顆粒(22)。
18.根據(jù)權利要求I至17中任一者所述的地板研磨和清潔體,其中,所述地板研磨和清潔體實現(xiàn)為圓形盤、矩形坯件或出于三角形形式。
19.一種用于對結構化地板的基于機器的處理的方法,其包括下列步驟 a.提供地板清潔機或地板研磨機; b.提供具有基體(10)的地板研磨和清潔體(I),所述基體(10)在第一側(12)上具有包括突起結構的彈性紋理化表面(14),所述地板研磨和清潔體(I)包括處理層(20),所述處理層(20)布置在所述基體(10)的所述紋理化表面(14)上,其中,所述紋理化表面(14)包括突起結構,其中,所述彈性突起結構的突起(18)設計成能夠處理地板(2)的結構化表面⑶的深處區(qū)域⑷; c.將所述地板研磨和清潔體(I)固定到所述地板清潔機或所述地板研磨機;以及 d.利用所述地板清潔機或所述地板研磨機來處理所述結構化地板,其中,所述地板研磨和清潔體(I)的所述彈性突起結構(14)的所述突起(18)深入到所述結構化地板(2)的深處區(qū)域(4)中以在該處對所述深處區(qū)域進行處理。
20.根據(jù)權利要求19所述的方法,其中,將所述地板研磨和清潔體(I)固定到所述地板清潔機或所述地板研磨機的步驟包括僅將所述地板清潔機或所述地板研磨機放置在位于地板上的所述地板研磨和清潔體(I)的頂部的步驟。
21.一種借助于地板處理機或手工研磨機使用根據(jù)權利要求I至18中任一者所述的地板研磨和清潔體(I)以進行對結構化地板的基于機器的處理的方法。
全文摘要
本發(fā)明涉及用于對結構化地板(2)的基于機器的處理的地板研磨和清潔體(1)包括基體(10),其在第一側(12)上具有彈性紋理化表面(14);處理層(20),其布置在基體(10)的紋理化表面(14)上;和鉤環(huán)適配層(30),其布置在基體(10)的與第一側(12)相反的第二側(16)上;其中紋理化表面(14)包括彈性突起結構,其中彈性突起結構的突起(18)設計成能夠處理地板(2)的結構化表面(3)的深處區(qū)域(4)。
文檔編號B24D15/02GK102883644SQ201180009246
公開日2013年1月16日 申請日期2011年2月4日 優(yōu)先權日2010年2月10日
發(fā)明者彼得·約斯特 申請人:約斯特有限責任公司
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