專利名稱：對位輔助板的制作方法
技術領域：
本發明涉及一種對位輔助板，這種對位輔助板具體應用于掩模組件的間接對位過程。
背景技術：
有機電致發光元件(OLED )因其視角廣、成本低、制造工藝簡單、分辨率高及自備發光等特點，備受關注，并被視為使下一代的平面顯示器新興應用技術。在制造有機電致發光元件的真空蒸鍍裝置方面，在底部設置盛放有機材料的坩堝，在坩堝的外面設置使用有機材料加熱、蒸發的加熱器。在蒸鍍裝置中，設置與坩堝相對配置的夾頭以及包夾玻璃基板的絕緣部件而使該基板安裝保持在夾頭的底面的基板夾具。夾頭是用于維持玻璃基板為平面狀的平板，在基板夾中設置升降機構，并在升降機構上設有夾具，通過夾具固定掩模框架，使其相對于基板的位置偏差控制在一定范圍內，具有局限性。升降夾具，使掩模組件靠近基板。而且在制造有機發光元件時，在基板上，每IOum寬度的像素必須將紅、綠、藍的發光部并列，各像素的位置精度必須為±5um的程度；又由于蒸鍍過程中，溫度不斷升高，受板材受熱膨脹的影響，掩模組件會相對于基板產生位置偏差，因此對真空蒸鍍裝置掩模的位置精度要求很高。掩模組件上蒸鍍設備時是通過掩模板上的對位點與基板進行對位，由于掩模框架的位置調試范圍存在局限性，掩模板又焊接在掩模框架上，使得僅僅通過掩模板對位點與基板進行對位無法滿足位置精度要求，因此必須保證掩模板與掩模框架的位置偏差也要控制在一定范圍內。在掩模板與掩模框架進行對位時，一般米用在掩模板03及掩模框架02上分別制作Mark (對位點)A、B的方法，通過C⑶對A、B的位置圖像進行捕捉，如圖1所示，使A、B
二者中心重合，完成二者的對位。由于掩模組件上蒸鍍設備時是通過掩模板03上的對位點A與基板進行對位，為了避免掩模框架02上的Mark點B對掩模板03上的Mark點產生遮擋，就要求掩模板03上的Mark點A的直徑要小于掩模框架02上的Mark點B的直徑，這樣才能保證蒸鍍對位時掩模板03上的Mark點A完全為通孔，對比度明顯，從而使得掩模板03與基板的對位精度高。
然而，在掩模板與掩模框架進行對位時，通過CXD對A、B進行位置圖形捕捉，CXD視角自上而下，首先捕捉到A的位置圖像，如果B的直徑大于A的直徑，CCD較難捕捉到B的位置圖像，這樣就給掩模板03與掩模框架02的對位帶來了難度，以致影響掩模板與掩模框架的對位精度。
發明內容
本發明旨在提供一種能夠在掩模板對位點的直徑小于掩模框架對位點的直徑的情況下確保掩模板與掩模框架準確對位的對位輔助板。為解決上述技術問題，本發明公開了一種對位輔助板。這種對位輔助板可用于掩模板與掩模框架之間的間接對位，其尺寸與掩模板的尺寸相同，且其包括至少兩個對位孔和至少兩個掛孔。其中，對位輔助板的對位孔與掩模板的對位孔的相對位置相同，且其直徑與掩模框架上相對應位置處的對位孔的直徑相同。其中，對位輔助板的尺寸大于掩模框架的尺寸，使得對位輔助板的掛孔能與基臺上的掛鉤配合以將對位輔助板固定在基臺上。并且其中，對位輔助板的對位孔的直徑大于相對應的掩模板對位孔的直徑。本發明的這種對位輔助板確保了當掩模板的Mark點A的直徑小于掩模框架的Mark點B的直徑時掩模板能夠與掩模框架準確對位。
圖1示出掩模板與掩模框架直接對位時兩者的對位孔(mark)的示意圖，其中A-掩模板上的對位孔
B-掩模框架的對位孔；
圖2示出掩模組件在基臺上直接對位的一個示意圖，其中
01-對位基臺
02-掩模框架 03-掩模板
04A-掩模板對位孔 O 5A-掩模板對位孔 06 08-微調銷釘；
圖3示出根據本發明一個實施例的對位輔助板在基臺上與掩模框架間接對位的示意圖，其中
01-對位基臺
02-掩模框架 (MA1-對位板對位孔 05Ar對位板對位孔 06 08-微調銷釘 11-對位輔助板；
圖4示出根據本發明一個實施例的掩模組件間接對位的對位孔的示意圖，其中A1-對位輔助板對位孔
B-掩模框架對位孔
L-對位輔助板對位孔與掩模框架對位孔的位置偏差；
圖5示出根據本發明一個實施例的對位輔助板的示意圖，其中 04A「對位輔助板對位孔05Ar對位輔助板對位孔 111 114掛孔；以及
圖6示出根據本發明一個實施例的間接對位的示意圖，其中Ol-對位基臺
04A「對位輔助板對位孔
05Ar對位輔助板對位孔
11-對位輔助板
111 114掛孔
121-掛鉤。
具體實施例方式以下將討論本發明的各個較佳實施例。但本領域技術人員應當理解，此處的詳細說明并不作為對本發明保護范圍的限制，本發明還可通過以下各實施例的變型或其它等同方式得以實現。本發明涉及一種用于掩模板與掩模框架的間接對位的對位輔助板。在本發明的一個實施例中，這種對位輔助板的尺寸可與所要對位的掩模板的尺寸相同，且對位輔助板Mark點A1與所要對位的掩模板的Mark點A在板面上的相對位置也可相同。在其它實施例中，對位輔助板的其他特征也可與掩模板相同，例如對位輔助板可具有與所要對位的掩模板尺寸、位置以及形狀相同的掛孔。與掩模板不同的是，對位輔助板不具有滿足蒸鍍要求的開口圖形。另外，對位輔助板的Mark點A1的直徑大于相對應的掩模板Mark點A的直徑，但是對位輔助板Mark點A1 與所要對位的掩模框架的Mark點B直徑是相同的，以利于掩模框架與對位板的位置對位。在一個示例中，對位輔助板Mark點A1的直徑為2 3mm，優選為 2.5mmο對位輔助板的板面包括對位Mark點和掛孔。對位Mark點至少有兩個，例如Mark點04仏和05八1。在一個示例中，這些對位Mark點可處于對位輔助板的對角位置。掛孔至少有兩個。由于對位輔助板的尺寸大于掩模框架的尺寸，當對位輔助板放置在基臺上時其掛孔與基臺上的掛鉤配合，以將對位輔助板固定在基臺上。掛孔的形狀可以是圓形、方形、半圓形中的一種。使用根據本發明一個實施例的對位輔助板，進行掩模板與掩模框架的間接對位的方法如下:
51、如圖5所示將掩模框架水平放置在對位基臺01上，并將掩模框架緊貼對位銷釘06 08放置，即與這些對位銷釘對齊；
52、將對位板11水平放置在掩模框架02上且使兩者緊貼，使對位板11與對位基臺01相對固定，并使對位板與掩模框架兩者相應的Mark點相對應；
53、通過CXD自上而下捕捉對位板11及掩模框架02上Mark點的位置圖像，并通過圖形測量對位板Mark點A1與掩模框架Mark點B的相對位置偏差L ；
54、調整對位基臺上的對位銷釘06 08的位置，以對與對位銷釘貼緊的掩模框架進行微調，使得對位板Mark點A1與掩模框架Mark點B的相對位置偏差LSlSym;
55、當掩模框架02與對位板11的Mark點的相對位置偏差LS15μπι后，將對位板從對位基臺上取下，再將掩模板03水平放置在掩模框架02上且使之固定在對位基臺01上；以及
S6、通過CXD自上而下捕捉掩模板Mark點A與掩模框架的Mark點B的位置圖像，檢測Mark點A是否被掩模框架的Mark點B的邊緣所遮擋，若被遮擋則重復步驟S2 S6，直至Mark點A完全為通孔。其中，如果在對掩模框架進行微調之前L < 15 μ m，則不需進行步驟S4，而是直接進行后續步驟；如果微調一次無法做到L < 15 μ m，則需重復步驟S4直至達到L < 15 μ m。通過本發明的這種對位輔助板，確保了在掩模板的Mark點A直徑小于掩模框架的Mark點B直徑的同時， 使掩模板能夠與掩模框架準確對位。
權利要求
1.一種對位輔助板，用于掩模板與掩模框架之間的間接對位，其特征在于，對位輔助板的尺寸與掩模板的尺寸相同，且對位輔助板包括至少兩個對位孔以及至少兩個掛孔， 其中，對位輔助板的對位孔與掩模板的對位孔的相對位置相同，且其直徑與掩模框架上相對應位置處的對位孔的直徑相同， 其中，對位輔助板的尺寸大于掩模框架的尺寸，使得對位輔助板的掛孔能與基臺上的掛鉤配合以將對位輔助板固定在基臺上， 并且其中，對位輔助板的對位孔的直徑大于相對應的掩模板對位孔的直徑。
2.如權利要求1所述的對位輔助板，其特征在于，對位輔助板的對位孔位于對位輔助板的對角位置。
3.如權利要求1所述的對位輔助板，其特征在于，對位輔助板的對位孔的直徑為2 3mm ο
4.如權利要求1所述的對位輔助板，其特征在于，對位輔助板的掛孔可以是圓形、方形、半圓形中的一種形狀。
5.如權利要求1所述的對位輔助板，其特征在于，對位輔助板的掛孔與掩模板掛孔的尺寸、位置以及形 狀相同。
全文摘要
本發明公開了一種對位輔助板，用于掩模板與掩模框架之間的間接對位。具體地，這種對位輔助板的尺寸與掩模板的尺寸相同，且包括至少兩個對位孔和至少兩個掛孔。對位輔助板的對位孔與掩模板的對位孔的相對位置相同，且其直徑與掩模框架上相對應位置處的對位孔的直徑相同。對位輔助板的尺寸大于掩模框架的尺寸，對位輔助板的掛孔能與基臺上的掛鉤配合以將對位輔助板固定在基臺上。并且，對位輔助板的對位孔的直徑大于相對應的掩模板對位孔的直徑。
文檔編號C23C14/24GK103205681SQ20121001069
公開日2013年7月17日 申請日期2012年1月16日 優先權日2012年1月16日
發明者魏志凌, 高小平, 鄭慶靚 申請人:昆山允升吉光電科技有限公司