專利名稱：回轉窯動態沸騰床配氣系統的制作方法
技術領域：
本發明屬于冶金技術領域，具體涉及一種回轉窯動態沸騰床配氣系統。
背景技術：
在冶金行業、化工無機鹽行業、水泥建材行業的生產中，都會使用到回轉窯。鋁土礦提取氧化鋁的過程中，產生大量的赤泥；在紅土鎳礦濕法浸出過程中，產生了大量的酸渣，造成了環境的污染和資源的浪費。在鋁土礦堿燒結法中，由于高溫還原造成了堿蒸發， 使得反應不能進行下去，從而導致了氧化鋁浸出率降低；使用回轉窯法進行氧化鐵還原時， 由于低溫就造成氧化鐵的還原率不足；在鈉存在的條件下，氫氣還原氧化鐵的速度加快，從而實現低溫還原，還原率高于其它還原劑。同時有效地避免了堿蒸發，使得反應正常進行， 提高了氧化鋁的收率，同時提高了氧化鐵的還原率。特別是針對針狀鋁鐵礦，是目前拜耳法、燒結法等無法實現的。

發明內容
本發明要解決的技術問題是克服現有技術的不足，提供一種實現低溫還原、提高氧化鋁收率及氧化鐵還原率的回轉窯動態沸騰床配氣系統。本發明解決其技術問題所采用的技術方案是回轉窯動態沸騰床配氣系統，包括回轉窯筒體、窯頭和窯尾，所述回轉窯筒體內壁上設有耐火層，其特征在于還包括一輸氣裝置，所述輸氣裝置包括一出氣噴頭，所述出氣噴頭由所述耐火層穿出至所述回轉窯筒體內。優選的，所述輸氣裝置還包括一輸氣總管、一輸氣分管，所述輸氣總管設置于窯頭或窯尾，與所述輸氣分管連通；所述輸氣分管穿設于所述耐火層內部，與所述出氣噴頭聯通。優選的，所述輸氣總管一端于所述窯頭或窯尾的中心部位與所述輸氣分管連通，
另一端連接一配氣盤。優選的，所述出氣噴頭為鴨嘴型，其出氣口朝向窯頭。優選的，所述鴨嘴型出氣噴頭由陶瓷材料制作。優選的，所述輸氣分管為一根以上，每一根輸氣分管連接一個以上的出氣噴頭。優選的，所述出氣噴頭設置于距所述窯頭5 50米處。優選的，在所述窯頭頂部固設芒刺，在所述芒刺上覆蓋耐火層。與現有技術相比，本發明的有益效果是在物料處于回轉窯筒體下部時，增設的輸氣裝置將外加氫氣經配氣盤、輸氣總管、輸氣分管，從出氣噴頭中噴出，噴出的氫氣可以將物料吹起、吹散，使得物料氣固反應能夠正常進行，還原更充分；且氫氣提高了還原效率，縮短了反應時間。


圖I是本發明實施例的結構剖視圖；圖2是圖I的左視圖。圖中標記為I、回轉窯筒體；2、窯頭；3、窯尾；4、耐火層；51、輸氣總管；52、輸氣分管；53、出氣噴頭；6、配氣盤；7、芒刺。
具體實施例方式下面結合附圖實施例，對本發明做進一步描述配氣盤6由控制器控制，使得處于物料的“填埋”中的出氣噴頭53(即處于回轉窯筒體I下部時的出氣噴頭53)，才可以通氣并噴出；外加氫氣經配氣盤6、輸氣總管51、輸氣分管52，從出氣噴頭53中噴出，噴出的氫氣可以將物料吹起、吹散。如圖1、2所示，回轉窯動態沸騰床配氣系統，包括回轉窯筒體I、窯頭2和窯尾3， 所述回轉窯筒體I內壁上設有耐火層4 ;還包括輸氣裝置，所述輸氣裝置包括輸氣總管51、 輸氣分管52、出氣噴頭53，所述出氣噴頭53由所述耐火層4穿出至所述回轉窯筒體I內； 所述出氣噴頭為鴨嘴型，由陶瓷材料制作，其出氣口朝向窯頭，距所述窯頭5 50米處。鴨嘴型出氣噴頭53的出氣口背向窯尾3，回轉窯筒體I內的物料從窯尾3流向窯頭2，就不會將出氣噴頭53的出氣口堵塞，保持氣路的暢通。所述輸氣總管51 —端于所述窯頭2的中心部位與所述輸氣分管52連通，另一端連接配氣盤6 ;所述輸氣分管52穿設于所述耐火層4內部，與所述出氣噴頭53聯通；所述輸氣分管52為一根以上，每一根輸氣分管52連接一個以上的出氣噴頭53 ;在所述窯頭2的頂部固設芒刺7，在所述芒刺7上覆蓋耐火層4。以上所述，僅是本發明的較佳實施例而已，并非是對本發明作其它形式的限制，任何熟悉本專業的技術人員可能利用上述揭示的技術內容加以變更或改型為等同變化的等效實施例。但是凡是未脫離本發明技術方案內容，依據本發明的技術實質對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與改型，仍屬于本發明技術方案的保護范圍。
權利要求
1.回轉窯動態沸騰床配氣系統，包括回轉窯筒體、窯頭和窯尾，所述回轉窯筒體內壁上設有耐火層，其特征在于還包括一輸氣裝置，所述輸氣裝置包括一出氣噴頭，所述出氣噴頭由所述耐火層穿出至所述回轉窯筒體內。
2.根據權利要求I所述的回轉窯動態沸騰床配氣系統，其特征在于所述輸氣裝置還包括一輸氣總管、一輸氣分管，所述輸氣總管設置于窯頭或窯尾，與所述輸氣分管連通；所述輸氣分管穿設于所述耐火層內部，與所述出氣噴頭聯通。
3.根據權利要求2所述的回轉窯動態沸騰床配氣系統，其特征在于所述輸氣總管一端于所述窯頭或窯尾的中心部位與所述輸氣分管連通，另一端連接一配氣盤。
4.根據權利要求I至3任一所述的回轉窯動態沸騰床配氣系統，其特征在于所述出氣噴頭為鴨嘴型，其出氣口朝向窯頭。
5.根據權利要求4所述的回轉窯動態沸騰床配氣系統，其特征在于所述鴨嘴型出氣噴頭由陶瓷材料制作。
6.根據權利要求5所述的回轉窯動態沸騰床配氣系統，其特征在于所述輸氣分管為一根以上，每一根輸氣分管連接一個以上的出氣噴頭。
7.根據權利要求6所述的回轉窯動態沸騰床配氣系統，其特征在于所述出氣噴頭設置于距所述窯頭5 50米處。
8.根據權利要求7所述的回轉窯動態冷卻系統，其特征在于在所述窯頭頂部固設芒刺，在所述芒刺上覆蓋耐火層。
全文摘要
回轉窯動態沸騰床配氣系統，包括回轉窯筒體、窯頭和窯尾，回轉窯筒體內壁上設有耐火層，還包括輸氣裝置，輸氣裝置包括輸氣總管、輸氣分管、出氣噴頭，出氣噴頭由耐火層穿出至回轉窯筒體內；輸氣總管設置于窯頭，一端與輸氣分管連通，另一端連接一配氣盤；輸氣分管穿設于耐火層內部，與出氣噴頭聯；窯頭頂部固設芒刺，在芒刺上覆蓋耐火層。其優點是在物料處于回轉窯筒體下部時，增設的輸氣裝置將外加氫氣經配氣盤、輸氣總管、輸氣分管，從出氣噴頭中噴出，噴出的氫氣可以將物料吹起、吹散，使得物料反應、還原得更充分；且氫氣還可以助燃，進一步提高還原溫度，提高了還原效率，縮短了反應時間。
文檔編號C22B1/216GK102583465SQ20121002540
公開日2012年7月18日 申請日期2012年1月21日 優先權日2012年1月21日
發明者胡曉雪, 胡長春 申請人:胡曉雪, 胡長春