專利名稱：一種真空腔室u型包網(wǎng)擋板的制作方法
技術領域：
本實用新型涉及一種真空腔室U型包網(wǎng)擋板。
背景技術：
在磁控濺射鍍膜的真空腔室中，陰極位與分子泵位之間設置有窗口板，該窗口板上開設有多個孔從而將磁控濺射鍍膜過程中產(chǎn)生的廢氣排出，以保證真空腔室中的真空度。然而窗口板上常有磁控濺射物的附著，在使用前需要對其進行打磨，換靶的工作量較大，此外，窗口板的表面往往設置的比較光滑，其表面對磁控濺射物的吸附能力不強，生產(chǎn)過程中容易出現(xiàn)崩渣和掉渣的現(xiàn)象，嚴重地影響了產(chǎn)品的生產(chǎn)效率和生產(chǎn)質(zhì)量。
發(fā)明內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種真空腔室U型包網(wǎng)擋板，該包網(wǎng)擋板在吸附磁控濺射物后易于更換和清潔，有效地提高了磁控濺射產(chǎn)品的生產(chǎn)效率和生產(chǎn)質(zhì)量。為達到上述目的，本實用新型采用的技術方案是:一種真空腔室U型包網(wǎng)擋板，所述包網(wǎng)擋板包括不銹鋼材料制成的擋板本體，所述擋板本體呈U字型，所述擋板本體的底部開設有多個通孔，所述擋板本體的外側周部上包設有不銹鋼網(wǎng)。優(yōu)選地，所述擋板本體上所述U字型的開口兩端分別向兩側折彎。由于上述技術方案的運用，本實用新型與現(xiàn)有技術相比具有下列優(yōu)點:本實用新型的一種真空腔室U型包網(wǎng)擋板，通過將擋板本體設置成U字型，并擋板本體上U字型開口的底部開設多個通孔，同時在擋 板本體的外側周部上包設不銹鋼網(wǎng)，將該U型包網(wǎng)擋板設置于磁控濺射鍍膜的真空腔室中，將其置于陰極位與分子泵位之間，真空腔室中產(chǎn)生的氣體從通孔中排出，磁控濺射物則能夠很好地附著至U型包網(wǎng)擋板的不銹鋼網(wǎng)上形成積渣，這有效地減少了積渣發(fā)生崩渣、掉渣的現(xiàn)象。當不銹鋼網(wǎng)上的積渣達到一定值時，可方便地將該U型包網(wǎng)擋板取出，對其進行拆卸噴砂即可將附著在不銹鋼網(wǎng)上的積渣清除掉，其清理過程方便、快捷，減少了換靶的頻率，換靶后也無需打磨，大幅地提高了磁控濺射產(chǎn)品的生產(chǎn)效率，同時也保證了產(chǎn)品的生產(chǎn)質(zhì)量。

附圖1為本實用新型的整體結構示意圖；附圖2為本實用新型的主視結構示意圖；附圖3為附圖2中A-A部剖視結構放大示意圖。
具體實施方式
以下結合附圖來對本實用新型的技術方案作進一步的闡述。參見圖1 3所示的一種真空腔室U型包網(wǎng)擋板，該包網(wǎng)擋板包括不銹鋼材質(zhì)制成的擋板本體I，擋板本體I呈U字型，該擋板本體I的底部開設有多個通孔2，擋板本體I的外側周部上還包設有不銹鋼網(wǎng)(圖中未示出)，擋板本體I上U字型開口的兩端分別向兩側折彎形成折彎部3。將該U型包網(wǎng)擋板應用于磁控濺射鍍膜的真空腔室中，將其置于陰極位與分子泵位之間，并將擋板本體I的U字型底部朝向陰極位，真空腔室中產(chǎn)生的氣體通過通孔2排出該腔室，擋板本體I的U字型槽內(nèi)可放置真空濺射生產(chǎn)中的其他部件。由于擋板本體I上包有不銹鋼網(wǎng)，磁控濺射物能夠很好地附著在該不銹鋼網(wǎng)上，能夠有效地減少磁控濺射物在不銹鋼網(wǎng)上形成的積渣發(fā)生的崩渣、掉渣現(xiàn)象。此外，折彎部3能夠將陰極位與分子泵位完全隔開，磁控濺射物也能夠基本上全部附著到該包網(wǎng)擋板上，避免磁控濺射物濺射至其他部件上。當該U型包網(wǎng)擋板上的磁控濺射物形成的積渣達到一定值時，則將該U型包網(wǎng)擋板取出，對其進行拆卸噴砂即可將附著在不銹鋼網(wǎng)上的積渣清除掉，其清理過程方便、快捷，減少了換靶的頻次，換靶后也無需打磨，大幅地提高了磁控濺射產(chǎn)品的生產(chǎn)效率，同時也保證了產(chǎn)品的生產(chǎn)質(zhì)量。上述實施 例只為說明本實用新型的技術構思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術的人士能夠了解本實用新型的內(nèi)容并據(jù)以實施，并不能以此限制本實用新型的保護范圍。凡根據(jù)本實用新型精神實質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應涵蓋在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
權利要求1.一種真空腔室U型包網(wǎng)擋板，其特征在于:所述包網(wǎng)擋板包括不銹鋼材料制成的擋板本體，所述擋板本體呈U字型，所述擋板本體的底部開設有多個通孔，所述擋板本體的外側周部上包設有不銹鋼網(wǎng)。
2.根據(jù)權利要求1所述的一 種真空腔室U型包網(wǎng)擋板，其特征在于:所述擋板本體上所述U字型的開口兩端分別向兩側折彎。
專利摘要本實用新型公開了一種真空腔室U型包網(wǎng)擋板，通過將擋板本體設置成U字型，并U字型開口的底部開設多個通孔，同時在擋板本體的外側周部上包設不銹鋼網(wǎng)，將該U型包網(wǎng)擋板設置于磁控濺射鍍膜的真空腔室中，將其置于陰極位與分子泵位之間，真空腔室中產(chǎn)生的氣體從通孔中排出，磁控濺射物則能夠很好地附著至U型包網(wǎng)擋板的不銹鋼網(wǎng)上形成積渣，這有效地減少了積渣發(fā)生崩渣、掉渣的現(xiàn)象。當不銹鋼網(wǎng)上的積渣達到一定值時，可方便地將該U型包網(wǎng)擋板取出，對其進行拆卸噴砂即可將附著在不銹鋼網(wǎng)上的積渣清除掉，其清理過程方便、快捷，減少了換靶的頻次，換靶后也無需打磨，大幅地提高了磁控濺射產(chǎn)品的生產(chǎn)效率，同時也保證了產(chǎn)品的生產(chǎn)質(zhì)量。
文檔編號C23C14/35GK203128650SQ201320067079
公開日2013年8月14日 申請日期2013年2月5日 優(yōu)先權日2013年2月5日
發(fā)明者田富 申請人:吳江南玻華東工程玻璃有限公司