本發明涉及鍍膜機技術領域，具體涉及一種帶行星盤的鍍膜機膜片轉動結構。

背景技術：

真空鍍膜機主要由以下幾部分組成：真空腔體，抽氣系統，充氣布氣系統，加熱系統，薄膜沉積控制系統，高壓控制系統，低壓控制系統，蒸發源系統，工件旋轉系統。其功能描述如下：

真空腔體：鍍膜加工的一個空間

抽氣系統：使鍍膜達到所需的真空度

充氣布氣系統：使氣動元件獲得足夠的氣壓完成動作

加熱系統：使基片達到鍍膜所需的溫度

薄膜沉積控制系統：使基片上鍍的膜厚達到所需的要求

高壓控制系統:使蒸發源獲得足夠的電壓

低壓控制系統：控制鍍膜機的元件完成規定的動作

蒸發源系統：讓膜料蒸發

工件旋轉系統：裝載基片并使其轉動

目前行業內的鍍膜機工轉主要是單軸承，易發生卡死、抖動等問題，公轉和自轉普遍是鏈輪和鏈條結構，但是這種結構轉動的時候不穩定，噪音大，而且鏈條鏈輪結構在長時間使用后會變松，從而影響膜層的均勻性。

技術實現要素：

本發明要解決的技術問題是解決上述現有技術的不足，提供一種不易卡死，穩定的可實現基片公轉和自轉的鍍膜機膜片轉動機構。

為了解決上述現有技術的不足，本發明采用的技術方案是：鍍膜機膜片公轉結構，包括傳動機構、定軸、繞定軸轉動的轉筒、罩體以及可固定在鍍膜機頂部的環形底盤，所述傳動機構主要包括一個驅動齒輪，所述罩體固定在底盤上，所述轉筒和定軸穿過環形底盤伸入鍍膜機的真空鍍膜腔，所述定軸的上端部固定在罩體的頂部，所述轉筒的外周面上固定設置一個減速齒輪，所述驅動齒輪由外部電機帶動轉動，驅動齒輪與減速齒輪嚙合從而驅動減速齒輪轉動，進一步帶動轉筒轉動，所述環形底盤上方設置一個軸向支撐轉筒的推力球軸承，所述罩體的內壁與轉筒外周面之間還設置防止轉筒徑向偏移的球軸承，轉筒下端固定設置一個傳動齒輪和一個旋轉板，旋轉板設置多個膜片行星盤機構，所述行星盤機構包括自轉軸以及對自轉軸進行徑向和軸向支撐的支撐部件，支撐部件安裝在旋轉板上，所述自轉軸上端固定設有與自轉軸同軸心的從動齒輪，從動齒輪可與傳動齒輪嚙合帶動自轉軸的自轉，自轉軸下端用于安裝工件架裝載基片。

進一步的，所述推力球軸承包括座圈、軸圈和鋼球保持架組成，軸圈與減速齒輪或者轉筒固定，座圈固定在環形底盤上。

進一步的，所述罩體靠近環形底盤的端部與推力球軸承對應位置設置環形空腔用于注入冷卻水，罩體在環形空腔處設置注水孔和出水孔用于水循環。

進一步的，所述球軸承設置在罩體頂部，罩體頂部設置冷卻水循環網路用于給球軸承降溫。

進一步的，還包括一個磁流體密封裝置，磁流體密封裝置一端連接驅動電機，另一端伸入鍍膜機真空腔連接驅動齒輪。

進一步的，所述定軸為中部結構，設置貫穿定軸的用于測量基片鍍膜厚度的晶控探頭。

進一步的，所述球軸承和推力球軸承上涂抹有耐高溫的潤滑脂。

進一步的，自轉軸的上端設置的從動齒輪有多個，且齒輪不同，所述支撐部件可相對于旋轉板上下移動設置。

進一步的，所述支撐部件上設置多個環形凹槽，凹槽間距等于齒輪間距，沿凹槽設置一對半圓環形的墊片，墊片上設置螺孔，墊片固定在旋轉板后將支撐部件夾持固定。

從上述技術方案可以看出本發明具有以下優點：雙軸承設置有利與轉筒的穩定轉動，減少軸承的卡死，通過冷卻水的循環來帶走熱量，這樣就大大降低了工轉結構內部的溫度，從而減少了熱漲變形造成的卡死，設置行星盤實現基片在腔體內部的公轉和自轉，從而提高膜層的均勻性，且設置多個齒數不同的齒輪，可以對自轉的速度進行調節；磁流體密封來替代原有的O型圈，J型密封圈組合，它既具有液體的流動性又具有固體磁性材料的磁性，進而保證基片鍍膜的品質，密封效果好，而且也很耐用，是傳統橡膠密封的幾倍，可以保持鍍膜腔的真空度。

附圖說明

圖1為本發明的剖視結構圖。

圖2為本發明中膜片行星盤機構。

圖3為本發明的俯視圖。

具體實施方式

以下結合附圖對本發明的具體實施方式做詳細說明。

如圖1所示，本發明的鍍膜機膜片公轉結構，包括傳動機構、定軸10、繞定軸轉動的轉筒9、罩體2以及可固定在鍍膜機頂部的環形底盤1，所述傳動機構主要包括驅動齒輪7和磁流體密封裝置6，磁流體密封裝置6連接外部的驅動電機，另一端伸入鍍膜機的鍍膜真空腔連接驅動齒輪7，磁流體密封來替代原有的O型圈，J型密封圈組合。它既具有液體的流動性又具有固體磁性材料的磁性。密封效果好，而且也很耐用，是傳統橡膠密封的幾倍，可以保持鍍膜腔的真空度。

罩體2固定在底盤1上從而固定在鍍膜機上，轉筒9和定軸10穿過環形底盤1伸入鍍膜機的真空鍍膜腔，定軸10的上端部固定在罩體2的頂部，轉筒9和定軸10同軸心設置，轉筒9的外周面上固定設置一個減速齒輪8，減速齒輪8與轉筒9同軸心設置，驅動齒輪7與減速齒輪8嚙合從而驅動減速齒輪8轉動，進一步帶動轉筒9繞定軸10轉動，在環形底盤1上方設置一個軸向支撐轉筒9的推力球軸承，推力球軸承包括座圈14、軸圈3和鋼球保持架13組成，軸圈3與減速齒輪或者轉筒固定，座圈14固定在環形底盤1上，罩體2的內壁與轉筒9外周面之間還設置防止轉筒9徑向偏移的球軸承4。雙軸承設置有利與轉筒的穩定轉動，減少軸承的卡死，進而保證基片鍍膜的品質。

對工轉結構的外圍增加了水冷，通過冷卻水的循環來帶走熱量，這樣就大大降低了工轉結構內部的溫度，從而減少了熱漲變形造成的卡死。水冷結構如下，將球軸承設置在罩體頂部，罩體頂部設置冷卻水循環網路12用于給球軸承降溫；罩體2靠近環形底盤1的端部與推力球軸承對應位置設置環形空腔11用于注入冷卻水，罩體在環形空腔處設置注水孔和出水孔用于水循環

定軸10為中部結構，設置貫穿定軸的用于測量基片鍍膜厚度的晶控探頭5。

且鍍膜過程中不能有揮油的存在，因為在薄膜沉積過程中，油的存在會影響薄膜沉積的牢固度。因此，在球軸承和推力球軸承上涂抹有耐高溫的潤滑脂。抖動的根本原因是軸承的磨損，因此選用了一種高真空不揮發的，耐高溫的潤滑脂。

如圖1、2和圖3所示，轉筒9下端固定設置一個傳動齒輪16和一個旋轉板17，旋轉板17上設置多個膜片行星盤機構，所述行星盤機構包括自轉軸20以及對自轉軸20進行徑向和軸向支撐的支撐部件15，支撐部件15安裝在旋轉板17上，所述自轉軸20上端固定設有多個與自轉軸同軸心的從動齒輪18，從動齒輪18的齒輪不同，從動齒輪18可與傳動齒輪16嚙合帶動自轉軸20的自轉，自轉軸20下端用于安裝工件架19裝載基片。設置行星盤可以實現基片的自轉，從而使鍍膜更加均勻，且可以通過選擇從動齒數的齒數改變自轉速度。

支撐部件的內部可以通過設置球軸承和推力球軸承實現對自轉軸的支撐，具體結構可以參考轉筒的支撐方式，在此不在贅述。支撐部件15可相對于旋轉板17上下移動設置，可以通過以下結構實現支撐部件的上下移動，在支撐部件外部設置多個環形的凹槽22，凹槽22的間距等于從動齒輪18的間距，一對半圓環形的墊片22沿凹槽設置將支撐部件夾緊，墊片22通過螺釘固定在旋轉板17上。

上下移動時，松開墊片上的螺釘，移開墊片，上下移動支撐部件一個或者多個凹槽間距后，再通過墊片將支撐部件固定在旋轉板上。