本發明屬于玻璃生產技術領域，涉及一種高清中性色低輻射鍍膜玻璃及制備方法。
背景技術：
現有技術中的low-e玻璃生產工藝是在優質浮法基片上鍍制以ag為功能層，包含介質層和其它金屬層的多層膜系。若按照功能層銀的層數來進行劃分，low-e玻璃可以分為單銀low-e玻璃、雙銀low-e玻璃、三銀low-e玻璃。目前，單銀、雙銀都是建筑玻璃領域比較成熟的節能方案,三銀節能玻璃節能效果優于雙銀和單銀，但三銀玻璃膜層結構復雜，工藝控制難度大，因而成本較高。近年來市場上真正能夠量產三銀的廠家不多，且可供選擇的三銀品種也不如雙銀、單銀豐富。
隨著市場逐漸成熟，同質化競爭日趨明顯，客戶對幕墻的外觀顏色的要求也越來越高，但是對于市場上大多數的low-e雙銀而言，其普遍存在側面小角度變色的情況，且膜面(色調重)、透過色(發黃/發綠)視覺效果較差，整體感官渾濁不夠清透，另一方面客戶對顏色的偏好朝中性色方向發展，市面上少量的中性色高清膜系產品受到客戶的追捧，各企業均開展有對雙銀顏色的改良研發工作。
現有的技術存在如下缺點：
1)目前雖有雙銀中性色產品，但總體仍不夠清透，存在透過色發黃/發綠的問題。
2)目前的雙銀產品多數存在小角度變色的現象，且膜面色調重，影響裝飾效果。
3)雙銀產品總體生產成本仍然較高，民用市場推廣缺乏動力。
技術實現要素：
本發明的目的是針對現有的技術存在的上述問題，提供一種高清中性色低輻射鍍膜玻璃及制備方法，本發明所要解決的技術問題是如何提高玻璃的清透性能。
本發明的目的可通過下列技術方案來實現：一種高清中性色低輻射鍍膜玻璃，其特征在于，所述低輻射玻璃包括玻璃基片層和位于玻璃基片層一側的鍍膜層，所述鍍膜層自所述玻璃基片層向外依次復合有十個膜層，其中第一層為znsno/zno或兩者的混合層，第二層為ag層，第三層cu層，第四層為nicr層,第五層為fe2o3層,第六層為znsno/zno或兩者的混合層,第七層為ag層,第八層為nicr層，第九層為fe2o3層，第十層為sinx層。
其中第一層為第一電介質組合層，第二層為低輻射功能層，第三層為第一阻擋保護層，第四層為透過色改善層，第六層為第二電介質組合層，第七層為低輻射功能層，第八層為第二阻擋保護層，第九層為透過色改善層，第十層為第三電介質層。通過添加、優化膜層材料，在第八層和第十層之間設置fe2o3層，有效調節380-550nm波段透過率，改善low-e雙銀透過色及膜面顏色，使其更加清透。
一種高清中性色低輻射鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，本加工方法包括如下步驟：
1)、磁控濺射鍍膜層；
a、磁控濺射第一層：
靶材數量：交流旋轉靶4～6個；靶材配置為鋅錫(znsn)/鋅鋁(znal)，或者是鋅錫(znsn)和鋅鋁(znal)的混合物；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:2，濺射氣壓為3～5×10-3mbar；鍍膜厚度為：45～55nm；
b、磁控濺射第二層：
靶材數量：交流旋轉靶或直流旋轉靶1個；靶材料為ag；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10-3mbar；鍍膜厚度為：2.0～3.5nm；
c、磁控濺射第三層：
靶材數量：交流旋轉靶1個；靶材料為cu；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10-3mbar；鍍膜厚度為：0.5～2nm；
d、磁控濺射第四層：
靶材數量：交流旋轉靶1個；靶材料為nicr；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10-3mbar；鍍膜厚度為：1.5～2.5nm；
e、磁控濺射第五層：
靶材數量：交流旋轉靶1個；靶材料為fe2o3；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:2，濺射氣壓為3～5×10-3mbar；鍍膜厚度為：1.0～2.0nm；不銹鋼旋轉靶濺射的fe2o3層不僅能夠改善透過性能，而且其價格低廉，能夠大幅度的降低玻璃的制備成本。
f、磁控濺射第六層：
靶材數量：交流旋轉靶6～8個；靶材料為鋅錫(znsn)/鋅鋁(znal)，或者是鋅錫(znsn)、鋅鋁(znal)靶混合使用；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:2，濺射氣壓為3～5×10-3mbar；鍍膜厚度為：65～75nm；
g、磁控濺射第七層：
靶材數量：交流旋轉靶或直流旋轉靶1個；靶材料為ag；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10-3mbar；鍍膜厚度為：15～20nm；
h、磁控濺射第八層：
靶材數量：交流旋轉靶1個；靶材料為nicr；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10-3mbar；鍍膜厚度為：1.4～3.1nm；
i、磁控濺射第九層：
靶材數量：交流旋轉靶1個；靶材料為fe2o3；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:2，濺射氣壓為3～5×10-3mbar；鍍膜厚度為：0.5～2.0nm；不銹鋼旋轉靶濺射的fe2o3層不僅能夠改善透過性能，而且其價格低廉，能夠大幅度的降低玻璃的制備成本。
j、磁控濺射第十層：
靶材數量：交流旋轉靶1個；靶材料為sinx；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:1.14；濺射氣壓為3～5×10-3mbar；鍍膜厚度為：45～50nm；
2)、鍍膜層厚度控制在180～205nm之間。
本發明獲得的有益效果為：
1、制得的玻璃6mm單片透過率為40-55％，玻面外觀顏色清新靚麗，色彩純一；透過色a*∈[-1.5，0]，b*∈[-1.0，0]；膜面顏色a*∈[-5.0,0]，b*∈[-2.0，2.0]，玻面多角度(10°—75°)色差△a*＜2.5。
2、引入成本較低的不銹鋼靶材，降低生產成本。
附圖說明
圖1是本發明中高清中性色低輻射鍍膜玻璃的結構示意圖。
圖中，a、玻璃基片層；1、第一層；2、第二次；3、第三層；4、第四層；5、第五層；6、第六層；7、第七層；8、第八層；9、第九層；10、第十層。
具體實施方式
以下是本發明的具體實施例并結合附圖，對本發明的技術方案作進一步的描述，但本發明并不限于這些實施例。
如圖1所示，高清中性色低輻射鍍膜玻璃包括玻璃基片層a和位于玻璃基片層a一側的鍍膜層，所述鍍膜層自玻璃基片層a向外依次復合有十個膜層，其中第一層1為znsno/zno或兩者的混合層，第二層2為ag層，第三層3cu層，第四層4為nicr層,第五層5為fe2o3層,第六層6為znsno/zno或兩者的混合層,第七層7為ag層,第八層8為nicr層，第九層9為fe2o3層，第十層10為sinx層。
其中第一層1為第一電介質組合層，第二層2為低輻射功能層，第三層3為第一阻擋保護層，第四層4為透過色改善層，第六層6為第二電介質組合層，第七層7為低輻射功能層，第八層8為第二阻擋保護層，第九層9為透過色改善層，第十層10為第三電介質層。通過添加、優化膜層材料，在第八層8和第十層10之間設置fe2o3層，有效調節380-550nm波段透過率，改善low-e雙銀透過色及膜面顏色，使其更加清透。
一種高清中性色低輻射鍍膜玻璃的制備方法，其特征在于，本加工方法包括如下步驟：
1)、磁控濺射鍍膜層；
a、磁控濺射第一層1：
靶材數量：交流旋轉靶4～6個；靶材配置為鋅錫(znsn)/鋅鋁(znal)，或者是鋅錫(znsn)和鋅鋁(znal)的混合物；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:2，濺射氣壓為3～5×10-3mbar；鍍膜厚度為：45～55nm；
b、磁控濺射第二2：
靶材數量：交流旋轉靶或直流旋轉靶1個；靶材料為ag；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10-3mbar；鍍膜厚度為：2.0～3.5nm；
c、磁控濺射第三層3：
靶材數量：交流旋轉靶1個；靶材料為cu；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10-3mbar；鍍膜厚度為：0.5～2nm；
d、磁控濺射第四層4：
靶材數量：交流旋轉靶1個；靶材料為nicr；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10-3mbar；鍍膜厚度為：1.5～2.5nm；
e、磁控濺射第五層5：
靶材數量：交流旋轉靶1個；靶材料為fe2o3；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:2，濺射氣壓為2～3×10-3mbar；鍍膜厚度為：1.0～2.0nm；不銹鋼旋轉靶濺射的fe2o3層不僅能夠改善透過性能，而且其價格低廉，能夠大幅度的降低玻璃的制備成本。
f、磁控濺射第六6：
靶材數量：交流旋轉靶6～8個；靶材配置為鋅錫(znsn)/鋅鋁(znal)，或者是鋅錫(znsn)和鋅鋁(znal)的混合物；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:2，濺射氣壓為3～5×10-3mbar；鍍膜厚度為：65～75nm；
g、磁控濺射第七層7：
靶材數量：交流旋轉靶或直流旋轉靶1個；靶材料為ag；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10-3mbar；鍍膜厚度為：15～20nm；
h、磁控濺射第八層8：
靶材數量：交流旋轉靶1個；靶材料為nicr；工藝氣體比例：純氬氣，濺射氣壓為2～3×10-3mbar；鍍膜厚度為：1.4～3.1nm；
i、磁控濺射第九層9：
靶材數量：交流旋轉靶1個；靶材料為fe2o3；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:2，濺射氣壓為3～5×10-3mbar；鍍膜厚度為：0.5～2.0nm；不銹鋼旋轉靶濺射的fe2o3層不僅能夠改善透過性能，而且其價格低廉，能夠大幅度的降低玻璃的制備成本。
j、磁控濺射第十層10：
靶材數量：交流旋轉靶1個；靶材料為sinx；工藝氣體比例：氬氣和氧氣，氬氣和氧氣的比例為1:1.14；濺射氣壓為3～5×10-3mbar；鍍膜厚度為：45～50nm；
2)、鍍膜層厚度控制在180～205nm之間。
其效果為：1、制得的玻璃6mm單片透過率為40-55％，玻面外觀顏色清新靚麗，色彩純一；透過色a*∈[-1.5，0]，b*∈[-1.0，0]；膜面顏色a*∈[-5.0,0]，b*∈[-2.0，2.0]，玻面多角度(10°—75°)色差△a*＜2.5。
2、引入成本較低的不銹鋼靶材，降低生產成本，
本文中所描述的具體實施例僅僅是對本發明精神作舉例說明。本發明所屬技術領域的技術人員可以對所描述的具體實施例做各種各樣的修改或補充或采用類似的方式替代，但并不會偏離本發明的精神或者超越所附權利要求書所定義的范圍。