本發明涉及一種鍍制方法，具體是一種新型日夜型產品的鍍制方法。

背景技術：

1；目前隨著對夜間拍照的成像要求越來越高，傳統的日夜型光譜已滿足不了要求

2；目前比較常見的要求850nm處要求t=75%+/-5%，傳統的鍍膜工藝很難滿足850nm處的透過要求，需要研發新型的鍍膜方法提升鍍膜曲線良率。

鍍制第二面時，850nm處曲線容易產生嚴重變形，很難滿足要求良率50%左右。

技術實現要素：

本發明的目的在于提供一種新型日夜型產品的鍍制方法以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現上述目的，本發明提供如下技術方案：

一種新型日夜型產品的鍍制方法，包含以下步驟：

a、鍍制第一面時，將850nm處透過固定在70%-80%范圍內；

b、第二面鍍制傳統日夜型曲線，850nm處透過穩定，通過雙面曲線疊加，最后保證850nm處曲線在70%-80%范圍內。

與現有技術相比，本發明的有益效果是：1；改善后第一面可以將850nm處透過固定在75%左右；2；第二面鍍制傳統日夜型曲線，850nm處透過比較穩定，通過雙面曲線疊加，最后保證850nm處曲線在75%左右。

附圖說明

圖1是現有技術第一面鍍制曲線圖。

圖2是現有技術第二面鍍制曲線圖。

圖3是本發明第一面鍍制曲線圖。

圖4是本發明第二面鍍制曲線圖。

圖5是本發明雙面綜合曲線。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。

請參閱圖1-5，本發明實施例中，一種新型日夜型產品的鍍制方法，包含以下步驟：

a、鍍制第一面時，將850nm處透過固定在70%-80%范圍內；

b、第二面鍍制傳統日夜型曲線，850nm處透過穩定，通過雙面曲線疊加，最后保證850nm處曲線在70%-80%范圍內。

本發明的工作原理是：1；改善后第一面可以將850nm處透過固定在75%左右；2；第二面鍍制傳統日夜型曲線，850nm處透過比較穩定，通過雙面曲線疊加，最后保證850nm處曲線在75%左右。

對于本領域技術人員而言，顯然本發明不限于上述示范性實施例的細節，而且在不背離本發明的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實現本發明。因此，無論從哪一點來看，均應將實施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本發明的范圍由所附權利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權利要求的等同要件的含義和范圍內的所有變化囊括在本發明內。不應將權利要求中的任何附圖標記視為限制所涉及的權利要求。

此外，應當理解，雖然本說明書按照實施方式加以描述，但并非每個實施方式僅包含一個獨立的技術方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領域技術人員應當將說明書作為一個整體，各實施例中的技術方案也可以經適當組合，形成本領域技術人員可以理解的其他實施方式。

技術特征：

技術總結
本發明公開了一種新型日夜型產品的鍍制方法，包含以下步驟：A、鍍制第一面時，將850nm處透過固定在70%?80%范圍內；B、第二面鍍制傳統日夜型曲線，850nm處透過穩定，通過雙面曲線疊加，最后保證850nm處曲線在70%?80%范圍內，本發明的有益效果是：1；改善后第一面可以將850nm處透過固定在75%左右；2；第二面鍍制傳統日夜型曲線，850nm處透過比較穩定，通過雙面曲線疊加，最后保證850nm處曲線在75%左右。

技術研發人員：陳偉
受保護的技術使用者：深圳市鼎新光電有限公司
技術研發日：2017.06.13
技術公布日：2017.10.17