蝕刻液循環(huán)再生處理系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及PCB板工業(yè)廢水處理技術(shù)領(lǐng)域，特別是指一種蝕刻液循環(huán)再生處理系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著現(xiàn)代信息產(chǎn)業(yè)和電子工業(yè)的高速發(fā)展，PCB板工業(yè)發(fā)展迅猛，而蝕刻是PCB板生產(chǎn)中的一道重要工序，基本上除了線路以外的銅都需要通過蝕刻工序去掉，成為線路的銅僅占基板面總銅的一部分，另一部分的銅溶解于蝕刻液中。蝕刻是消耗藥劑較大的工序，也是產(chǎn)生廢蝕刻液和廢水最多的工序。蝕刻過程中，蝕刻液會不時從蝕刻槽中排出，同時需要添加新的蝕刻液以保證正常的蝕刻工序進(jìn)行。
[0003]由于廢蝕刻液中含有大量的銅，一方面造成了銅的浪費(fèi)，另一方面嚴(yán)重污染了環(huán)境，現(xiàn)如今，PCB行業(yè)排放的廢蝕刻液每年呈迅速遞增趨勢，這使得對廢蝕刻液再生設(shè)備的要求也越來越高，目前的蝕刻液循環(huán)再生設(shè)備大多存在效率低，成本高，占地面積大等問題，不利于節(jié)能環(huán)保的理念。
[0004]因此，有必要設(shè)計一種新的蝕刻液循環(huán)再生處理系統(tǒng)，以解決上述技術(shù)問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]針對【背景技術(shù)】中存在的問題，本實用新型目的是提供一種蝕刻液循環(huán)再生處理系統(tǒng)，結(jié)構(gòu)簡單，效率高且成本低，有利于資源回收和循環(huán)利用。
[0006]本實用新型的技術(shù)方案是這樣實現(xiàn)的:一種蝕刻液循環(huán)再生處理系統(tǒng)，包括蝕刻液槽，與蝕刻液槽連接的廢液存儲槽，與廢液存儲槽連接的預(yù)處理槽，與預(yù)處理槽連接的分離槽，分別與分離槽連接的再生液槽和二次處理槽，與二次處理槽連接的電解槽，再生液槽連接蝕刻液槽，調(diào)配槽連接再生液槽，所述蝕刻液槽內(nèi)設(shè)有濃度感應(yīng)器，濃度感應(yīng)器連接有控制器，蝕刻液槽和廢液存儲槽之間設(shè)有抽送栗，所述控制器連接抽送栗，所述電解槽內(nèi)間隔設(shè)有陽極板和陰極板。
[0007]在上述技術(shù)方案中，所述預(yù)處理槽為萃取槽。
[0008]在上述技術(shù)方案中，所述二次處理槽為反萃取槽。
[0009]在上述技術(shù)方案中，所述廢液存儲槽連接液面高度傳感器，液面高度傳感器連接報警器。
[0010]本實用新型蝕刻液循環(huán)再生處理系統(tǒng)，通過濃度感應(yīng)器感應(yīng)蝕刻液中銅離子的濃度，在蝕刻液槽和廢液存儲槽之間設(shè)置抽送栗和控制器，來實時控制銅離子飽和的蝕刻液流入到廢液存儲槽，再利用預(yù)處理槽和二次處理槽以及電解槽對廢液存儲槽中的廢蝕刻液進(jìn)行處理電解回收銅，同時再生液槽通過及時調(diào)配補(bǔ)充到蝕刻液槽中繼續(xù)進(jìn)行蝕刻動作。如此循環(huán)裝置，實現(xiàn)結(jié)構(gòu)簡單，效率高且成本低，有利于資源回收和循環(huán)利用。
【附圖說明】
[0011]圖1為本實用新型蝕刻液循環(huán)再生處理系統(tǒng)結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0012]下面將結(jié)合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護(hù)的范圍。
[0013]如圖1所示，本實用新型所述的一種蝕刻液循環(huán)再生處理系統(tǒng)，包括蝕刻液槽1，與所述蝕刻液槽I連接的廢液存儲槽2，所述廢液存儲槽2連接液面高度傳感器21，所述液面高度傳感器21連接報警器22。所述液面高度傳感器21用于實時感應(yīng)廢液存儲槽2中廢蝕刻液的高度，連接的報警器22用于報警提醒所述廢液存儲槽2中廢蝕刻液已到飽和狀
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[0014]與廢液存儲槽2連接的預(yù)處理槽3，所述預(yù)處理槽3為萃取槽，廢液存儲槽2中的廢蝕刻液流入進(jìn)所述預(yù)處理槽3中進(jìn)行萃取。與所述預(yù)處理槽3連接的分離槽4，所述分離槽4用于對萃取后的廢蝕刻液進(jìn)行分離處理。所述分離槽4連接再生液槽5和二次處理槽6，所述二次處理槽6為反萃取槽。分離槽4將銅離子為100克L的廢蝕刻液分離流入到所述再生液槽5中，含有銅離子的萃取劑分離流入到二次處理槽6中與硫酸混合后，銅離子被硫酸反萃后形成硫酸銅溶液。
[0015]與所述二次處理槽6連接的電解槽7，所述電解槽7內(nèi)間隔設(shè)有陽極板71和陰極板72。反萃取處理后的硫酸銅溶液進(jìn)入到電解槽7內(nèi)進(jìn)行電解處理，回收銅，達(dá)到資源回收的目的。
[0016]再生液槽5連接所述蝕刻液槽1，調(diào)配槽8連接再生液槽5，如此調(diào)配槽8對再生液槽5中的再生液進(jìn)行調(diào)配后再流入到所述蝕刻液槽I中繼續(xù)進(jìn)行蝕刻動作。實現(xiàn)資源的循環(huán)利用。
[0017]所述蝕刻液槽I內(nèi)設(shè)有濃度感應(yīng)器11，用于實時感應(yīng)所述蝕刻液槽I中蝕刻液的銅離子濃度。所述濃度感應(yīng)器11連接有控制器12，所述蝕刻液槽I和廢液存儲槽2之間設(shè)有抽送栗13，所述控制器12連接抽送栗13。根據(jù)濃度感應(yīng)器11的感應(yīng)來控制抽送栗13的開關(guān)抽送銅離子飽和的蝕刻液至所述廢液存儲槽2中進(jìn)行下一步的循環(huán)處理動作。
[0018]本實用新型蝕刻液循環(huán)再生處理系統(tǒng)，通過濃度感應(yīng)器11感應(yīng)蝕刻液槽I中蝕刻液的銅離子濃度，且在蝕刻液槽I和廢液存儲槽2之間設(shè)置抽送栗13和控制器12，來實時控制銅離子飽和的蝕刻液流入到廢液存儲槽2，再利用預(yù)處理槽3和二次處理槽6以及電解槽7對廢液存儲槽中的廢蝕刻液進(jìn)行處理電解回收銅，同時再生液槽5通過及時調(diào)配補(bǔ)充到蝕刻液槽I中繼續(xù)進(jìn)行蝕刻動作。如此循環(huán)裝置，實現(xiàn)結(jié)構(gòu)簡單，效率高且成本低，有利于資源回收和循環(huán)利用。
[0019]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種蝕刻液循環(huán)再生處理系統(tǒng)，其特征在于:包括蝕刻液槽，與蝕刻液槽連接的廢液存儲槽，與廢液存儲槽連接的預(yù)處理槽，與預(yù)處理槽連接的分離槽，分別與分離槽連接的再生液槽和二次處理槽，與二次處理槽連接的電解槽，再生液槽連接蝕刻液槽，調(diào)配槽連接再生液槽，所述蝕刻液槽內(nèi)設(shè)有濃度感應(yīng)器，濃度感應(yīng)器連接有控制器，蝕刻液槽和廢液存儲槽之間設(shè)有抽送栗，所述控制器連接抽送栗，所述電解槽內(nèi)間隔設(shè)有陽極板和陰極板。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻液循環(huán)再生處理系統(tǒng)，其特征在于:所述預(yù)處理槽為萃取槽。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻液循環(huán)再生處理系統(tǒng)，其特征在于:所述二次處理槽為反萃取槽。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蝕刻液循環(huán)再生處理系統(tǒng)，其特征在于:所述廢液存儲槽連接液面高度傳感器，液面高度傳感器連接報警器。
【專利摘要】本實用新型公開一種蝕刻液循環(huán)再生處理系統(tǒng)，包括依次連接的蝕刻液槽，廢液存儲槽，預(yù)處理槽和分離槽，與分離槽連接的再生液槽和二次處理槽，與二次處理槽連接的電解槽，再生液槽連接蝕刻液槽，調(diào)配槽連接再生液槽，蝕刻液槽內(nèi)設(shè)有濃度感應(yīng)器并連接控制器，蝕刻液槽和廢液存儲槽之間設(shè)有抽送泵，控制器連接抽送泵，電解槽內(nèi)間隔設(shè)有陽極板和陰極板。通過濃度感應(yīng)器感應(yīng)蝕刻液中銅離子的濃度，抽送泵和控制器來控制銅離子飽和的蝕刻液流入到廢液存儲槽，再利用預(yù)處理槽和二次處理槽以及電解槽進(jìn)行處理電解回收銅，再生液槽及時調(diào)配補(bǔ)充到蝕刻液槽中繼續(xù)進(jìn)行蝕刻動作。如此循環(huán)裝置，實現(xiàn)結(jié)構(gòu)簡單，效率高且成本低，有利于資源回收和循環(huán)利用。
【IPC分類】C23F1/46
【公開號】CN204898082
【申請?zhí)枴緾N201520690821
【發(fā)明人】張海波, 薛雄師
【申請人】中山市鴻博化工助劑有限公司
【公開日】2015年12月23日
【申請日】2015年9月9日