本發(fā)明涉及玻璃制造技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種防輻射的低熔點(diǎn)高彈性玻璃基板。
背景技術(shù)：
紫外線通常指200～400nm波長(zhǎng)范圍的光線，太陽(yáng)光中大部分的光線都會(huì)被臭氧層所吸收，能夠到達(dá)地面的光線通常為320nm～400nm的長(zhǎng)波紫外線，一定的紫外線對(duì)人體是有益的，但是大量的紫外輻射特別是短波長(zhǎng)的紫外線對(duì)人體有較大損害，尤其是皮膚和眼睛，因此在寫(xiě)字樓、圖書(shū)館、博物館等高檔建筑及部分特種燈具上必須最大限度的屏蔽紫外線的輻射。
由于玻璃在高層建筑使用的越來(lái)越多，人們對(duì)力學(xué)等性能的要求越來(lái)越高，所以在滿足屏蔽紫外線的需求下，還需要使玻璃本體的結(jié)構(gòu)越來(lái)越緊密，從而提高了玻璃熔化溫度，增加了工業(yè)化制備難度。
《一種防輻射玻璃蓋板及其制作方法》（公開(kāi)號(hào)CN106113807A）公開(kāi)了一種防輻射玻璃蓋板，包括內(nèi)側(cè)的高硼硅玻璃層，高硼硅玻璃層外側(cè)設(shè)有一層微晶玻璃層，高硼硅玻璃層外側(cè)設(shè)置一層防輻射玻璃層，所述防輻射玻璃蓋板表面涂有聚丙烯塑料層，其采用多層玻璃的疊加模式，結(jié)構(gòu)和工藝都較復(fù)雜。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的在于提供一種防輻射的低熔點(diǎn)高彈性玻璃基板，該玻璃基板不僅防輻射，而且具有較高的彈性模量、耐劃傷，能夠在復(fù)雜環(huán)境長(zhǎng)期使用，并且由于熔化溫度低，能夠降低生產(chǎn)難度、滿足規(guī)模制造的需求。
本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：
一種防輻射的低熔點(diǎn)高彈性玻璃基板，包括按重量百分比的以下原料：45.1～55%的SiO2、10.6～15.6%的P2O5、13.4～22.4%的Al2O3、0.1～1%的ZrO2、10.1～15.1%的Na2O、1～5%的K2O、0.1～1%的CaO、1.3～5%的MgO以及0.4～5%的助劑，所述助劑為NaNO3、NaF、CeO2與SnO2的混合物。
本發(fā)明的有益效果是：
SiO2 與P2O5作為網(wǎng)絡(luò)形成體氧化物，構(gòu)建玻璃網(wǎng)絡(luò)構(gòu)架，P2O5能夠提高玻璃基板在紫外區(qū)域的透過(guò)率；
Al2O3與ZrO2作為網(wǎng)絡(luò)中間體氧化物，Al2O3能夠增加玻璃基板的熱穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性，從而降低大量氧化磷的加入，減少對(duì)玻璃穩(wěn)定性帶來(lái)的負(fù)面影響；ZrO2能夠增加玻璃基板的彈性以及化學(xué)穩(wěn)定性；
Na2O、K2O、CaO與MgO作為網(wǎng)絡(luò)外體氧化物，Na2O能夠降低玻璃高溫黏度；K2O能夠降低玻璃熔化溫度、CaO能夠提高玻璃基板的彈性和化學(xué)穩(wěn)定性；MgO能夠改善玻璃成型性能、降低制備難度，同時(shí)也能夠提高玻璃彈性；
助劑能夠在玻璃基板的制造中起到澄清、脫色與助熔的作用；
按本發(fā)明原料配比所制得的玻璃基板應(yīng)變點(diǎn)≥550℃，彈性模量＞65GPa，熔化溫度（10PaS）＜1570℃，紫外透過(guò)率（351nm）＜45%。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明提供一種防輻射的低熔點(diǎn)高彈性玻璃基板，包括按重量百分比的以下原料：45.1～55%的SiO2、10.6～15.6%的P2O5、13.4～22.4%的Al2O3、0.1～1%的ZrO2、10.1～15.1%的Na2O、1～5%的K2O、0.1～1%的CaO、1.3～5%的MgO以及0.4～5%的助劑，所述助劑為NaNO3、NaF、CeO2與SnO2的混合物。
為了便于更清楚的理解本發(fā)明，下面以表格形式列出十六個(gè)實(shí)施例：
上表中每個(gè)實(shí)施例均按以下工藝制得玻璃基板：
原料配比完成后放入熔爐中，以3℃/min的速度升溫至1600℃，然后保溫兩個(gè)小時(shí)，之后將熔制好的玻璃液傾倒于模具中成型，再以2℃/min的降溫速度在退火爐中退火，退火溫度600℃，直至冷卻至室溫，最后將玻璃樣品取出切割、拋光得到所需玻璃基板；制造玻璃基板也可采用其它常規(guī)的玻璃基板工藝完成。
將各個(gè)實(shí)施例分別得到的玻璃基板進(jìn)行測(cè)試，得到下表：
以上所述，僅是本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已，并非對(duì)本發(fā)明作任何形式上的限制；任何熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明技術(shù)方案范圍情況下，都可利用上述揭示的方法和技術(shù)內(nèi)容對(duì)本發(fā)明技術(shù)方案做出許多可能的變動(dòng)和修飾，或修改為等同變化的等效實(shí)施例。因此，凡是未脫離本發(fā)明技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)質(zhì)對(duì)以上實(shí)施例所做的任何簡(jiǎn)單修改、等同替換、等效變化及修飾，均仍屬于本發(fā)明技術(shù)方案保護(hù)的范圍內(nèi)。