涂布組合物及其制備方法、和由該涂布組合物形成的膜層的制作方法
【專利摘要】本發明提供一種涂布組合物及其制備方法、和由該涂布組合物形成的膜層。該涂布組合物包含一由一(a)聚硅倍半氧烷與一(b)具有公式(I)結構的化合物經化學反應所得的產物；其中R為獨立的羥基、或C1-8烷氧基；R1為C3-12環氧基、C3-12丙烯酸酯基、C3-12烷基丙烯酸基、C3-12氨烷基、C3-12異氰酸酯烷基、C3-12烷羧酸基、C3-12鹵烷基、C3-12硫醇烷基、C3-12烷基、或C3-12烯基；以及，R2為羥基、C1-8烷基、或C1-8烷氧基。
【專利說明】涂布組合物及其制備方法、和由該涂布組合物形成的膜層
【技術領域】
[0001]本發明是有關于一種涂布組合物，且特別是有關于一種用來形成具有耐候性、高可撓曲性、及高機械強度膜層的涂布組合物，及其制備方法、和由該涂布組合物形成的膜層。
【背景技術】
[0002]有機聚合物材料由于具有輕、薄、及可撓曲的性質，被廣泛的使用在涂布材料及光電產品中。然而，有機材料中的化學鍵由于原子間的鍵結能低，造成耐候性不足。雖然無機材料具有高的耐候性，可抵抗太陽光中的紫外線破壞，但無機材料成膜性與可撓曲性不佳，作為涂層會有易于剝落的問題。
[0003]因此，業界需要一種高成膜性的涂布組合物，以形成具有高耐候性、及高可撓曲性的膜層。

【發明內容】

[0004]本發明的目的在于提供一種既具有有機材料的高成膜性及高可撓曲性，也具有無機材料的高耐候性的涂布組合物。
[0005]本發明提出一種涂布組合物，包含一由一(a)聚硅倍半氧烷與一(b)具有公式(I)結構的化合物經化學反應所得的產物；
[0006]
【權利要求】
1.一種涂布組合物，包含: 一由一(a)聚硅倍半氧烷與一(b)具有公式(I)結構的化合物經化學反應所得的產物；
2.如權利要求1所述的涂布組合物，其中所述(b)具有公式⑴結構的化合物為2-(3，4_環氧環己基)乙基三甲基硅烷、3-甘油基丙基三甲氧基硅烷、3-甘油基丙基甲基二乙基硅烷氧、3-甘油基丙基三乙基硅烷氧、3-甲基丙烯酸基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酸基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酸基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酸基丙基二乙氧基娃焼、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基娃焼、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基二甲氧基娃焼、3-胺丙基二甲氧基娃焼、3-胺丙基二乙氧基娃焼、N-苯基_3胺丙基二甲氧基娃焼、3_服基丙基二乙氧基娃焼、3_異氛酸丙基二乙氧基娃焼、3_氣丙基二甲氧基娃烷、I氫，I氫，2氫，2氫-全氟辛烷基三乙氧基硅烷、氟已烷基1.1.2.2-四氫葵基三乙氧基娃焼、3-硫丙基二甲氧基娃焼、3-硫丙基甲基._?甲氧基娃焼、雙(二乙氧基娃基丙基)四硫化物、癸基二甲氧基娃焼、己基二乙氧基娃焼、或3-丙稀酸丙基二甲氧基娃焼。
3.如權利要求1所述的涂布組合物，其中所述(a)聚硅倍半氧烷為一具有公式(II)結構的化合物經聚合反應所得的產物
4.如權利要求3所述的涂布組合物，其中所述具有公式(II)結構的化合物與所述(b)具有公式(I)結構的化合物的重量比為0.1至10。
5.如權利要求3所述的涂布組合物，其中所述具有公式(II)結構的化合物為3-氯丙基二甲氧基硅烷、甲基二甲氧基硅烷、甲基二乙氧基硅烷、乙基二乙氧基硅烷、苯基二乙氧基硅烷、苯基二甲氧基硅烷、四甲氧基硅烷、或四乙氧基硅烷。
6.如權利要求1所述的涂布組合物，其中所述由(a)聚硅倍半氧烷與(b)具有公式(I)結構的化合物經化學反應所得的產物的重量平均分子量是大于4，000。
7.如權利要求1所述的涂布組合物，其中所述由(a)聚硅倍半氧烷與(b)具有公式(I)結構的化合物經化學反應所得的產物的灰分是大于或等于50%。
8.如權利要求1所述的涂布組合物，還包含: 一酸性或堿性化合物，使所述涂布組合物具有一 PH值小于或等于6、或大于或等于8。
9.如權利要求1所述的涂布組合物，還包含: 一染料或色料。
10.一種涂布組合物的制備方法，包含: 將一(a)聚硅倍半氧烷與一(b)具有公式(I)結構的化合物進行化學反應，得到一產物；
11.如權利要求10所述的涂布組合物的制備方法，還包含: 將具有公式(II)結構的化合物進行一聚合反應，得到所述(a)聚硅倍半氧烷；
12.如權利要求11所述的涂布組合物的制備方法，其中所述具有公式(II)結構的化合物為3_氣丙基二甲氧基硅烷、甲基二甲氧基硅烷、甲基二乙氧基硅烷、乙基二乙氧基硅烷、苯基二乙氧基硅烷、苯基二甲氧基硅烷、四甲氧基硅烷、或四乙氧基硅烷。
13.如權利要求11所述的涂布組合物的制備方法，其中所述具有公式(II)結構的化合物與(b)具有公式⑴結構的化合物的重量比為0.1至10。
14.如權利要求10所述的涂布組合物的制備方法，其中所述(b)具有公式(I)結構的化合物為2-(3，4-環氧環己基)乙基三甲基硅烷、3-甘油基丙基三甲氧基硅烷、3-甘油基丙基甲基二乙基硅烷氧、3-甘油基丙基三乙基硅烷氧、3-甲基丙烯酸基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酸基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酸基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酸基丙基二乙氧基硅烷、N-2-(胺乙基)-3_胺丙基甲基二甲氧基硅烷、N-2-(胺乙基)_3_胺丙基二甲氧基硅烷、3-胺丙基二甲氧基硅烷、3-胺丙基二乙氧基硅烷、N-苯基-3胺丙基二甲氧基硅烷、3-服基丙基二乙氧基硅烷、3-異氰酸丙基二乙氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、1氫，1氫，2氫，2氫-全氟辛烷基三乙氧基硅烷、氟已烷基1.1.2.2-四氫癸基二乙氧基硅烷、3-硫丙基二甲氧基硅烷、3-硫丙基甲基二甲氧基硅烷、雙(二乙氧基娃基丙基)四硫化物、癸基二甲氧基硅烷、己基二乙氧基硅烷、或3-丙稀酸丙基二甲氧基娃燒。
15.如權利要求10所述的涂布組合物的制備方法，還包括:在(a)聚硅倍半氧烷與(b)具有公式(I)結構的化合物進行化學反應的步驟中，加入一酸性或堿性化合物。
16.如權利要求10所述的涂布組合物的制備方法，在(a)聚硅倍半氧烷與(b)具有公式(I)結構的化合物進行化學反應的步驟后，還包含: 將所得的產物與一染料或色料混合。
17.—種膜層，其中所述膜層是由權利要求1所述的涂布組合物經一涂布制程后所形成。
18.如權利要求17所述的膜層，其中所述涂布制程為網印、旋轉涂布法、棒狀涂布法、刮刀涂布法、 滾筒涂布法、浸潰涂布法、噴涂、或刷涂。
【文檔編號】C08L83/08GK103897586SQ201210585040
【公開日】2014年7月2日 申請日期:2012年12月28日 優先權日:2012年12月26日
【發明者】黃元昌, 湯偉鉦, 簡淑云, 沈永清, 張義和, 陳哲陽 申請人:財團法人工業技術研究院