本發明屬于水處理，具體為一種半導體超純水加熱裝置及其使用方法。

背景技術：

1、半導體超純水，指的是經過精心處理達到極高純度的水，廣泛應用于半導體制造等尖端領域，在半導體生產的精細流程中，超純水的溫度需嚴格符合特定的工藝標準，通過加熱處理，可以確保超純水的溫度維持在精確的范圍之內，從而滿足生產過程中對精度和清潔度的嚴苛要求；

2、盡管當前的超純水已經歷了高度的凈化處理，去除了絕大多數的礦物質和雜質，但在加熱過程中，加熱箱內壁上仍有可能形成水垢，這些水垢不僅可能脫落并混入超純水中，污染其水質，還可能對加熱箱的內壁造成腐蝕與損害，進而引發加熱效率下降的問題。

技術實現思路

1、本發明的目的在于提供一種半導體超純水加熱裝置及其使用方法，以解決上述背景技術中提出的問題。

2、為了實現上述目的，本發明提供如下技術方案：一種半導體超純水加熱裝置，包括加熱箱，所述加熱箱的頂端安裝有頂蓋，所述頂蓋的頂端安裝有第一水管，所述第一水管遠離頂蓋的一端安裝有過濾結構，所述加熱箱的內部設置有加熱結構，所述加熱箱的內部設置有清理組件；

3、其中，所述清理組件包括設置在加熱箱內部的清理架，所述清理架的一側通過移動組件安裝有第一刷板，所述清理架的底端設置有第二刷板，所述清理架的頂端固定安裝有螺紋桿，所述螺紋桿嵌入在環形齒輪的內部，所述環形齒輪轉動安裝在頂蓋的內部，所述環形齒輪的一側嚙合連接有齒輪，所述齒輪的內部固定安裝有轉動軸，所述轉動軸的頂端安裝有馬達，所述清理架的內部設置有沖洗組件。

4、作為本發明進一步的技術方案，所述螺紋桿和環形齒輪之間通過內外螺紋配合連接。

5、作為本發明進一步的技術方案，所述移動組件包括固定安裝在第一刷板一側的移動板，所述移動板滑動安裝在清理架的內部，所述移動板的底端設置有第一彈簧，所述移動板的頂端固定連接有第一凸塊，所述第一凸塊的頂端嵌入在頂蓋的內部，所述頂蓋的內部固定安裝有第二凸塊，所述第二凸塊呈環形陣列均勻分布。

6、作為本發明進一步的技術方案，所述第一刷板的底端固定安裝有移動桿，所述移動桿的底端設置有楔塊，所述楔塊固定安裝在第二刷板的頂端，所述楔塊滑動安裝在清理架的內部，所述楔塊的一側設置有第二彈簧。

7、作為本發明進一步的技術方案，所述清理架的另一側安裝有第三刷板。

8、作為本發明進一步的技術方案，所述第三刷板的側壁固定安裝在移動板的一端。

9、作為本發明進一步的技術方案，所述沖洗組件包括開設在清理架內部的通孔，底端的一側固定連接有第二水管，所述第二水管安裝在連接管的外壁，所述連接管安裝在第一水管的底端。

10、作為本發明進一步的技術方案，所述第二水管的外壁安裝有抱箍。

11、作為本發明進一步的技術方案，所述第一水管和連接管之間轉動連接。

12、一種半導體超純水加熱裝置的使用方法，包括以下步驟：

13、s1：在需要對加熱箱的內壁進行清理維護時，首先將頂蓋從加熱箱的頂端拆下，然后將螺紋桿安裝至環形齒輪的內部，并通過抱箍將第二水管安裝在連接管的外壁，然后再將頂蓋重新安裝在加熱箱的頂端，最后通過plc控制馬達啟動，馬達的啟動帶動轉動軸的轉動，轉動軸的轉動帶動齒輪的轉動，齒輪的轉動帶動環形齒輪的轉動，環形齒輪的轉動經過螺紋桿帶動清理架在加熱箱的內部轉動，清理架的轉動帶動第一刷板、第二刷板和第三刷板轉動，對加熱箱內部的側面、加熱箱的底部以及加熱結構的外壁進行清理；

14、s2：當清理架在轉動的過程中，第一水管內水源經第一水管排入第二水管內，再進入清理架內，最后通過通孔排出，水源噴淋至加熱箱的側壁和加熱結構的外壁；

15、s3：當清理架在轉動的過程中帶動第一凸塊在頂蓋的內部中滑動，第一凸塊與第二凸塊接觸受力滑入清理架內，第一凸塊的移動帶動移動板移動，使移動板擠壓第一彈簧受力形變儲存彈性勢能，并通過其釋放彈性勢能使第一凸塊上下移動，從而使移動板上下移動，移動板的移動帶動第一刷板和第三刷板上下移動，使清理架在帶動第一刷板和第三刷板轉動的過程中，第一刷板和第三刷板同時上下移動進行清理；

16、s4：當第一刷板向下移動時，第一刷板的移動帶動移動桿移動，移動桿的底端與楔塊頂端接觸迫使楔塊在清理架內滑動，并通過第二彈簧的彈性配合使楔塊往復移動，楔塊的移動帶動第二刷板移動，從而使第二刷板對加熱箱底部清理時左右位移，對加熱箱的內部與加熱結構的外部全面清理；

17、s5：清理后，同理將頂蓋從加熱箱頂端拆下，再將清理架和第二水管拆下，完成維護。

18、本發明的有益效果如下：

19、1、本發明通過清理組件的設置，在需要對加熱箱的內壁進行清理時，通過plc控制馬達啟動，馬達的啟動帶動轉動軸的轉動，轉動軸的轉動帶動齒輪的轉動，齒輪的轉動帶動環形齒輪的轉動，環形齒輪的轉動經過螺紋桿帶動清理架在加熱箱的內部轉動，清理架的轉動帶動第一刷板和第二刷板轉動，對加熱箱內部的側面和底部進行清理，可以確保設備的使用壽命與熱傳遞效率。

20、2、本發明通過移動組件的設置，當清理架在轉動的過程中帶動第一凸塊在頂蓋的內部中滑動，第一凸塊與第二凸塊接觸受力滑入清理架內，第一凸塊的移動帶動移動板移動，使移動板擠壓第一彈簧受力形變儲存彈性勢能，并通過其釋放彈性勢能使第一凸塊上下移動，從而使移動板上下移動，移動板的移動帶動第一刷板上下移動，使清理架在帶動第一刷板轉動時，第一刷板同時上下移動，提高對加熱箱內壁水垢的清理效果。

21、3、本發明通過沖洗組件的設置，在對加熱箱的內壁進行清理時，將第二水管套在連接管的外壁上，使第一水管與第二水管連接，然后接通水源經第一水管排入第二水管內，再進入清理架內，最后通過通孔排出，水源噴淋至加熱箱的側壁和加熱結構的外壁，與第一刷板、第二刷板和第三刷板配合使用，可進一步提高清理效果，從而提高裝置的使用壽命與加熱效率。

技術特征：

1.一種半導體超純水加熱裝置，包括加熱箱(1)，其特征在于：所述加熱箱(1)的頂端安裝有頂蓋(2)，所述頂蓋(2)的頂端安裝有第一水管(5)，所述第一水管(5)遠離頂蓋(2)的一端安裝有過濾結構(4)，所述加熱箱(1)的內部設置有加熱結構(3)，所述加熱箱(1)的內部設置有清理組件；

2.根據權利要求1所述的一種半導體超純水加熱裝置，其特征在于：所述螺紋桿(10)和環形齒輪(11)之間通過內外螺紋配合連接。

3.根據權利要求1所述的一種半導體超純水加熱裝置，其特征在于：所述移動組件包括固定安裝在第一刷板(8)一側的移動板(17)，所述移動板(17)滑動安裝在清理架(7)的內部，所述移動板(17)的底端設置有第一彈簧(18)，所述移動板(17)的頂端固定連接有第一凸塊(15)，所述第一凸塊(15)的頂端嵌入在頂蓋(2)的內部，所述頂蓋(2)的內部固定安裝有第二凸塊(16)，所述第二凸塊(16)呈環形陣列均勻分布。

4.根據權利要求1所述的一種半導體超純水加熱裝置，其特征在于：所述第一刷板(8)的底端固定安裝有移動桿(20)，所述移動桿(20)的底端設置有楔塊(19)，所述楔塊(19)固定安裝在第二刷板(9)的頂端，所述楔塊(19)滑動安裝在清理架(7)的內部，所述楔塊(19)的一側設置有第二彈簧(21)。

5.根據權利要求1所述的一種半導體超純水加熱裝置，其特征在于：所述清理架(7)的另一側安裝有第三刷板(25)。

6.根據權利要求5所述的一種半導體超純水加熱裝置，其特征在于：所述第三刷板(25)的側壁固定安裝在移動板(17)的一端。

7.根據權利要求1所述的一種半導體超純水加熱裝置，其特征在于：所述沖洗組件包括開設在清理架(7)內部的通孔(22)，底端的一側固定連接有第二水管(23)，所述第二水管(23)安裝在連接管(6)的外壁，所述連接管(6)安裝在第一水管(5)的底端。

8.根據權利要求7所述的一種半導體超純水加熱裝置，其特征在于：所述第二水管(23)的外壁安裝有抱箍(24)。

9.根據權利要求7所述的一種半導體超純水加熱裝置，其特征在于：所述第一水管(5)和連接管(6)之間轉動連接。

10.一種半導體超純水加熱裝置的使用方法，該方法適用于上述權利要求1-9所述的一種半導體超純水加熱裝置，其特征在于，包括以下步驟：

技術總結
本發明屬于水處理技術領域，且公開了一種半導體超純水加熱裝置及其使用方法，包括加熱箱，加熱箱的頂端安裝有頂蓋，頂蓋的頂端安裝有第一水管，第一水管遠離頂蓋的一端安裝有過濾結構，加熱箱的內部設置有加熱結構，加熱箱的內部設置有清理組件，清理組件包括設置在加熱箱內部的清理架，清理架的一側通過移動組件安裝有第一刷板，清理架的底端設置有第二刷板，清理架的內部設置有沖洗組件，在需要對加熱箱的內壁進行清理時，通過PLC控制馬達啟動帶動環形齒輪的轉動，環形齒輪的轉動經過螺紋桿帶動清理架在加熱箱的內部轉動，清理架的轉動帶動第一刷板和第二刷板轉動，對加熱箱內部的側面和底部進行清理，可以確保設備的使用壽命與熱傳遞效率。

技術研發人員：溫建博
受保護的技術使用者：蘇州實鈞芯微電子有限公司
技術研發日：
技術公布日：2025/3/20