技術領域

本發明涉及一種非晶體二氧化硅處理劑及使用該處理劑處理污水的工藝和設備，屬于環境保護工藝及設備技術領域。

背景技術：

隨著人們生活水平的不斷提高，以及城市建設步伐的加快，生活污水和工業廢水的處理，已成為環境保護的重中之重，如不能及時有效處理，將嚴重威脅人類的生存環境。現有技術中的污水處理方法主要有下列兩種：

一、化學絮凝法

該方法對重金屬、磷、色度的去除效果較好，但對氨氮和有機物的去除效果則較差，并會因產生的大量污泥而造成二次污染。

二、生物法

生物法對有機污染物及氨氮、磷有良好的去除效果, 但對重金屬、SS、色度及有毒、有害物質的去除效果較差，尤其在濃度和溫度發生變化時，處理后的出水不能穩定達標，同時需要使用大量的化學絮凝劑才能完成污泥的脫水，這必然使脫水后的污泥不僅含有全部污染物，更含有毒、有害的化學絮凝劑，同樣造成嚴重的二次污染。

因此，為使出水能夠循環利用，實現污水資源化，達到零排放，并解決二次污染的問題，有必要研制新的污水處理劑以及相適應的處理設備和處理方法。

技術實現要素：

本發明的第一個目的在于提供一種非晶體二氧化硅處理劑。

本發明的第二個目的在于提供一種用非晶體二氧化硅處理劑處理污水的非晶體二氧化硅處理設備。

本發明的第三個目的在于提供一種使用非晶體二氧化硅處理劑處理污水的系統。

本發明的第四個目的在于提供一種用非晶體二氧化硅處理劑處理污水的方法。

本發明的第一個目的通過下列技術方案實現：一種非晶體二氧化硅處理劑，其特征在于它由非晶體二氧化硅與絮凝劑按下列質量比混合而得：非晶體二氧化硅 : 絮凝劑 = 6.5-7.9 : 3.5-2.1。

所述絮凝劑為聚合氯化鋁、硫酸鋁、三氯化鐵、聚丙烯酰胺中的一種或幾種，且幾種的混合均為任意質量比，具體種類的選擇視污水性質、污水主要成分的不同而具體確定。

所述絮凝劑還可為常用的無機絮凝劑或有機高分子絮凝劑，可根據不同的污水種類選擇不同的絮凝劑。

所述非晶體二氧化硅通過下列方法制得：將硅藻土磨細至-0.074mm，加水混合成質量濃度為30-45%的礦漿,在130-200轉/分的條件下擦洗20-25分鐘,再加水稀釋礦漿濃度至15-25%，在1440-2800轉/分的條件下分散2-5分鐘,同時按每噸原礦加入20-25克的量，加入分散劑，經一級分離，把硅藻土中的晶體二氧化硅雜質（石英砂等）分離去除；再經二級分離，使非晶體二氧化硅（硅藻）沉降，而硅藻土中的雜質：蒙托石、伊利石、高嶺石、水涓云母則隨水分離去除；沉降的非晶體二氧化硅（硅藻）經烘干后，得非晶體二氧化硅。

所述分散劑為六偏磷酸鈉、偏硅酸鈉、氫氧化鈉中的一種或幾種，且幾種的混合均為任意質量比。

所述一級、二級分離用的設備為常規多級分離機。

所述非晶體二氧化硅為含結晶水的蛋白石組成的硅藻，化學成分是非晶體二氧化硅，其結構是納米微孔。

所述非晶體二氧化硅中：非晶體二氧化硅比重為2.2-2.4，含量為65-85%，硅藻量占70-90%，晶體二氧化硅比重為2.6，含量為1-5%，鉛≦50 PPM， 砷≦6 PPM，燒損量≦5%，pH值 6-8，緊堆密度≦0.45。

所述硅藻土是用本申請人于1996年12月10日申請的專利號為96117368.8,名稱為“超低品位硅藻土純物理選礦方法及設備”的發明專利，或者于2001年2月22日申請的專利號為01107179.6,名稱為“超細微粒靜電分離選礦方法及其系統”的發明專利生產的產品。

本發明的第二個目的通過下列技術方案完成：一種非晶體二氧化硅處理設備，包括帶空腔的錐形殼體，其特征在于錐形殼體上部設有出水堰槽、底部設有排泥口，在空腔中心位置設有豎直進水管，該豎直進水管內部為一室，該豎直進水管的上端敞開、下端穿過錐形殼體底部向外延伸，在空腔中并位于豎直進水管外圍設有筒體，該筒體與豎直進水管之間為二室，該筒體的上端與錐形殼體頂部相連，下端與錐形殼體底部保持間距，筒體與錐形殼體壁之間為澄清池，混有非晶體二氧化硅處理劑的污水先送入一室再進入二室、之后從二室進入澄清池，污水流速會隨45⁰安息角的錐形殼體的截面積向上逐漸擴大的同時而逐漸降低，使非晶體二氧化硅處理劑在對污水中的污物進行吸附、絮凝的同時，在澄清池中形成非晶體二氧化硅的納米微孔過濾層，從而高效過濾污染物與水，讓濾過的水上升后經出水堰槽流出，而污染物形成的污泥則沉降到底部后由排泥口排出。

所述錐形殼體頂部設有堰槽，該堰槽包括大圈槽、中圈槽、小圈槽，在小圈槽與大圈槽之間設有徑向長條槽，在中圈槽與大圈槽之間設有徑向短條槽，且大圈槽、中圈槽、小圈槽、徑向長條槽、徑向短條槽相互連通，每條槽的兩側邊均設為齒邊。

所述錐形殼體壁的傾斜角為45-55度。

所述錐形殼體為圓錐形或多邊錐形。

本發明的第三個目的通過下列技術方案完成：一種用非晶體二氧化硅處理劑處理污水的系統，包括調節池、格柵、旋流沉砂設備、厭氧池、好氧池、鼓風機、消毒設備，儲泥池、儲水池等常規設備，以及非晶體二氧化硅處理設備，相互間的設置位置以及與用非晶體二氧化硅處理劑處理污水的設備的設置位置，均視污水種類的不同而具體確定。

本發明的第四個目的通過下列技術方案完成：一種用非晶體二氧化硅處理劑處理污水的方法，包括對污水pH值進行調節、對污水中漂浮物和粗砂進行分離、對污水進行好氧和厭氧處理或/和對污水進行消毒殺菌處理的常規步驟，其特征在于還包括對污水進行的下列非晶體二氧化硅處理：

A、將污水送入非晶體二氧化硅處理設備之前，按每噸污水投放20-100克的量，向污水中投入非晶體二氧化硅處理劑，該非晶體二氧化硅處理劑由下列質量比的組分混合而得：非晶體二氧化硅 : 絮凝劑 = 6.5-7.9 : 3.5-2.1；

B、將混合有非晶體二氧化硅處理劑的污水，以2-3m/s的流速送入非晶體二氧化硅處理設備的豎直進水管即一室中，再進入豎直進水管與筒體之間的二室中，最后進入澄清池中，使污水流速隨澄清池截面積的擴大而減慢至0.1-0.5mm/s，讓非晶體二氧化硅處理劑在對污水中的污染物充分吸附、絮凝的同時，在澄清池中自然形成非晶體二氧化硅鈉米微孔過濾層，從而過濾污染物和水,清水以0.1-0.5mm/s的上升速度上升后經過出水堰槽后從出水口溢出，污染物以0.5-1.5mm/s速度沉降至底部后，經排泥口排出。

所述污水在非晶體二氧化硅處理設備中的停留時間為3-5小時。

所述的非晶體二氧化硅處理至少為一次。

所述的對污水pH值進行調節，對污水中漂浮物和粗砂進行分離，對污水進行好氧、厭氧處理，對污水進行消毒、殺菌處理，以及對污水進行的非晶體二氧化硅處理的順序，視不同污水處理具體確定。

本發明具有下列優點和效果：

1、本發明提供的非晶體二氧化硅處理劑，為無毒、無害的污水處理劑，不僅具有靜電聚合即物理絮凝的作用，絮凝污水中的污染物，并且非晶體二氧化硅巨大的納米微孔的比表面積，能代替活性炭在污水處理中作深度吸附處理，使污水處理后無臭味；在處理器中形成的非晶體二氧化硅的納米微孔過濾層能替代微孔膜過濾，高效過濾污染物；另外，非晶體二氧化硅在生物池中形成生物載體，使微生物在非晶體二氧化硅的納米微孔表面富集的碳源上快速、高效繁殖；此外，非晶體二氧化硅還具有自動脫水的物理特性，在污泥脫水處理中無需添加有毒、有害的絮凝劑即可順利脫水，不產生二次污染，污泥能回收循環再利用。

2、本發明提供的非晶體二氧化硅處理劑對COD的去除率為（COD- BOD）×80至90%，可以把可生化性比值＜0.3的污水提高為可生化性比值＞0.5；

3、本發明提供的非晶體二氧化硅處理劑處理工藝產生的污泥量較現有污水處理方法減少50%；尤其是污泥中含有非晶體二氧化硅，可從中回收非晶體二氧化硅再利用，不產生二次污染。

4、本發明提供的非晶體二氧化硅處理劑及用其處理污水的工藝和設備，設備簡單，效率高，可以承建和改造生活污水、工業廢水處理廠及垃圾滲濾液，制造生活污水及工業廢水一體化處理設備。污水處理后出水達到并超過GB18918-2002一級A標準及國家規定的各排放標準，甚至達到地表水四、三類標準，實現污水資源化。處理后的污泥容易脫水，且無需添加任何化學絮凝劑，污泥可回收實現污泥資源化再利用。

附圖說明

圖1為本發明非晶體二氧化硅處理設備結構示意圖；

圖2為圖1的俯視圖；

圖3為本發明處理城市生活污水系統圖；

圖4為本發明處理工業廢水系統圖；

圖5為本發明處理高濃度廢水和垃圾滲濾液系統圖。

圖1、圖2中，1為非晶體二氧化硅處理設備的錐形殼體，11為出水口，12為錐形殼體，13為排污口，14為豎直進水管，其內為一室，15為筒體17下端的間隙，筒體17與豎直進水管14之間為二室18，16為堰槽，17為筒體，18為二室，19為澄清池，161為大圈槽，162為中圈槽，163為小圈槽，164為徑向長條槽，165為徑向短條槽。

圖3中，1為非晶體二氧化硅處理設備，2為好氧池，4為調節池和粗、細格柵，5為循環水池，6為儲泥池，7為鼓風機，8為消毒設備，9為出水疊水臺景觀或儲水池， 20為非晶體二氧化硅處理劑下料機，21為缺氧池，22為旋流沉砂池，23為污泥脫水機。

圖4中，1為非晶體二氧化硅處理設備，設置二臺，2為好氧池，3為調節池，4為粗、細格柵，5為循環水池，6為儲泥池，7為鼓風機，8為消毒設備，20為非晶體二氧化硅處理劑下料機，21、25為缺氧池。

圖5中，1為非晶體二氧化硅處理設備，設置二臺，2為好氧池，3為調節池，4為粗、細格柵，5為循環水池，6為儲泥池，7為鼓風機，8為消毒設備，10為加入非晶體二氧化硅處理劑后的攪拌機，20為非晶體二氧化硅處理劑下料機，21為缺氧池，23為污泥脫水機，24板框壓濾機。

上述圖3、圖4、圖5系統中，除非晶體二氧化硅處理設備1是本發明的創新結構外，其余均為常規設備。

具體實施方式

下面結合附圖及實施例對本發明做進一步描述。

實施例1

非晶體二氧化硅處理劑l按下列配比配制：非晶體二氧化硅:聚合氯化鋁=7:3。

非晶體二氧化硅處理劑11按下列配比配制：非晶體二氧化硅: 硫酸鋁=6.5: 3.5。

非晶體二氧化硅處理劑12按下列配比配制：非晶體二氧化硅: 三氯化鐵=6.9: 3.1。

非晶體二氧化硅處理劑2按下列配比配制：非晶體二氧化硅:硫酸鋁=7.9:2.1。

非晶體二氧化硅處理劑21按下列配比配制：非晶體二氧化硅: 聚合氯化鋁=7.1:2.9。

非晶體二氧化硅處理劑22按下列配比配制：非晶體二氧化硅: 三氯化鐵=7.5:2.5。

非晶體二氧化硅處理劑3按下列配比配制：非晶體二氧化硅 : 聚丙烯酰胺+聚合氯化鋁=6.5:3.5；其中：聚丙烯酰胺0.1+聚合氯化鋁3.4。

非晶體二氧化硅處理劑31按下列配比配制：非晶體二氧化硅 : 聚丙烯酰胺+三氯化鐵=6.9:3.1；其中：聚丙烯酰胺0.3+聚合氯化鋁2.8。

非晶體二氧化硅處理劑32按下列配比配制：非晶體二氧化硅 : 硫酸鋁+聚合氯化鋁=7:3；其中：聚丙烯酰胺0.5+聚合氯化鋁2.5。

上述非晶體二氧化硅經過下列方法制得：將硅藻原土變細至-0.074mm，加水擦洗制成30-45%濃礦漿,在130-200轉/分的ZCX型擦洗機內擦洗,再加水稀釋礦漿至15-25%濃度，送入1440-2800轉/分的XQT高速分散機內,同時按原礦重量加入專用分散劑。經常規的一級分離設備（由多層斜板構成），把硅藻原土中的晶體二氧化硅雜質（石英砂等）分離去除；在常規的二級分離設備（由多級分離板構成），把非晶體二氧化硅（硅藻）沉降在分離板上，把硅藻原土中的蒙托石、伊利石、高嶺石、水涓云母等雜質分離去除；把沉降在分離板上的非晶體二氧化硅（硅藻）烘干，在分級機上進行干法分級；獲得非晶體二氧化硅。

所述非晶體二氧化硅是含結晶水的蛋白石的硅藻，其結構是由非晶體二氧化硅組成的納米微孔。

所述非晶體二氧化硅中的非晶體二氧化硅（比重為2.2-2.4），65-85%，硅藻量占70-90%，其他雜質為：晶體二氧化硅（比重為2.6），占1-5%，鉛≦50 PPM， 砷≦6 PPM，燒損量≦5%，pH值 6-8，緊堆密度≦0.45。

所述硅藻土是用本申請人于1996年12月10日申請的專利號為96117368.8、名稱為“超低品位硅藻土純物理選礦方法及設備”的發明專利，或者于2001年2月22日申請的專利號為01107179.6、名稱為“超細微粒靜電分離選礦方法及其系統”的發明專利生產的產品。

實施例2

本發明提供的非晶體二氧化硅處理設備1，包括帶空腔的錐形殼體12，錐形殼體12上部設有出水堰槽16、底部設有排泥口13，在空腔中心位置設有豎直進水管14，該豎直進水管14內部為一室，該豎直進水管14的上端敞開、下端穿過錐形殼體12底部向外延伸，在空腔中并位于豎直進水管14外圍設有筒體17，該筒體17與豎直進水管14之間為二室，該筒體17的上端與錐形殼體12頂部相連，下端與錐形殼體1底部保持間距15，筒體17與錐形殼體12壁之間為澄清池19，如圖1，所述錐形殼體12頂部的出水堰槽16包括大圈槽161、中圈槽162、小圈槽163，在小圈槽163與大圈槽161之間設有八根徑向長條槽164，在中圈槽162與大圈槽161之間設有八根徑向短條槽165，且大圈槽161、中圈槽162、小圈槽163、徑向長條槽164、徑向短條槽165相互連通，每條槽的兩側邊均設為齒邊。所述錐形殼體1壁的傾斜角為45度。所述錐形殼體1為圓錐形。

實施例3

用非晶體二氧化硅處理劑及用其處理污水的工藝和設備處理生活污水，如圖3：

該生活污水的成份如下：CODcr220-420mg/L ,BOD₅ 110-230mg/L,

SS 220-410mg/L,總氮 33-50mg/L,氨氮26-41mg/L,總磷2-6mg/L，pH值6-9；

A、將污水提升至調節池4中，用格柵去除漂浮物，通過旋流沉砂池22去除粗砂后，污水進入缺氧池21；

B、將步驟A的污水在缺氧池21中停留3小時，用推流器把污水送入好氧池2，在好氧池2中用鼓風機7曝氣，停留6小時；好氧池2以100%的混合液回流比回流至缺氧池21；

C、在步驟Ｂ好氧池２出水進入非晶體二氧化硅處理設備１之前，泵前用非晶體二氧化硅處理劑下料機20，按每噸污水投放30克的量，投放非晶體二氧化硅處理劑1到好氧池２的出水中；

D、將步驟C的混合有非晶體二氧化硅處理劑1的污水，以2m/s的流速經一室進水管14送入二室18中、再進入澄清池19，使污水流速隨澄清池19截面積的擴大而減慢至0.4mm/s，讓非晶體二氧化硅處理劑在非晶體二氧化硅處理器１對污水中的污染物充分吸附、絮凝的同時，在澄清池19中自然形成非晶體二氧化硅鈉米微孔過濾層，從而過濾污染物和清水分開,清水以0.4mm/s的上升速度上升后經堰槽16從出水口11溢出，污染物以1mm/s速度沉降至底部后經排泥口13排出；污水在非晶體二氧化硅處理設備1中停留時間總共為3.3小時；

E、將步驟D的出水從出水疊水臺景觀9排出后，送入消毒設備8進行消毒、滅菌處理，或直接送入儲水池15儲存；

F、將步驟D排出的污泥100%回流至缺氧池21，使缺氧池21濃度增高至10000mg/L時開始排泥，缺氧池21中的濃度降低至7000mg/L時停止排泥，30天以上排一次污泥，污泥量比其他工藝減少50%；

G、步驟F放出的泥中，因非晶體二氧化硅具有靜電聚合（物理絮凝）作用，具有自動脫水的物理特性，污泥脫水時不加有毒有害的絮凝劑，污泥經脫水設備23脫水回收后可循環再利用。

處理后出水達到GB18918-2002一級A標準，COD_cr＜50mg/L ,BOD₅＜10mg/L, SS＜10mg/L,總氮＜15mg /L,氨氮＜5mg/L,總磷＜0.5mg/L,pH值7。

實施例4

用非晶體二氧化硅處理劑及用其處理污水的工藝和設備處理低濃度生活污水，如圖3：

該生活污水的成份如下：COD_cr 88mg/L ,BOD₅ 42mg/L, SS 32mg/L,總氮26.884mg/L,氨氮7.424mg/L,總磷0.966mg/L,PH值7.6；

A、將污水提升至調節池4中，用格柵去除漂浮物，通過旋流沉砂池22去除粗砂后，污水進入缺氧池21；

B、將步驟A的污水在缺氧池21中停留2小時，用推流器把污水送入好氧池2，在好氧池中用鼓風機7曝氣，停留4小時，好氧池2以100%的混合液回流比回流至缺氧池21；

C、在步驟Ｂ好氧池２出水進入非晶體二氧化硅處理設備１之前，泵前用非晶體二氧化硅處理劑下料機20，按每噸污水投放15克的量，投放非晶體二氧化硅處理劑2到好氧池２出水中；

D、將步驟C的混合有非晶體二氧化硅處理劑2的污水，以3m/s的流速經一室進水管14送入二室18中、再進入澄清池19，使污水流速隨澄清池19截面積的擴大而減慢至0.2mm/s，讓非晶體二氧化硅處理劑在非晶體二氧化硅處理器１中對污水中的污染物充分吸附、絮凝的同時，在澄清池19中自然形成非晶體二氧化硅鈉米微孔過濾層，從而過濾污染物和清水分開,清水以0.2mm/s的上升速度上升后經出水堰槽16從出水口11溢出，污染物以0.5mm/s速度沉降至底部后經排泥口13排出；污水在非晶體二氧化硅處理器1中停留時間總共為3.3小時；

E、將步驟D的出水從出水疊水臺景觀9排出后，送入消毒設備8進行消毒、滅菌處理，或直接送入儲水池15儲存；

F、將步驟D排出的污泥100%回流至缺氧池21，使缺氧池21濃度增高至10000mg/L時開始排泥，缺氧池21中的濃度降低至7000mg/L時停止排泥，30天以上排一次污泥，污泥量比其他工藝減少50%；

G、步驟F放出的泥中，因非晶體二氧化硅具有靜電聚合（物理絮凝）作用，具有自動脫水的物理特性，污泥脫水時不加有毒有害的絮凝劑，污泥經脫水設備23脫水回收后可循環再利用。

處理后出水達到GB18918-2002一級A標準，COD_cr ＜16mg/L，BOD₅＜5.5mg/L，SS＜9mg/L，總氮＜2.814mg/L，氨氮＜0.16mg/L，總磷＜0.374mg/L，PH值7.8。

實施例5

用非晶體二氧化硅處理劑處理工業廢水，如圖4：

該工業廢水的成份如下：CODcr＞1000mg/L ,BOD₅ ＜200mg/L,

SS ＞1000mg/L,總氮60mg/L,氨氮＞40mg/L,總磷＞6mg/L，pH值＜6或＞8；

A、將工業廢水提升至調節池4中，用格柵去除漂浮物，污水進入pH調節池3，用石灰調節pH至7-8；

B、從pH調節池3進入第一個非晶體二氧化硅處理設備1之前, 泵前用非晶體二氧化硅處理劑下料機20，按每噸污水投放50克的量投入非晶體二氧化硅處理劑3；

C、將步驟B的混合有非晶體二氧化硅處理劑3的污水，以3m/s的流速經一室進水管14送入二室18中、再進入澄清池19，使污水流速隨澄清池19截面積的擴大而減慢至0.4mm/s，讓非晶體二氧化硅處理劑在非晶體二氧化硅處理器１中對污水中的污染物充分吸附、絮凝的同時，在澄清池19中自然形成非晶體二氧化硅鈉米微孔過濾層，從而過濾污染物和清水分開,清水以0.4mm/s的上升速度上升后經出水堰槽16從出水口11溢出，污染物以1.5mm/s速度沉降至底部后經排泥口13排出；污水在非晶體二氧化硅處理器1中停留時間總共為5小時；

D、將步驟C的出水送入厭氧池25，厭氧池25出水進入厭氧池21，在厭氧池21中停留3-5小時，用推流器把污水送入好氧池2，在好氧池中用鼓風機7曝氣，停留6-10小時;好氧池2以100%的混合液回流比回流至缺氧池21；

E、步驟Ｄ的好氧池出水在進入第二個非晶體二氧化硅處理設備1之前, 按每噸污水投放50克的量投入非晶體二氧化硅處理劑3；

Ｆ、將步驟E的混合有非晶體二氧化硅處理劑3的工業廢水，以3m/s的流速經一室進水管14送入二室18中、再進入澄清池19，使污水流速隨澄清池19截面積的擴大而減慢至0.4mm/s，讓非晶體二氧化硅處理劑在第二個非晶體二氧化硅處理器１中對污水中的污染物充分吸附、絮凝的同時，在澄清池19中自然形成非晶體二氧化硅鈉米微孔過濾層，從而過濾污染物和清水分開,清水以0.4mm/s的上升速度上升后經出水堰槽16從出水口11溢出，污染物以1.5mm/s速度沉降至底部后經排泥口13排出；污水在第二個非晶體二氧化硅處理器1中停留時間總共為５小時；

Ｇ、將步驟F的出水經消毒設備8進行消毒、滅菌后，送入儲水池9，從儲水池9排放或回用；

H、將步驟F排出的所有污泥100%回流至缺氧池21，缺氧池21中的濃度增高至10000mg/L時開始排泥，缺氧池21中的濃度降低至7000mg/L時停止排泥，污泥量比其他工藝減少50%；

I、步驟H放出的泥中，因非晶體二氧化硅具有靜電聚合（物理絮凝）作用，具有自動脫水的物理特性，污泥脫水時不加有毒有害的絮凝劑，污泥經脫水設備23脫水回收后可循環再利用。

處理后出水達到GB18918-2002一級A標準，COD_cr＜50mg/L ,BOD₅＜10mg/L, SS＜10mg/L,總氮＜15mg /L,氨氮＜5mg/L,總磷＜0.5mg/L,pH值6-9。

實施例6

用非晶體二氧化硅處理劑處理垃圾滲濾液，如圖5：

該垃圾滲濾液的成份如下：COD_cr 11400mg/L，BOD₅ 5350mg/L，SS 788mg/L,氨氮5350mg/L，細菌總數1500，糞大腸菌360

A、將垃圾滲濾液提升至調節池4中，按每噸垃圾滲濾液加入0.1公斤（100ppm）的量，在垃圾滲濾液中加入非晶體氧化硅處理劑4，之后送入板框式壓濾機24壓濾；

B、將步驟A的垃圾滲濾液送入pH調節池3 ，調節pH到8.5，用非晶體二氧化硅處理設備1的出水稀釋至COD＜2000mg/L；

C、步驟Ｂ的pH調節池3出水在進入第一臺非晶體二氧化硅處理設備１前，泵前用非晶體二氧化硅處理劑下料機20按每噸垃圾滲濾液加入0.1公斤（100ppm）的量，在垃圾滲濾液中加入非晶體氧化硅處理劑4；

D、將步驟C的混合有非晶體二氧化硅處理劑4的垃圾滲濾液，以2m/s的流速經一室進水管14送入二室18中、再進入澄清池19，使污水流速隨澄清池19截面積的擴大而減慢至0.1mm/s，讓非晶體二氧化硅處理劑在非晶體二氧化硅處理器１中對污水中的污染物充分吸附、絮凝的同時，在澄清池19中自然形成非晶體二氧化硅鈉米微孔過濾層，從而過濾污染物和污水分開,污水以0.1mm/s的上升速度上升后經出水堰槽16從出水口11進入厭氧池，污染物以1mm/s速度沉降至底部后經排泥口13排出；污水在非晶體二氧化硅處理器1中停留時間總共為5小時；

E、步驟D的出水送入厭氧池21中停留12小時后，經推流器把混合液送入好氧池2，在好氧池2中用鼓風機7曝氣，停留12小時，好氧池以100%的混合液回流比回流至缺氧池，經過好氧處理后的混合液用提升泵壓入第二個非晶體二氧化硅處理設備１；

F、步驟F混合液在用提升泵壓入第二個非晶體二氧化硅處理器１前，按每噸垃圾滲濾液加入0.1公斤（100ppm）的量，將非晶體二氧化硅處理劑4加入到垃圾滲濾液中；

G、將步驟F的混合有非晶體二氧化硅處理劑4的垃圾滲濾液，以2m/s的流速經一室進水管14送入二室18中、再進入澄清池19，使污水流速隨澄清池19截面積的擴大而減慢至0.1mm/s，讓非晶體二氧化硅處理劑在非晶體二氧化硅處理器１中對污水中的污染物再充分吸附、絮凝的同時，在澄清池19中自然形成非晶體二氧化硅鈉米微孔過濾層，從而過濾污染物和污水分開,污水以0.1mm/s的上升速度上升后經出水堰槽16從出水口11溢出，污染物以1mm/s速度沉降至底部后經排泥口13排出；污水在非晶體二氧化硅處理器1中停留時間總共為5小時；

H、將步驟G的出水送入消毒設備8進行消毒、滅菌后，送入儲水池9，回用到相應步驟中；

I、將步驟H排出的污泥100%回流至缺氧池21，生物池中的濃度增高至10000mg/L時開始排泥，生物池中的濃度降低至7000mg/L時停止排泥，污泥量比其他工藝減少50%；

J、步驟H放出的泥中，因非晶體二氧化硅具有靜電聚合（物理絮凝）作用，具有自動脫水的物理特性，污泥脫水時不加有毒有害的絮凝劑，污泥經脫水設備23脫水回收后可循環再利用。

處理后出水達到《生活垃圾填埋污染控制標準》GB16889-1997二級標準，COD_cr24.2mg/L ,BOD₅8.8mg/L, SS 8mg/L,氨氮23.4mg/L, 細菌總數0，糞大腸菌≤50。