本發(fā)明涉及硅酸鋁生產(chǎn),具體為一種硅酸鋁生產(chǎn)用反應(yīng)器。
背景技術(shù):
1、在硅酸鋁生產(chǎn)制造時(shí),需要使用反應(yīng)器進(jìn)行反應(yīng)沉淀,其中沉淀法應(yīng)用廣泛,其原料通常涉及將水玻璃和硫酸鋁分別稀釋并配制成一定濃度的溶液?,隨后進(jìn)行中和反應(yīng),生成硅酸鋁沉淀,經(jīng)過(guò)過(guò)濾、洗滌、干燥和粉碎等步驟,最終制得硅酸鋁產(chǎn)品,目前硅酸鋁生產(chǎn)用反應(yīng)器通常采用通用反應(yīng)器進(jìn)行反應(yīng),不便于實(shí)時(shí)測(cè)試反應(yīng)充分性,依賴人工使用試紙測(cè)試耗時(shí)耗力,也不便于進(jìn)行反推防浪費(fèi),影響經(jīng)濟(jì)性,?不便于分級(jí)控制在進(jìn)液穩(wěn)定后進(jìn)行沉淀工作,不便于實(shí)現(xiàn)連續(xù)進(jìn)液反應(yīng)沉淀,容易因?yàn)橐何换蝿?dòng)影響沉淀效果,同時(shí)沉淀物排放時(shí)不便于自動(dòng)控制暫停,人工在外部難以辨別沉淀物體量,容易排出大量反應(yīng)混合溶液,對(duì)沉淀物的含水率造成較大影響。
2、為此,我們提出一種硅酸鋁生產(chǎn)用反應(yīng)器。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本發(fā)明的目的在于提供一種硅酸鋁生產(chǎn)用反應(yīng)器,以解決上述背景技術(shù)中提出的目前硅酸鋁生產(chǎn)用反應(yīng)器不便于實(shí)時(shí)測(cè)試反應(yīng)充分性,依賴人工使用試紙測(cè)試耗時(shí)耗力,同時(shí)沉淀物排放時(shí)不便于自動(dòng)控制暫停的問(wèn)題。
2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種硅酸鋁生產(chǎn)用反應(yīng)器,包括反應(yīng)安裝件,所述反應(yīng)安裝件上安裝有穩(wěn)定檢測(cè)件,所述穩(wěn)定檢測(cè)件用于檢測(cè)溶液穩(wěn)定;所述穩(wěn)定檢測(cè)件上安裝有分級(jí)控制件;所述分級(jí)控制件用于控制穩(wěn)定的溶液沉淀;所述反應(yīng)安裝件上安裝有清液排放件;所述清液排放件用于排放沉淀后的清液;所述清液排放件上安裝有持續(xù)沉淀檢測(cè)件;所述持續(xù)沉淀檢測(cè)件用于檢測(cè)沉淀物;所述反應(yīng)安裝件底部安裝有防過(guò)度排放件;所述防過(guò)度排放件用于防過(guò)度排放;所述反應(yīng)安裝件包括:反應(yīng)罐和驅(qū)動(dòng)電機(jī),所述反應(yīng)罐底部設(shè)有四個(gè)支撐腿;所述反應(yīng)罐底部為弧形結(jié)構(gòu);所述反應(yīng)罐側(cè)面固定安裝有驅(qū)動(dòng)電機(jī),且驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出軸穿過(guò)反應(yīng)罐。
3、優(yōu)選的,所述反應(yīng)安裝件還包括:攪拌齒和進(jìn)液管,所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出軸上固定安裝有攪拌齒;所述反應(yīng)罐頂部固定安裝有兩個(gè)進(jìn)液管,且兩個(gè)進(jìn)液管分別用于外接原料管。
4、優(yōu)選的,所述穩(wěn)定檢測(cè)件包括:檢測(cè)隔板、排放管、球頭、擺動(dòng)軸、穩(wěn)定檢測(cè)板和排放電磁閥,所述檢測(cè)隔板固定安裝在反應(yīng)罐內(nèi)部;所述反應(yīng)罐上固定安裝有四個(gè)排放管;所述球頭轉(zhuǎn)動(dòng)套接在檢測(cè)隔板中部;所述球頭底部固定安裝有擺動(dòng)軸,且擺動(dòng)軸端部為弧形結(jié)構(gòu);所述球頭頂部固定安裝有穩(wěn)定檢測(cè)板,且穩(wěn)定檢測(cè)板為“十”字形結(jié)構(gòu);所述穩(wěn)定檢測(cè)板通過(guò)四個(gè)拉簧連接在檢測(cè)隔板上;四個(gè)所述排放管上分別安裝有排放電磁閥。
5、優(yōu)選的,所述分級(jí)控制件包括:分級(jí)控制罩、升降柱和穩(wěn)定開關(guān),所述分級(jí)控制罩螺紋連接在檢測(cè)隔板底部;所述分級(jí)控制罩內(nèi)部滑動(dòng)插接有升降柱;所述升降柱頂部為半球結(jié)構(gòu);所述升降柱頂部對(duì)齊擺動(dòng)軸;所述分級(jí)控制罩內(nèi)部固定安裝有穩(wěn)定開關(guān),且穩(wěn)定開關(guān)頂部貼于升降柱;所述升降柱底部連接有彈簧,且升降柱底部的彈簧位于穩(wěn)定開關(guān)外側(cè);所述穩(wěn)定開關(guān)電性連接四個(gè)排放電磁閥。
6、優(yōu)選的,所述清液排放件包括:排放盤管、排放單向閥、回流管和回流電磁閥,所述排放盤管固定安裝在反應(yīng)罐上;所述排放盤管端部安裝有排放單向閥;所述排放單向閥位于反應(yīng)罐內(nèi)部;所述排放單向閥位于檢測(cè)隔板下方;所述排放盤管s形折彎成型;所述排放盤管側(cè)面固定安裝有回流管;所述回流管上安裝有回流電磁閥;所述回流管位于檢測(cè)隔板上方。
7、優(yōu)選的,所述清液排放件還包括:端口電磁閥、壓縮氣瓶和氣瓶電磁閥,所述排放盤管的出口端安裝有端口電磁閥;所述排放盤管上固定安裝有壓縮氣瓶;所述壓縮氣瓶的出氣管連接在排放盤管上;所述壓縮氣瓶的出氣管位于靠近回流電磁閥的一側(cè);所述壓縮氣瓶的出氣管上安裝有氣瓶電磁閥。
8、優(yōu)選的,所述持續(xù)沉淀檢測(cè)件包括:支撐架、獨(dú)立開關(guān)和沉淀隔離濾塊,所述支撐架上設(shè)有一圈通孔;所述支撐架固定安裝在排放盤管上;所述支撐架上固定安裝有兩個(gè)獨(dú)立開關(guān);左側(cè)所述獨(dú)立開關(guān)用于控制氣瓶電磁閥和回流電磁閥常閉,右側(cè)所述獨(dú)立開關(guān)用于控制端口電磁閥常開;所述排放盤管上滑動(dòng)安裝有沉淀隔離濾塊,且沉淀隔離濾塊位于獨(dú)立開關(guān)上方;所述沉淀隔離濾塊和支撐架之間設(shè)有彈簧;所述沉淀隔離濾塊上設(shè)有過(guò)濾孔。
9、優(yōu)選的,所述防過(guò)度排放件包括:沉淀排放管、止擋環(huán)和沉淀電磁閥,所述沉淀排放管固定安裝在反應(yīng)罐底部;所述沉淀排放管內(nèi)部固定套接有止擋環(huán);所述沉淀排放管端部安裝有沉淀電磁閥。
10、優(yōu)選的,所述防過(guò)度排放件還包括:監(jiān)控安裝架、滑動(dòng)套筒和復(fù)位拉簧,所述沉淀排放管頂端固定安裝有監(jiān)控安裝架;所述監(jiān)控安裝架上設(shè)有一圈通孔;所述監(jiān)控安裝架底部固定安裝有滑動(dòng)套筒;所述滑動(dòng)套筒內(nèi)部套接有復(fù)位拉簧。
11、優(yōu)選的,所述防過(guò)度排放件還包括:止擋盤、開關(guān)架、封閉開關(guān)和電磁鐵,所述止擋盤頂部設(shè)有滑軸;所述止擋盤頂部滑軸滑動(dòng)安裝在滑動(dòng)套筒上;所述復(fù)位拉簧連接在止擋盤頂部滑軸與監(jiān)控安裝架之間;所述止擋盤彈性貼合止擋環(huán);所述沉淀排放管內(nèi)部固定安裝有開關(guān)架,且開關(guān)架上設(shè)有一圈通孔;所述開關(guān)架頂部固定安裝有封閉開關(guān),且封閉開關(guān)位于止擋盤下方;所述開關(guān)架上固定套接有電磁鐵;電磁鐵用于磁吸止擋盤;所述電磁鐵外接有控制開關(guān);所述封閉開關(guān)電性連接沉淀電磁閥;所述止擋盤上設(shè)有一圈槽孔。
12、與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果是:
13、本發(fā)明采用清液排放件便于實(shí)時(shí)測(cè)試反應(yīng)充分性,無(wú)需依賴人工使用試紙測(cè)試,耗時(shí)耗力,可以對(duì)排出的清液實(shí)時(shí)檢測(cè)其是否能繼續(xù)發(fā)生沉淀反應(yīng),結(jié)構(gòu)檢測(cè)直接高效,同時(shí)無(wú)需人工控制,可以便于工作人員及時(shí)對(duì)進(jìn)液速度進(jìn)行調(diào)控,同時(shí)可以進(jìn)行反推防浪費(fèi),提升經(jīng)濟(jì)性,降低沉淀物中可能夾雜有未反應(yīng)的物質(zhì)或其他雜質(zhì),提升沉淀物的純度和質(zhì)量。
14、采用分級(jí)控制件可以用于分級(jí)控制排放原料,避免直接排放原料時(shí),原料進(jìn)入反應(yīng)罐內(nèi)部時(shí)因?yàn)闆_擊力造成沉淀物被沖擊漂浮,影響沉淀質(zhì)量,同時(shí)利用穩(wěn)定檢測(cè)件可以用于檢測(cè)混合溶液穩(wěn)定后再進(jìn)行導(dǎo)通排放,可以保證沉淀物沉淀速度,進(jìn)液沖擊力過(guò)大還會(huì)影響沉淀的生成過(guò)程。
15、采用防過(guò)度排放件,可以實(shí)現(xiàn)控制沉淀物排放,及時(shí)排出沉淀物,避免沉淀物越積越多,可以避免沉淀物排放時(shí)未及時(shí)關(guān)閉,排出大量的溶液,造成浪費(fèi)的同時(shí),還容易造成過(guò)度排出的溶液混入排出的沉淀物,從而造成沉淀物濕度過(guò)大,對(duì)后續(xù)加工造成影響,可以利用沉淀物與溶液的壓力不同進(jìn)行控制,直接準(zhǔn)確。
1.一種硅酸鋁生產(chǎn)用反應(yīng)器,包括反應(yīng)安裝件(1),所述反應(yīng)安裝件(1)上安裝有穩(wěn)定檢測(cè)件(2),其特征在于:所述穩(wěn)定檢測(cè)件(2)用于檢測(cè)溶液穩(wěn)定;所述穩(wěn)定檢測(cè)件(2)上安裝有分級(jí)控制件(3);所述分級(jí)控制件(3)用于控制穩(wěn)定的溶液沉淀;
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅酸鋁生產(chǎn)用反應(yīng)器,其特征在于:所述反應(yīng)安裝件(1)還包括:攪拌齒(1021)和進(jìn)液管(103),所述驅(qū)動(dòng)電機(jī)(102)的輸出軸上固定安裝有攪拌齒(1021);所述反應(yīng)罐(101)頂部固定安裝有兩個(gè)進(jìn)液管(103),且兩個(gè)進(jìn)液管(103)分別用于外接原料管。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅酸鋁生產(chǎn)用反應(yīng)器,其特征在于:所述穩(wěn)定檢測(cè)件(2)包括:檢測(cè)隔板(201)、排放管(202)、球頭(203)、擺動(dòng)軸(2031)、穩(wěn)定檢測(cè)板(204)和排放電磁閥(205),所述檢測(cè)隔板(201)固定安裝在反應(yīng)罐(101)內(nèi)部;所述反應(yīng)罐(101)上固定安裝有四個(gè)排放管(202);所述球頭(203)轉(zhuǎn)動(dòng)套接在檢測(cè)隔板(201)中部;所述球頭(203)底部固定安裝有擺動(dòng)軸(2031),且擺動(dòng)軸(2031)端部為弧形結(jié)構(gòu);所述球頭(203)頂部固定安裝有穩(wěn)定檢測(cè)板(204),且穩(wěn)定檢測(cè)板(204)為“十”字形結(jié)構(gòu);所述穩(wěn)定檢測(cè)板(204)通過(guò)四個(gè)拉簧連接在檢測(cè)隔板(201)上;四個(gè)所述排放管(202)上分別安裝有排放電磁閥(205)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種硅酸鋁生產(chǎn)用反應(yīng)器,其特征在于:所述分級(jí)控制件(3)包括:分級(jí)控制罩(301)、升降柱(302)和穩(wěn)定開關(guān)(303),所述分級(jí)控制罩(301)螺紋連接在檢測(cè)隔板(201)底部;所述分級(jí)控制罩(301)內(nèi)部滑動(dòng)插接有升降柱(302);所述升降柱(302)頂部為半球結(jié)構(gòu);所述升降柱(302)頂部對(duì)齊擺動(dòng)軸(2031);所述分級(jí)控制罩(301)內(nèi)部固定安裝有穩(wěn)定開關(guān)(303),且穩(wěn)定開關(guān)(303)頂部貼于升降柱(302);所述升降柱(302)底部連接有彈簧,且升降柱(302)底部的彈簧位于穩(wěn)定開關(guān)(303)外側(cè);所述穩(wěn)定開關(guān)(303)電性連接四個(gè)排放電磁閥(205)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種硅酸鋁生產(chǎn)用反應(yīng)器,其特征在于:所述清液排放件(4)包括:排放盤管(401)、排放單向閥(402)、回流管(403)和回流電磁閥(4031),所述排放盤管(401)固定安裝在反應(yīng)罐(101)上;所述排放盤管(401)端部安裝有排放單向閥(402);所述排放單向閥(402)位于反應(yīng)罐(101)內(nèi)部;所述排放單向閥(402)位于檢測(cè)隔板(201)下方;所述排放盤管(401)s形折彎成型;所述排放盤管(401)側(cè)面固定安裝有回流管(403);所述回流管(403)上安裝有回流電磁閥(4031);所述回流管(403)位于檢測(cè)隔板(201)上方。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種硅酸鋁生產(chǎn)用反應(yīng)器,其特征在于:所述清液排放件(4)還包括:端口電磁閥(404)、壓縮氣瓶(405)和氣瓶電磁閥(406),所述排放盤管(401)的出口端安裝有端口電磁閥(404);所述排放盤管(401)上固定安裝有壓縮氣瓶(405);所述壓縮氣瓶(405)的出氣管連接在排放盤管(401)上;所述壓縮氣瓶(405)的出氣管位于靠近回流電磁閥(4031)的一側(cè);所述壓縮氣瓶(405)的出氣管上安裝有氣瓶電磁閥(406)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種硅酸鋁生產(chǎn)用反應(yīng)器,其特征在于:所述持續(xù)沉淀檢測(cè)件(5)包括:支撐架(501)、獨(dú)立開關(guān)(502)和沉淀隔離濾塊(503),所述支撐架(501)上設(shè)有一圈通孔;所述支撐架(501)固定安裝在排放盤管(401)上;所述支撐架(501)上固定安裝有兩個(gè)獨(dú)立開關(guān)(502);左側(cè)所述獨(dú)立開關(guān)(502)用于控制氣瓶電磁閥(406)和回流電磁閥(4031)常閉,右側(cè)所述獨(dú)立開關(guān)(502)用于控制端口電磁閥(404)常開;所述排放盤管(401)上滑動(dòng)安裝有沉淀隔離濾塊(503),且沉淀隔離濾塊(503)位于獨(dú)立開關(guān)(502)上方;所述沉淀隔離濾塊(503)和支撐架(501)之間設(shè)有彈簧;所述沉淀隔離濾塊(503)上設(shè)有過(guò)濾孔。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種硅酸鋁生產(chǎn)用反應(yīng)器,其特征在于:所述防過(guò)度排放件(6)包括:沉淀排放管(601)、止擋環(huán)(6011)和沉淀電磁閥(6012),所述沉淀排放管(601)固定安裝在反應(yīng)罐(101)底部;所述沉淀排放管(601)內(nèi)部固定套接有止擋環(huán)(6011);所述沉淀排放管(601)端部安裝有沉淀電磁閥(6012)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種硅酸鋁生產(chǎn)用反應(yīng)器,其特征在于:所述防過(guò)度排放件(6)還包括:監(jiān)控安裝架(602)、滑動(dòng)套筒(603)和復(fù)位拉簧(604),所述沉淀排放管(601)頂端固定安裝有監(jiān)控安裝架(602);所述監(jiān)控安裝架(602)上設(shè)有一圈通孔;所述監(jiān)控安裝架(602)底部固定安裝有滑動(dòng)套筒(603);所述滑動(dòng)套筒(603)內(nèi)部套接有復(fù)位拉簧(604)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的一種硅酸鋁生產(chǎn)用反應(yīng)器,其特征在于:所述防過(guò)度排放件(6)還包括:止擋盤(605)、開關(guān)架(606)、封閉開關(guān)(607)和電磁鐵(608),所述止擋盤(605)頂部設(shè)有滑軸;所述止擋盤(605)頂部滑軸滑動(dòng)安裝在滑動(dòng)套筒(603)上;所述復(fù)位拉簧(604)連接在止擋盤(605)頂部滑軸與監(jiān)控安裝架(602)之間;所述止擋盤(605)彈性貼合止擋環(huán)(6011);所述沉淀排放管(601)內(nèi)部固定安裝有開關(guān)架(606),且開關(guān)架(606)上設(shè)有一圈通孔;所述開關(guān)架(606)頂部固定安裝有封閉開關(guān)(607),且封閉開關(guān)(607)位于止擋盤(605)下方;所述開關(guān)架(606)上固定套接有電磁鐵(608);電磁鐵(608)用于磁吸止擋盤(605);所述電磁鐵(608)外接有控制開關(guān);所述封閉開關(guān)(607)電性連接沉淀電磁閥(6012);所述止擋盤(605)上設(shè)有一圈槽孔。